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[实用新型]等离子体发生器和生发梳-CN202023171041.7有效
发明人：雷晓兵;黄上快 -专利权人：深圳半岛医疗有限公司
申请日： 2020-12-24 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： A61N1/44 文献下载
摘要：本实用新型公开一种等离子体发生器和生发梳，其中，等离子体发生器包括壳体及等离子体发生组件，壳体包括相连的手柄部及工作部；等离子体发生组件设于工作部上；其中，手柄部上设置有外露的导电件，导电件与等离子体发生组件电连接上述等离子体发生器能提高等离子体发生组件输出的电离能的能量。
等离子体发生器生发

[发明专利]浸没式等离子体室-CN200880002563.7无效
发明人：肯尼思·S·柯林斯;安德鲁·阮;卡提克·雷马斯瓦米;塙广二;道格拉斯·A·小布赫伯格;丹尼尔·J·霍夫曼;埃米尔·阿尔-巴亚提 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2008-01-15 - 公布日： 2009-11-18 - 主分类号： C23C16/00 文献下载
摘要：此处所述的实施方式大体上提供一环形等离子体源、一等离子体通道装置、一喷头及一基板支撑组件以用于一等离子体室中。环形等离子体源、等离子体通道装置、喷头及基板支撑组件适于改善等离子体室的可用寿命，降低组件成本，增加等离子体室可靠度及改善经处理的基板上的元件良率。
浸没等离子体

[发明专利]成膜装置及成膜方法-CN200480000795.0无效
发明人：能势功一;笹川孝市;古塚毅士;泷川志朗;小泉康浩 -专利权人：新明和工业株式会社
申请日： 2004-05-25 - 公布日： 2005-11-23 - 主分类号： C23C14/12 文献下载
摘要：本发明的成膜装置及方法是由HF电源(11)对背面配置有永久磁铁(10)的阴极(5)提供高频电压，使其产生反应模式的等离子体，使用该等离子体进行等离子体聚合成膜。又，调整真空室(1)内的等离子体源气体的压力，产生金属模式的等离子体而非反应模式的等离子体，使用该等离子体，使作为溅射靶的阴极(5)溅射，进行磁控溅射成膜。
装置方法

[发明专利]一种座椅式等离子体治疗装置-CN202210161100.7在审
发明人：邹宇汉;宋鹏飞;李毅;杨锡信;赵国柱;赵龙;杨金华 -专利权人：烟台海灵健康科技有限公司
申请日： 2022-02-22 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： A61N1/44 文献下载
摘要：本发明涉及等离子体医疗器械技术领域，具体公开了一种座椅式等离子体治疗装置，该座椅式等离子体治疗装置包括座椅系统、等离子发生器以及控制系统，治疗工位设置在座椅系统的底座上，外壳罩设在治疗工位外，治疗工位部分露出外壳，等离子发生器用于产生治疗用的等离子体气流，等离子体气流能够到达治疗工位，控制系统能够调节等离子发生器产生的等离子体气流的流量和温度，从而对患处进行精准治疗。本发明利用等离子体发生器以空气作为工作介质，直接电离产生等离子体气流，并将等离子体气流送至治疗工位，保证了治疗点的温度安全和治疗的有效性，具有实用方便、用途广泛、医用价值高等优点。
一种座椅等离子体治疗装置

[发明专利]等离子体产生系统-CN201780089052.2有效
发明人：神藤高广;池户俊之 -专利权人：株式会社富士
申请日： 2017-04-04 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： H05H1/00 文献下载
摘要：本发明提供能够更准确地计测出向被处理体照射的等离子体气体的实际温度的等离子体产生系统。等离子体产生系统具备：照射头，向设于反应室的电极供给电力而产生使处理气体等离子体化的等离子体气体，并将产生的等离子体气体向被处理体照射；及温度传感器，检测等离子体气体的温度，并输出与检测出的温度对应的检测信号温度传感器配置在从照射头的照射等离子体气体的照射口离开的位置，并由照射头照射等离子体气体。照射头构成为能够在被处理体与温度传感器之间移动。
等离子体产生系统

