专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种塑料粒子生产加工用的筛选装置-CN202110164046.7在审
  • 不公告发明人 - 马超
  • 2021-02-05 - 2021-05-11 - B29B13/10
  • 本发明涉及塑料粒子生产加工技术领域,且公开了一种塑料粒子生产加工用的筛选装置,包括底座,所述底座的顶部固定安装有筛选箱,所述筛选箱远离底座的一端中轴处固定安装有电机,所述电机的输出端贯穿筛选箱的顶部并延伸至内部该塑料粒子生产加工用的筛选装置,塑料粒子对驱动挤压杆有一个挤压力的作用,驱动挤压杆在挤压力的作用下使研磨球推出研磨腔,在旋转杆的旋转下对塑料粒子进行研磨处理,使黏连的塑料粒子分开,从而提高了塑料粒子的筛选效率
  • 一种塑料粒子生产工用筛选装置
  • [发明专利]循环式胶体研磨均质机-CN201610895215.3在审
  • 郝广平;石雷;谢永梅;廖俊 - 哈尔滨理工大学
  • 2016-10-14 - 2017-02-15 - B02C21/00
  • 本发明涉及一种胶体研磨均质设备主要用于日用化工、食品加工、医药工业、建筑工业、塑料工业、纺织工业、造纸工业、煤炭浮选剂、稀土、纳米材料及军工等新材料领域;本发明主要部件有电机、机座、机体、旋转叶片、三级研磨机械密封水冷却接头、机械密封装置等组成;机座上安装有机体和电机,机体顶盖上方设置封闭式料斗,料斗为圆锥体形状的不锈钢制品;本发明由于转速较高、产热量较大采用机械密封组密封并且采用液体循环水冷却;循环式胶体研磨均质机为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达到纳米级别,本发明的胶体研磨均质机使得生成的粒子非常均匀。
  • 循环胶体研磨均质机
  • [实用新型]一种涂料加工用研磨装置-CN201921458584.1有效
  • 蒋宇婷 - 丹阳市银海镍铬化工有限公司
  • 2019-09-04 - 2020-05-15 - B02C21/00
  • 本实用新型涉及一种涂料加工用研磨装置,包括研磨腔、主轴、电机以及研磨机构,研磨机构包括固接于研磨腔内壁的支撑板、与主轴固接的研磨盘、上载板、下载板以及转动连接于上载板和下载板之间的研磨辊,研磨盘表面转动连接有多个研磨轮,支撑板上表面开有与研磨轮形状相配合的环槽,支撑板表面均匀开有通孔,研磨盘相对支撑板转动,将涂料粒子进行挤压研磨研磨过程中研磨轮下部在支撑板的环槽内移动,有效增加研磨盘与物料的接触面积,经研磨研磨后的涂料落入研磨腔下部,再经研磨辊进一步对涂料进行研磨加工,多级研磨的设置有效实现对大颗粒涂料粒子的充分研磨,提高研磨加工的效率及研磨质量,进而保障涂料出厂质量及使用效果。
  • 一种涂料工用研磨装置
  • [发明专利]CMP用研磨液以及研磨方法-CN201210225793.8有效
  • 筱田隆;田中孝明;金丸真美子;天野仓仁 - 日立化成工业株式会社
  • 2009-04-16 - 2012-11-07 - H01L21/3105
  • 本发明涉及CMP用研磨液以及研磨方法。本发明还涉及CMP用研磨液的应用,该CMP用研磨液包含介质和分散在介质中的胶态二氧化硅粒子,胶态二氧化硅粒子满足以下3个条件的全部。(1)从通过扫描电子显微镜观察任意20个粒子所得到的图像中得到的二轴平均一次粒径(R1)为35~55nm;(2)与在(1)中求得的R1相同粒径的正球体的比表面积计算值为S0,通过BET法测定的胶态二氧化硅粒子的比表面积为S1,用S0去除S1所得到的值为1.20以下;(3)在CMP用研磨液中,通过动态光散射方式粒度分布计测定的胶态二氧化硅粒子的二次粒径(Rs)与在(1)中求得的R1的比Rs/R1为1.30以下。
  • cmp研磨以及方法
  • [发明专利]大长径比细长管内表面的抛光装置及其方法-CN201710247849.2有效
  • 杨海吉;韩冰;康璐;刘永健;金文博;李阔 - 辽宁科技大学
  • 2017-04-17 - 2017-07-11 - B24B1/00
  • 本发明属于磁力研磨技术领域,尤其是涉及一种大长径比细长管内表面的抛光装置及其方法,其抛光装置特征在于包括机床床体、设置在机床床体上的移动机构,设置在此机床床体上的工件夹持机构,设置在机床床体上的研磨机构,研磨机构包括超声波发生器,磁力研磨装置,磁力研磨装置包括外部研磨装置和内部研磨装置。本发明将超声波振动附加到传统磁力研磨加工过程中,使磁性研磨粒子对细长管内表面产生高频冲击作用,并且在细长管内腔添加辅助磁极,辅助磁极可以与外部磁极形成磁回路,增大了单位空间的磁感应强度,单位空间内的磁感应强度增加,研磨压力也随之增大,材料去除量大约是传统磁力研磨的1.5倍。
  • 长径细长表面抛光装置及其方法
  • [发明专利]化学机械研磨浆液与化学机械平坦化方法-CN200710166031.4有效
  • 侯惠芳;刘文政;陈彦良;陈瑞清 - 长兴开发科技股份有限公司
  • 2007-10-30 - 2008-07-16 - C09K3/14
  • 一种化学机械研磨浆液,特别涉及一种可将一片图案晶圆上的铜磨除掉的化学机械研磨浆液,包含一种酸、一种界面活性剂、一种水性介质,及数颗经一种表面电性改质剂进行表面改质并含钾的二氧化硅研磨粒子,通过研磨粒子的构造,该研磨浆液可比一般业界所采用的,更能避免所研磨的图案晶圆产生氮化钽阻障层损害、更彻底将覆盖在阻障层上的铜磨除,且研磨后的晶圆表面所形成的凹陷程度也更轻,整体功效佳并极符合业界的需求,另外,也提供一种化学机械平坦化方法,是使一片晶圆与一块研磨垫接触,输送一具有数颗上述二氧化硅研磨粒子的化学机械研磨浆液至该晶圆与研磨垫,并将该晶圆表面至少部分平坦化。
  • 化学机械研磨浆液平坦方法
  • [发明专利]一种硼镁预合金粉体材料及其制备方法-CN201710910132.1有效
  • 焦清介;刘大志;闫石;杜风贞;孙亚伦 - 北京理工大学;唐山威豪镁粉有限公司
  • 2017-09-29 - 2019-07-26 - C06B33/00
  • 本发明涉及一种硼镁预合金粉体材料的制备方法,属于金属基可燃物领域。所述材料为全包覆核壳结构,核为B,外壳为MgO和MgB2,无定型MgO和晶态MgB2不均匀分布。其制备方法为:镁粉和硼粉经过前处理后,进行机械预混,得到混合粉末,再进行高温均匀预混,出炉,在惰性气体保护下粉碎研磨后再次放入炉体内;抽真空后充入惰性气体,进行两步烧结;得到的预合金粉块在惰性气体保护下机械粉碎研磨,得到一种硼镁预合金粉体材料。所述方法工艺简单,成本不高,利用镁粉在加热过程中还原硼粉中的氧化硼提高有效硼含量,在硼粒子间的界面上形成部分镁硼合金,以减少硼的团聚,增大硼粒子在氧化过程中的受热面积,提高反应度。
  • 一种硼镁预合金粉材料及其制备方法

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