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- [发明专利]循环式胶体研磨均质机-CN201610895215.3在审
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郝广平;石雷;谢永梅;廖俊
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哈尔滨理工大学
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2016-10-14
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2017-02-15
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B02C21/00
- 本发明涉及一种胶体研磨均质设备主要用于日用化工、食品加工、医药工业、建筑工业、塑料工业、纺织工业、造纸工业、煤炭浮选剂、稀土、纳米材料及军工等新材料领域;本发明主要部件有电机、机座、机体、旋转叶片、三级研磨机械密封水冷却接头、机械密封装置等组成;机座上安装有机体和电机,机体顶盖上方设置封闭式料斗,料斗为圆锥体形状的不锈钢制品;本发明由于转速较高、产热量较大采用机械密封组密封并且采用液体循环水冷却;循环式胶体研磨均质机为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达到纳米级别,本发明的胶体研磨均质机使得生成的粒子非常均匀。
- 循环胶体研磨均质机
- [实用新型]一种涂料加工用研磨装置-CN201921458584.1有效
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蒋宇婷
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丹阳市银海镍铬化工有限公司
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2019-09-04
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2020-05-15
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B02C21/00
- 本实用新型涉及一种涂料加工用研磨装置,包括研磨腔、主轴、电机以及研磨机构,研磨机构包括固接于研磨腔内壁的支撑板、与主轴固接的研磨盘、上载板、下载板以及转动连接于上载板和下载板之间的研磨辊,研磨盘表面转动连接有多个研磨轮,支撑板上表面开有与研磨轮形状相配合的环槽,支撑板表面均匀开有通孔,研磨盘相对支撑板转动,将涂料粒子进行挤压研磨,研磨过程中研磨轮下部在支撑板的环槽内移动,有效增加研磨盘与物料的接触面积,经研磨盘研磨后的涂料落入研磨腔下部,再经研磨辊进一步对涂料进行研磨加工,多级研磨的设置有效实现对大颗粒涂料粒子的充分研磨,提高研磨加工的效率及研磨质量,进而保障涂料出厂质量及使用效果。
- 一种涂料工用研磨装置
- [发明专利]CMP用研磨液以及研磨方法-CN201210225793.8有效
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筱田隆;田中孝明;金丸真美子;天野仓仁
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日立化成工业株式会社
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2009-04-16
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2012-11-07
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H01L21/3105
- 本发明涉及CMP用研磨液以及研磨方法。本发明还涉及CMP用研磨液的应用,该CMP用研磨液包含介质和分散在介质中的胶态二氧化硅粒子,胶态二氧化硅粒子满足以下3个条件的全部。(1)从通过扫描电子显微镜观察任意20个粒子所得到的图像中得到的二轴平均一次粒径(R1)为35~55nm;(2)与在(1)中求得的R1相同粒径的正球体的比表面积计算值为S0,通过BET法测定的胶态二氧化硅粒子的比表面积为S1,用S0去除S1所得到的值为1.20以下;(3)在CMP用研磨液中,通过动态光散射方式粒度分布计测定的胶态二氧化硅粒子的二次粒径(Rs)与在(1)中求得的R1的比Rs/R1为1.30以下。
- cmp研磨以及方法
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