[发明专利]等离子体发射方向控制装置、等离子体源及其启动方法-CN202111081909.0在审
发明人：刘伟基;吴秋生;冀鸣;赵刚;易洪波 -专利权人：中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司
申请日： 2021-09-15 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： H01J37/147 文献下载
摘要：本申请涉及一种等离子体发射方向控制装置、等离子体源及其启动方法，所述装置包括：应用于等离子体源，所述等离子体源包括：电离腔室、射频线圈以及供气管路；其中，所述电离腔室一侧连接离子发射口；所述控制装置包括：设于在所述离子发射口位置处的阳极，以及连接所述阳极的阳极电源；所述阳极电源向所述阳极提供正极电，驱动所述阳极产生电场，所述等离子体在所述电场的作用下按设定发射角度进行发射；该技术方案，可以控制等离子体的发射角度和覆盖范围，克服了等离子体发射位置固定的缺陷，从而提升了对等离子体发射角度的可控性，等离子体均匀性好，增强了等离子体源的镀膜使用效果。
等离子体发射方向控制装置及其启动方法

[发明专利]等离子体产生装置、等离子体外科手术装置以及等离子体外科手术装置的应用-CN200680030194.3有效
发明人： N·苏斯洛夫 -专利权人：普拉斯马外科股份公司;普拉斯马外科投资有限公司
申请日： 2006-07-07 - 公布日： 2008-08-13 - 主分类号： H05H1/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种等离子体产生装置，它包括阳极、阴极和等离子体槽道，该等离子体槽道沿它的纵向方向至少部分在所述阴极和所述阳极之间延伸。阴极的、指向阳极的端部有朝着阳极渐缩的阴极顶端，所述阴极顶端的一部分在与等离子体槽道连接的等离子体腔室的一部分长度上延伸。等离子体腔室有与等离子体槽道的纵向方向横切的截面表面，该截面表面超过等离子体槽道的最靠近阴极的开口的、与等离子体槽道的纵向方向横切的截面表面。本发明还涉及等离子体外科手术装置和该等离子体外科手术装置的应用。
等离子体产生装置外科手术以及应用

[发明专利]等离子体清洗方法-CN201310122224.5在审
发明人：桑宁波;周军 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2013-04-09 - 公布日： 2013-07-24 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种等离子体清洗方法，包括：执行远程等离子体清洗；执行氮气射频原位等离子体清洗；执行保护膜沉积。本发明等离子体清洗方法中采用远程等离子体清洗和氮气射频原位等离子体清洗组合的方式进行清洗，大大改善了晶片的背面被金属铝污染的问题。
等离子体清洗方法

[发明专利]等离子体产生装置-CN201880004923.0有效
发明人：李孝昶;金贞衡;成大鎭 -专利权人：韩国标准科学研究院
申请日： 2018-01-02 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：根据本发明实施方案的等离子体产生装置包括等离子体产生单元。所述等离子体产生单元具有球形或椭圆形空腔。所述等离子体产生单元通过接收RF功率使电子反弹和共振而在所述空腔中产生等离子体。所述空腔包括等离子体引出孔，使得所述空腔与外部空间连通。
等离子体产生装置

[发明专利]一种远区等离子体喷枪装置-CN201310720521.X无效
发明人：王红卫;沈文凯 -专利权人：苏州市奥普斯等离子体科技有限公司
申请日： 2013-12-24 - 公布日： 2014-04-23 - 主分类号： H05H1/26 文献下载
摘要：本发明涉及一种远区等离子体喷枪装置，包括绝缘空心套管、至少两个均匀设置的等离子体喷枪，等离子体喷枪之间设有绝缘体，等离子体喷枪和所述绝缘体的长度小于绝缘空心套管使得形成等离子体放电区，在一个绝缘空心套管中设有多个等离子体喷枪，能较大面积进行气体放电产生等离子体，多个等离子体喷枪均匀分布设置，能使放电区产生全面且均匀的等离子体，在普通的大气环境下也能工作，本装置使得待处理物料在远区也能被更好地处理材料，使得材料表面改性处理效果较好
一种等离子体喷枪装置

[实用新型]一种远区等离子体喷枪装置-CN201320856918.7有效
发明人：王红卫;沈文凯 -专利权人：苏州市奥普斯等离子体科技有限公司
申请日： 2013-12-24 - 公布日： 2014-05-28 - 主分类号： H05H1/26 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种远区等离子体喷枪装置，包括绝缘空心套管、至少两个均匀设置的等离子体喷枪，等离子体喷枪之间设有绝缘体，等离子体喷枪和所述绝缘体的长度小于绝缘空心套管使得形成等离子体放电区，在一个绝缘空心套管中设有多个等离子体喷枪，能较大面积进行气体放电产生等离子体，多个等离子体喷枪均匀分布设置，能使放电区产生全面且均匀的等离子体，在普通的大气环境下也能工作，本装置使得待处理物料在远区也能被更好地处理材料，使得材料表面改性处理效果较好
一种等离子体喷枪装置

