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- [实用新型]低气压层流等离子体喷涂装置-CN01279072.9无效
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吴承康;潘文霞;马维
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中国科学院力学研究所
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2001-12-24
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2003-01-01
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B05B5/06
- 低气压层流等离子体喷涂装置属于金属材料表面处理设备。本装置包括真空室、等离子体射流发生器、供粉器、电源、气源和冷却水源等。其中等离子体发生器是层流等离子体射流发生器，在其阳极和阴极之间有一中间段，通过发生器连接机构安装在真空室上并可以径向或轴向移动；真空室的底面安装有旋转、移动多个自由度、并能对工件水冷的工件台，工件台和射流发生器之间有挡板机构本实用新型装置功能完善、结构简单、制造费用少、操作便捷，适用于多种构形工件的等离子体喷涂涂层制备、表面改性和处理加工，获得质地致密、孔隙率低、光洁度高的涂层。
- 气压层流等离子体喷涂装置
- [发明专利]等离子束喷涂强化工艺-CN99112080.9无效
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宿登峰
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宿登峰
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1999-02-14
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1999-09-22
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C23C4/10
- 本发明涉及金属表面喷涂技术,是一种采用等离子束喷涂与强化金属表面的工艺。提供的技术方案是,将粉末在180目以上的涂料与产生等离子体的气体,同时送入等离子发生器内,使气体与涂料被电离,产生等离子体,涂料被加热熔化后喷向金属表面。具有以下优点工艺简单、劳动强度低;功率小,一般所需工作功率为3—4KW;能耗低,能量密度高;能够提高金属表面硬度及耐磨性;喷涂层薄,基本不改变基体金属尺寸。
- 离子束喷涂强化工艺
- [发明专利]一种等离子喷嘴、喷枪以及喷涂方法-CN201510332236.X有效
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熊红兵;张凯
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浙江大学
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2015-06-16
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2017-04-05
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B05B5/03
- 本发明公开了一种等离子喷嘴，包括与阴极配合产生等离子体射流的阳极，所述阳极内设有用于流通等离子体射流的喷射通道以及用于向喷射通道注入悬浮液的供料通道，所述阳极内还设有通入雾化气体的气体输入通道，使所述气体输入通道内的压力高于供料通道内的压力，所述气体输入通道与供料通道之间设有使雾化气体注入供料通道泡状雾化悬浮液的连通通道；本发明还公开了一种带有上述喷嘴的喷枪以及喷涂方法；本发明将泡状雾化结构整合在阳极上，结构简单紧凑，等离子体射流内的悬浮液液滴小，分布均匀，提高纳米粒子喷涂效果，且可以在现有的直流等离子喷涂装置进行改造得到，不需要结构更新，改造成本较低。
- 一种等离子喷嘴喷枪以及喷涂方法
- [发明专利]使用等离子体喷嘴进行容器涂层-CN201380019140.7有效
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约亨·克吕格尔;海因茨·胡梅尔
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克朗斯股份公司
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2013-01-16
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2016-11-02
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B65D23/02
- 本发明是关于容器，例如塑料瓶和/或容器毛坯件，例如容器预制件的等离子增强喷涂的装置，包括至少一个高频源(327)，至少一个气体进口，用以注入工艺气体，以及至少一个等离子源(200)，例如一个等离子喷嘴，其中等离子源包含一个内电极(205)，并且该内电极(205)的周围绕着喷嘴管(220)，上述至少一个等离子源(200)置于需喷涂的容器内，并对其进行相应配置，使得其在环境压力下，比如在800‑1200hPA的压力范围内，产生等离子体(204)，并且等离子体能通过喷嘴管末端(203)排出，此时，产生的等离子体的温度应在环境温度范围内，比如10到50℃，其特征是等离子源(200)的喷嘴管(220)包含一个纵向喷嘴管元件前述横向喷嘴管元件(202)从纵向喷嘴管元件(201)上横向伸出，并且等离子体通过横向喷嘴管末端(203)被排放。
- 使用等离子体喷嘴进行容器涂层
- [发明专利]一种球形纳米钨粉的制备方法-CN201110180705.2无效
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袁方利;张海宝;白柳杨;尹春雷
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中国科学院过程工程研究所
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2011-06-30
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2013-01-02
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B22F9/28
- 本发明公开一种采用高频Ar+NH3+H2混合气等离子体直接还原APT(仲钨酸铵)一步制备球形纳米钨粉的方法。在高频等离子体装置中，中心气和边气采用Ar，载气采用NH3和H2，建立持续稳定运行的高频Ar+NH3+H2混合气等离子体。原料APT通过加料器在载气带动下加入等离子体中，在高反应活性Ar+NH3+H2混合气等离子体气氛下被一步还原为金属钨，经后续冷却、收集得到球形纳米钨粉。Ar+NH3+H2混合气等离子体的优点是弧柱体长而粗，柱体饱满，尾焰无缺口，克服了普通高频Ar+H2等离子体弧柱体收缩、尾焰存在缺陷和反应时间短的问题，延长了物料在等离子体弧中停留时间，强化了APT还原过程产品可用于电真空阴极材料、热喷涂以及粉末冶金领域。
- 一种球形纳米制备方法
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