专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果5035582个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [实用新型]一种磁场增强的等离子-CN201120062558.4无效
  • 郑顺奇;齐伟光;倪杨 - 宁波表面工程研究中心
  • 2011-03-11 - 2012-01-04 - H05H1/26
  • 一种磁场增强的等离子枪,其包括一个绝缘容器,所述绝缘容器具有气体导入口以及与所述气体导入口相对的尖端开口作为气体导出口,绝缘容器内部配置有电极,所述电极与所述绝缘容器外部的交流电源相连,当所述电极通电后在尖端开口处产生等离子,在尖端开口外侧设置有磁石以产生磁场增强等离子,该设备能够在大气中以极简单的方式实施辉光等离子放电表面处理,适用于各种材料的各种表面处理,尤其适用于特别局部的,如点状表面处理,同时由于磁场的引入,等离子放电被增强
  • 一种磁场增强等离子体
  • [发明专利]一种高密度等离子增强化学气相沉积设备-CN201610957838.9在审
  • 滕海燕 - 合肥优亿科机电科技有限公司
  • 2016-10-27 - 2017-04-05 - C23C16/50
  • 本发明提供一种高密度等离子增强化学气相沉积设备,包括真空室以及置于真空室进气端的高密度等离子源和置于真空室抽气端的用于放置样品的沉积底座,所述高密度等离子源包括加热丝、热阴极发射源片以及布置在加热丝和热阴极发射源片外围的屏蔽结构,该高密度等离子源激发出弧光放电等离子,对沉积底座上的样品进行固体薄膜的沉积;所述沉积底座包括可旋转的基座、置于基座上的衬底以及置于基座下端的恒温控制模块。本发明所阐述的等离子密度比市面上现有的辉光放电等离子提高10~100倍,应用于化学气相沉积固体薄膜时生产效率会提高10~100倍,而且等离子温度高,膜层的附着力强,膜组织致密,膜的厚度及成分均匀性好
  • 一种高密度等离子体增强化学沉积设备
  • [发明专利]溶液阴极辉光放电直读光谱仪-CN201710948515.8在审
  • 郑培超;何苗;王金梅 - 重庆邮电大学
  • 2017-10-12 - 2018-01-19 - G01N21/67
  • 本发明公开了一种溶液阴极辉光放电直读光谱仪,包括溶液阴极放电等离子激发源、光学收集系统、罗兰圆分光系统、光电探测系统,以及数据处理与显示系统;所述光学收集系统将溶液阴极放电等离子激发源发出的金属元素光谱辐射成像至罗兰圆分光系统的入口狭缝;所述光学收集系统包括沿光路依次设置的双凸透镜、滤光孔、离轴抛物面镜和平凸透镜,所述离轴抛物面镜的焦点位置位于滤光孔的中心;本发明采用溶液阴极辉光放电等离子作为激发光源,实现了液体中金属离子的浓度的测量
  • 溶液阴极辉光放电直读光谱仪
  • [实用新型]溶液阴极辉光放电直读光谱仪-CN201721313156.0有效
  • 郑培超;何苗;王金梅 - 重庆邮电大学
  • 2017-10-12 - 2018-04-17 - G01N21/67
  • 本实用新型公开了一种溶液阴极辉光放电直读光谱仪,包括溶液阴极放电等离子激发源、光学收集系统、罗兰圆分光系统、光电探测系统,以及数据处理与显示系统;所述光学收集系统将溶液阴极放电等离子激发源发出的金属元素光谱辐射成像至罗兰圆分光系统的入口狭缝;所述光学收集系统包括沿光路依次设置的双凸透镜、滤光孔、离轴抛物面镜和平凸透镜,所述离轴抛物面镜的焦点位置位于滤光孔的中心;本实用新型采用溶液阴极辉光放电等离子作为激发光源,实现了液体中金属离子的浓度的测量
  • 溶液阴极辉光放电直读光谱仪
  • [发明专利]等离子放电装置-CN201210566278.6有效
  • 贾少霞;张宸;杨景华;王守国 - 中国科学院微电子研究所
  • 2012-12-24 - 2014-06-25 - H05H1/46
  • 本发明公开一种等离子放电装置,包括两个射频电极、介质阻挡层、匀气板、气源、射频电源和金属外壳;所述射频电源与所述射频电极连接;放电装置在工作时,所述金属外壳接地;所述射频电极被介质阻挡层包覆;两个射频电极之间为等离子喷口;所述匀气板位于所述介质阻挡层上方;所述气源提供的工作气体通过由所述匀气板构成的收缩口,到达所述等离子喷口,并在常压下,电源接通后,在所述喷口处形成大面积的辉光等离子等离子在气流的携带下向外喷出本发明避免了散射性放电,提高了放电效率,提高了气流速率,增大等离子喷出喷口的长度,降低了装置对被处理材料的形状等要求。
  • 等离子体放电装置
  • [发明专利]常压微辉光放电解吸质谱离子源及其构成的质谱分析装置-CN201410138330.7无效
  • 段忆翔;丁薛璐;王博 - 四川大学
  • 2014-04-08 - 2014-07-02 - G01N30/72
  • 本发明公开了一种常压辉光放电解吸质谱离子源及其构成的质谱分析装置,所述离子源主要包括在绝缘材质基体件上加工出来的微等离子发生腔、固定在微等离子发生腔壁面上的一对击穿电极和固定在微等离子发生腔进口端用于连接工作气引入系统的气路转换接头质谱分析装置主要由工作气引入系统、所述常压微辉光放电解吸质谱离子源、可调直流稳压电源、质谱仪和质谱数据处理系统构成。采用本发明进行样品质谱分析,具有所需功率小,所需气体量少,不需要有毒试剂,等离子气温度较低,不会对环境造成污染,操作简便,不需要对样品进行预处理,检测灵敏度高,能实现高通量的在线检测等多方面十分突出的优点
  • 常压辉光放电解吸离子源及其构成谱分析装置

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top