[发明专利]等离子体处理方法和等离子体蚀刻方法-CN200580023034.1有效
发明人：星野恭之;寒川诚二 -专利权人：昭和电工株式会社;国立大学法人东北大学
申请日： 2005-07-06 - 公布日： 2007-06-13 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明开发一种等离子体处理的方法，该等离子体处理使用没有温室效应的气体，以实现全球环境保护和等离子体工艺性能的改进，并提供一种可抑制器件损坏的高精度等离子体蚀刻方法。根据本发明的等离子体处理方法包括下面步骤：将含有氟气(F₂)的处理气体馈入等离子体生成腔，交替地重复施加停止施加高频电场，以生成等离子体，和通过将等离子体辐射到衬底来进行衬底处理。此外，衬底处理可如下进行，单独或交替地从等离子体中获取阴离子或阳离子，或者选择性地只获取阴离子，将其中和，以生成中性束并将中性束辐射到衬底。
等离子体处理方法蚀刻

[发明专利]一种低温等离子体处理医疗废水的装置及方法-CN201810322020.9在审
发明人：黄青;张启富;魏星;张宏;柯志刚 -专利权人：芜湖华鹿环保科技有限公司
申请日： 2018-04-11 - 公布日： 2018-10-12 - 主分类号： C02F1/46 文献下载
摘要：本发明公开了一种低温等离子体处理医疗废水的装置及方法，装置包括有低温等离子体电源、等离子体放电反应器、集水池和供气系统，低温等离子体电源与等离子体放电反应器连接，等离子体放电反应器设置于供气系统的集气罩内，等离子体放电反应器的高压电极对集气罩内的氧气进行等离子体放电生成臭氧，最后臭氧对集水池内的医疗废水进行处理。本发明采用介质阻挡放电技术产生低温等离子体，低温等离子放电产生的高能电子、紫外光和臭氧等对医疗废水进行降解，具有降解效率高，无二次污染等优点。
等离子体放电医疗废水反应器臭氧低温等离子体处理低温等离子体电源供气系统集气罩集水池低温等离子体介质阻挡放电低温等离子无二次污染紫外光高能电子高压电极降解效率放电降解氧气

[发明专利]一种等离子体活性增强法及发生装置-CN201811530415.4有效
发明人：熊紫兰;罗康;韩睿;朱宇 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2018-12-14 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体光子聚焦法及发生装置，核心为在等离子体发生装置的等离子体发生端增加或者设计有聚焦等离子对应光波的聚焦单元，该聚焦单元设置为凹面反射镜，在反射镜的内侧可涂覆有金属膜或介质膜，使产生的等离子体在反射镜的作用下聚焦在反射镜焦点附近的区域，减小等离子体产生后向四周辐射造成的能量损耗，同时聚焦在焦点区域的等离子体密度较大，等离子体包含的光子、原子及分子等相互碰撞的几率增大，促进了等离子体间物理化学的反应，进而增强等离子体的活性。
一种等离子体活性增强发生装置

[发明专利]等离子体约束装置-CN200610116449.X有效
发明人：倪图强;陈金元;钱青;付越虹;徐朝阳;周旭升;王晔 -专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2006-09-22 - 公布日： 2008-03-26 - 主分类号： H05H1/03 文献下载
摘要：一种用于等离子体处理装置的等离子体约束装置，其设置于所述等离子体处理装置的处理区域和排气区域之间。所述等离子约束装置具有导电元件，所述导电元件形成有若干个通道，以便控制用过的反应气体及副产品气体的排出并且当其中的带电粒子通过时将它们电中和，从而将等离子体放电基本约束在处理区域以内。所述等离子体约束装置还包括电气接地元件，设置于所述导电元件下方并与所述导电元件相互电绝缘。本发明的等离子体约束装置能够有效减少等离子体处理装置处理区域外的不希望的等离子体的形成，从而解决等离子体处理装置腔体污染问题。
等离子体约束装置