专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]微晶片的返工处理方法-CN202310245671.3在审
  • 储凡;余义;高永强 - 通威太阳能(安徽)有限公司
  • 2023-03-09 - 2023-05-12 - H01L21/02
  • 所述微晶片包括硅片、以及依次层叠于所述硅片表面上的本征非晶硅薄膜和微晶硅薄膜,并将所述微晶片在320℃~380℃的温度下进行预处理,使所述微晶硅薄膜中的晶粒松动错位,得到微晶片中间体;采用含有第一碱性试剂的第一处理液对所述微晶片中间体进行第一次处理,去除所述微晶片中间体中的本征非晶硅薄膜和微晶硅薄膜,得到第一硅片前体;采用含有第二碱性试剂的第二处理液对所述第一硅片前体进行第二次处理,修复所述第一硅片前体的表面,得到第二硅片前体;以及对所述第二硅片前体进行制绒
  • 晶片返工处理方法
  • [实用新型]皮革抛光机-CN201620597071.9有效
  • 孟勇 - 辛集市海洋皮革有限公司
  • 2016-06-17 - 2017-01-18 - D06N3/00
  • 本实用新型属于皮革加工机械技术领域,提出的皮革抛光机,包括送料系统和设置在送料系统之间的抛光系统和喷水管,抛光系统包括拋辊组和精辊组,拋辊组和精辊组均包括气缸控制其上下移动的抛光辊,抛光辊轴上设置有随抛光辊一同上下移动的吸尘器,吸尘器吸尘口位于抛光辊高度的1/3~1/2之间,且与抛光辊长度相同,拋辊组设置在精辊组前方,拋辊组和精辊组之间有间隔;喷水管包括若干支管,支管设置在两个相邻的抛光辊之间,且其上设有温度传感器和电磁阀
  • 皮革抛光机
  • [实用新型]一种怀炉外壳金属表面抛光装置-CN201620387807.X有效
  • 许玉昆 - 天津康乐产业有限公司
  • 2016-04-29 - 2016-11-23 - B24C1/08
  • 本实用新型公开了一种怀炉外壳金属表面抛光装置,包括沙箱,所述沙箱两侧中央分别开设有入口和出口,所述入口和出口位于同一水平面上,沙箱内部设有两组风幕机,每组风幕机包括两个风口相对的风机,其中一组风幕机位于沙箱内部入口处,另一组风幕机位于沙箱外部出口处,本装置通过设置由若干上输送辊和若干下输送辊组成的输送辊组,并在输送辊组上下两侧设置沙器,使金属板两面能够同时进行表面抛光处理,提高加工效率,并且通过两组风幕机和毛刷的设置,对金属板表面进行清灰处理并在金属板从出口送出时进行干刷,提高沙效果,并避免沙器抛出的沙石嵌在金属板上,使加工完成的金属板表面无附着物。
  • 一种外壳金属表面抛光装置
  • [发明专利]一种磷化铟抛光药液及抛光方法-CN202310114774.6在审
  • 吕春富;王卿伟;童三红;胡文青;宋志强 - 中锗科技有限公司
  • 2023-02-15 - 2023-06-27 - C09G1/02
  • 本发明公开了一种磷化铟抛光药液及抛光方法,一种磷化铟抛光药液,包括配合使用的药液1和精药液2;药液1由三氯异氢尿酸、二氧化硅磨料A和高纯水组成,其中,三氯异氢尿酸、二氧化硅磨料A和高纯水的重量比为(18‑36):(80‑120):(3000‑5000);精药液2由三氯异氰尿酸、有机酸、二氧化硅磨料B、高纯水和酸性活性剂苯磺酸钠,其中,有机酸为苹果酸、乳酸或柠檬酸中的至少一种,三氯异氰尿酸、有机酸本发明液成分简单,原料中有效成分用量少,去除效率高,有效提高了生产效率,降低了生产成本,提高了抛光质量,降低了对外企的依赖。
  • 一种磷化抛光药液方法
  • [发明专利]一种水晶玻璃自动磨-CN201910382662.2有效
  • 徐建方;章平;魏星 - 佛山市顺德区富高玻璃机械有限公司
  • 2019-05-09 - 2020-06-16 - B24B27/00
  • 本发明涉及水晶玻璃磨加工技术领域。一种水晶玻璃自动磨机,包括机架、第一传送装置、第二传送装置、倒边磨装置、倒边精磨装置、抛光装置和翻转装置;第一传送装置和第二传送装置分别设置在机架的前侧和后侧;第一传送装置和第二传送装置分别用于输送传递水晶玻璃物料;倒边磨装置、倒边精磨装置和抛光装置分别设置在机架上,倒边磨装置、倒边精磨装置和抛光装置分别用于对第一传送装置和第二传送装置上的水晶玻璃物料前后两侧进行倒边打磨和倒边抛光;翻转装置设置在机架的一侧,本发明的有益效果是提高倒边磨精度,确保倒边磨质量以及倒边提升磨效率。
  • 一种水晶玻璃自动磨抛机
  • [实用新型]丝筒流化床系统-CN201220406528.5有效
