专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种离子注入装置及其使用方法-CN201710507343.0在审
  • 王玉添 - 武汉华星光电技术有限公司
  • 2017-06-28 - 2017-11-17 - H01J37/08
  • 本发明公开了一种离子注入装置及其使用方法,其中装置包括主离子、至少一个备用离子、用于改变接入的离子种类的离子切换装置及用于使所述备用离子和/或主离子发射的离子进入筛选装置离子通道。通过上述方式,本发明能够通过设置至少一个备用离子的方式,在某一离子需要停机维修时通过切换离子使得其它离子与筛选装置相连,保证离子注入装置可以连续工作,实现产品制造过程中的连续性。此外,该方法不需要将整个离子注入装置全部停机,也不需要重新建立真空环境,操作方便。
  • 一种离子注入装置及其使用方法
  • [发明专利]离子生成装置离子生成装置的控制方法-CN201610894385.X有效
  • 川口宏 - 住友重机械离子技术有限公司
  • 2016-10-13 - 2020-03-03 - H01J37/08
  • 本发明提供一种离子生成装置离子生成装置的控制方法,其有助于提高离子照射装置的生产率。本发明的离子生成装置具备:离子控制部(102),构成为按照现离子条件及现离子条件之后运用的新离子条件来控制气体供给部(70)及等离子体激发源(72);保持时间获取部(104),获取现离子条件的保持时间;及预处理条件设定部(106),构成为根据现离子条件、保持时间、及新离子条件来设定确定预处理的预处理条件,所述预处理用于在等离子体室内壁形成适合于新离子条件的表层区域。离子控制部(102)构成为,从现离子条件变更为新离子条件时,通过预处理条件控制气体供给部(70)及等离子体激发源(72)。
  • 离子生成装置控制方法
  • [发明专利]离子成像装置-CN201910515317.1在审
  • 朱星高;代新;喻佳俊;刘平;刘今朝;黄凯斌;黄利勇 - 广州禾信康源医疗科技有限公司
  • 2019-06-14 - 2020-12-15 - H01J49/02
  • 本发明公开了一种离子成像装置。该离子成像装置包括离子腔体、离子加电模块、反射镜、透光密封件、成像镜头、镜头支撑件以及图像获取机构,离子腔体具有样品窗口以及光反射窗口,离子加电模块设在离子腔体内且靠近于样品窗口,透光密封件密封光反射窗口,镜头支撑件位于离子腔体的外部且连接离子腔体,镜头支撑件具有反射通道,反射通道的一端与样品窗口相对,成像镜头与镜头支撑件可转动连接且与反射通道的另一端相通,图像获取机构与成像镜头连接,离子腔体内以及反射通道内均设有反射镜,离子腔体内的反射镜、反射通道内的反射镜能够将靶板的图像发射至成像镜头内。该离子成像装置结构简单、易于操作。
  • 离子源成像装置
  • [发明专利]离子装卸装置-CN200910049285.7有效
  • 许鹖 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2009-04-14 - 2010-10-20 - H01J37/08
  • 本发明公开了一种离子装卸装置,用于在电弧反应室装卸离子,包括:半圆柱形承托架,与离子形状匹配,以承托所述离子;卡套,设置在所述半圆柱形承托架一端,与所述电弧反应室的钢套形状匹配,用于卡合在所述钢套上,其中所述卡套具有一开口,与所述离子形状匹配,以供所述离子进出;以及把手,设置在所述卡套上部。利用该离子装卸装置,可以在装卸离子时,实现准确定位,使离子精确的插入钢套中。在频繁的对离子注入机周期保养中,可以保证离子的质量,同时会提高安装效率。确保维护的成功率,避免重复劳动。
  • 离子源装卸装置
  • [实用新型]一种电子束蒸发镀膜设备离子刻蚀装置-CN202221542041.X有效
  • 杜鸿基;陈亮 - 北京维开科技有限公司
  • 2022-06-20 - 2023-01-24 - C23C14/30
  • 本实用新型公开了一种电子束蒸发镀膜设备离子刻蚀装置,所述离子刻蚀装置包括主刻蚀离子和补偿刻蚀离子,所述主刻蚀离子设置于电子束蒸发镀膜设备的镀膜材料蒸发舱体内,补偿刻蚀离子设置于电子束蒸发镀膜设备的工件装载舱体内;所述主刻蚀离子设置于镀膜材料蒸发舱体的底平面上一侧,且朝向工件装载固定盘,所述补偿刻蚀离子设置于工件装载舱体的底平面上一侧,且朝向工件装载固定盘,补偿刻蚀离子下方设有角度调节机构,其相对水平面的角度调节范围为本装置能提供更精准的刻蚀工艺,双离子的刻蚀精度在单离子的刻蚀精度的均匀性基础上能提高2%左右。
  • 一种电子束蒸发镀膜设备离子源刻蚀装置
  • [发明专利]一种离子安装支架-CN201810645342.7有效
  • 杨圆明;宋韵洋;赵鑫;王汉清;杨恩武;刘兰超;杨林月;刘敏胜 - 新奥科技发展有限公司
  • 2018-06-21 - 2021-01-05 - H01J1/92
  • 本发明实施例公开了一种离子安装支架,涉及离子安装技术领域,用于提高离子安装支架的空间利用率及其通用性。所述离子安装支架包括:用于安装在真空腔室上的法兰安装盘,通过间隙可调组件与法兰安装盘连接的离子固定套,以及与离子匹配设置的紧定件;其中,离子固定套上设置有离子容置孔、以及至少一个沿离子容置孔的径向设置的离子限位孔;离子限位孔与离子容置孔连通,紧定件穿过离子限位孔与设在离子容置孔内的离子固定连接。本发明实施例提供的离子安装支架用于实现离子在真空腔室内的安装。
  • 一种离子源安装支架
  • [实用新型]离子装置-CN201020668536.8有效
  • 苏新虹;朱兴华 - 北大方正集团有限公司
  • 2010-12-09 - 2011-09-14 - H01J37/08
  • 本实用新型涉及离子束蚀刻技术领域,公开了一种阳离子装置。本实用新型的阳离子装置,包括多个永磁体以及至少两个布气通道,所述多个永磁体沿所述布气通道分布,且至少一对相邻的布气通道之间连通。采用本实用新型的离子装置,将现有阳离子腔体内的上、下布气通道连通,相对现有的阳离子装置,使得离子腔体内的气体分布均匀,提高离子的蚀刻均匀性。
  • 阳离子装置

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