专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]高稀释比和高稳定性的硅片化学机械抛光组合物-CN201210046522.6无效
  • 李薇薇 - 南通海迅天恒纳米科技有限公司
  • 2012-02-28 - 2012-08-01 - C09G1/02
  • 本发明提供了一种高稀释比和高稳定性的硅片化学机械抛光组合物,包括以下成分:磨料、盐、pH调节剂、螯合剂、活性剂和缓冲。本发明的高稀释比和高稳定性的硅片化学机械抛光组合物,具有如下技术效果:1)选用科学合理的缓冲,不盲目提高抛光组合物的pH,抛光过程中pH值变化幅度小,抛光后,硅片表面质量较好,没有表面划伤以及其他缺陷;2)在配制抛光组合物时,增加稳定硅溶胶粒子的物质,可使抛光组合物在配制过程中粒子间保持高度的平衡;增加特定缓冲可增加稀释液的pH缓冲性能,使得抛光组合物pH维持在一定的水平,稳定抛光速率;3)抛光组合物配制工艺简单
  • 稀释稳定性硅片化学机械抛光组合

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