  • 王斌;齐建设;杨秋波;李延强 - 襄阳申冠机电技术有限公司
  • 2012-08-16 - 2013-04-03 - A24C5/39
  • 本实用新型的名称为丝筒流化床系统。属于卷烟机技术领域。它主要是解决现有卷烟机丝筒堵塞和烟丝层不均匀的问题。它的主要特征是:包括丝筒、烟丝输送通道、弹丝辊和钩子辊,烟丝输送通道环绕并与丝筒形成一体,烟丝输送通道一侧端与弹丝辊和钩子辊相接,另一侧包括向上的吸丝道及向下的二次风选通道、落梗通道、漂浮室;所述丝筒为不旋转的实心筒本实用新型具有使整个烟丝层更加均匀一致、降低烟丝造碎率、提高烟支质量的特点,主要用于卷烟机上钩子辊与吸丝道之间的烟丝输送系统。
  • 抛丝筒流化床系统
  • [发明专利]一种降低硅抛光片表面粗糙度的加工方法-CN201611213829.5有效
  • 史训达 - 有研半导体材料有限公司
  • 2016-12-23 - 2020-07-10 - H01L21/304
  • 该方法包括利用抛光布、抛光液对硅片进行化学机械抛光处理的过程,该过程包括过程、中过程和精过程;过程、中过程和精过程分别按四个阶段进行,其中,中过程的第一至第二阶段采用研磨剂为粒径在20‑200纳米的SiO2颗粒的碱性抛光液B,该抛光液中所含SiO2胶体与去离子水的体积比为1∶(15‑40);中过程第三阶段采用研磨剂为粒径在3‑50纳米的SiO2颗粒的碱性抛光液C,该抛光液中所含SiO2胶体与去离子水的体积比为1∶(30‑100);中过程的各阶段温度控制在
  • 一种降低抛光表面粗糙加工方法
  • [发明专利]一种弧面抛光机-CN201310692328.X有效
  • 张必葵 - 浦江联力机械有限公司
  • 2013-12-16 - 2014-04-02 - B24B29/02
  • 本发明涉及一种锁具加工设备,一种弧面抛光机,该弧面抛光机的分度盘装在底板上,数控电机电动轴齿轮带动分度盘转动,分布盘上的工件钳口内用于固定锁体工件,磨拖板控制抛光轮向分度盘靠拢或分开,在加工过程中,工人在分度盘外侧的工件钳口上将已经精磨好的锁体工件取下并换上未加工的锁体工件,分度盘带动锁体工件转动,转动过程中进行磨和精磨,机械化完成整个磨过程,大大降低了劳动强度、节省了生产时间,提高了生产质量同时,由于分度盘内侧的工件钳口处于装置和精装置之间,如果锁体工件在该工件钳口上滑落,人工调整非常麻烦且十分危险,该装置内的工件挡板保护锁体工件在磨和精磨之间不滑落,确保安全。
  • 一种抛光机
  • [发明专利]一种热轧带钢防止轧机高速钢的轧制工艺-CN201210396641.4有效
  • 董跃敏 - 唐山国丰钢铁有限公司
  • 2012-10-18 - 2013-01-30 - B21B1/26
  • 本发明涉及一种热轧带钢防止轧机高速钢的轧制工艺,属于冶金行业轧钢工艺技术领域。技术方案是:其特征在于包括如下步骤:步骤一:计算轧末道板坯是否为短尺坯的临界长度S=S1-S2+S3+k,;步骤二:确定末道板坯尾部降速点位置;S4=S2-k-S3,步骤三:当轧末道板坯实际长度小于临界长度S,且末道板坯实际尾部位置等于末道板坯尾部降速点位置S4时,或当轧末道板坯实际长度大于或等于临界长度S,且末道板坯实际头部位置等于末道板坯头部降速点位置S1时,末道板坯开始减速,从末道板坯轧制速度降到热卷穿带速度,直至末道板坯尾部钢。本发明的积极效果是:能够准确控制轧机末道板坯减速点位置和速度,防止出现轧机在高速状态下钢的情况,减少对轧机及其相连接设备的影响,确保设备完好,保证正常生产。
  • 一种热轧带钢防止轧机高速轧制工艺
  • [发明专利]废工艺-CN200910042505.3无效
  • 黄光洪;马士强;彭雪清;陈正军 - 长沙有色冶金设计研究院
  • 2009-01-15 - 2009-07-08 - B03B7/00
  • 本发明公开了一种废工艺,其包括下列步骤:①经过破碎的原矿的粒度达到20mm后,破碎后的矿石经过预先湿式筛分,分出小于或等于3mm的细粒级产品和3-20mm的粒级产品,该小于或等于的细粒级产品脱水后直接进入下阶段选矿;②上述3-20mm的粒级产品进入跳汰设备,根据矿物组成和堪布情况,利用跳汰设备分出轻产品即废石和重产品,该重产品在跳汰设备的底部排出;③从跳汰设备底部排出的重产品通过脱水装置脱除水份后进入下阶段选矿
  • 粗粒抛废工艺

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