专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种五元双环化合的制备方法-CN201310672456.8有效
  • 叶伟平;徐俊烨;黄志宁;吴鸿翔;肖诗华;谢香兰;陈飞 - 广东莱佛士制药技术有限公司
  • 2013-12-12 - 2017-01-25 - C07D487/04
  • 本发明涉及有机合成领域,具体涉及一种五元双环化合的制备方法。一种五元双环化合的制备方法,包括以下步骤先将氨基醇进行氨基保护、羟基保护;然后与亚胺负离子进行取代反应;然后将所得产物用水合肼脱保护后得到一级胺;另一方面将进行氨基保护、羟基保护的氨基醇在碱性条件下形成三元环胺化合;然后将一级胺与三元环胺化合进行偶联反应;最后将偶联后的产物进行闭环反应得到五元双环化合。与现有的技术相比,本发明中五元双环化合及中间体的制备所用的原料廉价易得,工艺操作简单、不需要柱层析分离,利于放大生产,为制备手性及非手性的五元双环化合提供了一种便捷的途径。
  • 一种五元双环胍类化合物制备方法
  • [发明专利]一种用于硅抛光和清洗的溶液-CN200910052661.8无效
  • 杨春晓;王晨;荆建芬;蔡鑫元 - 安集微电子科技(上海)有限公司
  • 2009-06-08 - 2010-12-08 - C09G1/18
  • 该水溶液由水以及至少一种化合组成。溶液中不含有研磨颗粒。溶液中的化合可以为类或含有基的化合,酰胺类或含有酰胺基的化合,唑类或含有唑基的化合,脲类或含有脲基的化合,也可以是分子中同时含有官能团、唑官能团、脲官能团、以及酰胺官能团中的至少两种官能团的化合化合的混合该溶液中还可以包括硅的抑制剂和/或金属离子络合剂化合。采用该溶液对硅进行化学机械抛光或清洗,可以使得硅表面获得极低的表面粗糙度,极低的表面重金属离子含量,和极低的表面颗粒残留。
  • 一种用于抛光清洗溶液

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