专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果5570409个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]一种用于成像系统群的协同成像方法与系统-CN202110854249.9有效
  • 张纪庄;郭咏梅;郭咏阳 - 康达洲际医疗器械有限公司
  • 2021-07-28 - 2021-11-12 - G06T17/00
  • 本发明公开了一种用于成像系统群的协同成像方法,涉及图像处理技术领域,主要包括:在单行协同模式下,各成员成像系统获取源成像系统依照预设传输模式发送的目标图像,并在对目标图像进行处理后将处理后的目标图像返回源成像系统进行三维重建成像显示;在并行协同模式下,成像系统群中的各成像系统分别获取各自的目标图像,并在对各自目标图像进行处理后分发处理后的目标图像至成像系统群中各成像系统进行三维重建成像显示。本发明提出了基于源成像系统和成员成像系统的单行协同模式和并行协同模式两种协同成像方法,利用各成像系统自身算力解决部分目标图像的数据处理,从而无需额外搭建云服务器来满足三维图像构建的算力需求。
  • 一种用于成像系统协同方法
  • [发明专利]放射治疗系统及其目标设备的控制方法、装置-CN201811640792.3在审
  • 昝鹏;张中元 - 西安大医集团股份有限公司
  • 2018-12-29 - 2020-07-07 - A61N5/10
  • 本发明公开了一种放射治疗系统及其目标设备的控制方法、装置,涉及放射治疗技术领域。所述方法包括:检测包覆成像系统成像区域的目标区域是否被治疗头遮挡,当检测到目标区域被治疗头遮挡时,调整目标设备的状态,避免成像系统采集图像时被治疗头遮挡。其中,目标设备可以为治疗头和成像系统中的至少一种,治疗头的状态可以包括:位置和转动速度中的至少一种,成像系统的状态可以包括:位置、转动速度和工作状态中的至少一种。通过本发明提供的放射治疗系统目标设备的控制方法可以使治疗头或成像系统在旋转时,避免治疗头遮挡该成像系统成像区域,成像系统成像效果较好。
  • 放射治疗系统及其目标设备控制方法装置
  • [发明专利]一种基于多视角采样的光场校正拼接装置及方法-CN201711237059.2有效
  • 李海峰;倪丽霞;刘旭;徐良 - 浙江大学
  • 2017-11-30 - 2021-01-26 - G06T7/80
  • 本发明公开了一种基于多视角采样的光场校正拼接装置及方法,属于光场三维显示校正及多投影图像校正领域,其中,光场校正拼接装置包括:成像目标面,带有标记点阵,用于显示图像;成像系统,设置在成像目标面前;图像获取设备,用于获取成像系统投射在所述成像目标面上的图像;处理器,生成的图像源经过成像系统调制到达成像目标面,同时接收图像获取设备拍摄的图像,建立图像源和成像目标面的点对点映射关系,并基于该映射关系及成像目标面的成像需求通过处理器比较图像源和成像目标面的图像生成校正数据,对成像系统的光场进行校正,从而精确再现目标光场。
  • 一种基于视角采样校正拼接装置方法
  • [发明专利]细胞沉积和成像装置-CN202180072382.7在审
  • 理查德·迈克尔·萨蒙 - FFEI公司
  • 2021-09-27 - 2023-08-15 - C12M1/00
  • 一种细胞沉积和成像装置,包括:包括至少一个通道的打印机构,所述打印机构的所述至少一个通道被布置成:接收包括至少一种细胞类型的细胞载液的样本,以及将所述细胞载液的所述样本沉积到基底的目标区上;成像系统,其被布置成对所述目标成像;以及输送系统,其被布置成在打印位置和成像位置之间移动所述目标区,在所述打印位置处,所述目标区实质上邻近所述打印机构定位,在所述成像位置处,所述目标区实质上邻近所述成像系统定位;其中,所述成像系统包括能够对所述基底的区域进行成像成像器,其中,所述区域小于所述目标区,并且所述成像系统被布置成通过相对于所述成像器移动所述目标区来对整个所述目标区进行成像
  • 细胞沉积成像装置
  • [发明专利]基于高光谱全偏振的目标探测成像系统-CN201510028247.9在审
  • 付强;姜会林;战俊彤;段锦;张肃;赵海丽;刘智;王晓曼 - 长春理工大学
  • 2015-01-20 - 2015-05-13 - G01S17/89
  • 本发明涉及一种基于高光谱全偏振的目标探测成像系统,属于目标探测识别领域。其包括主动照明与跟踪子系统、高光谱全偏振成像系统与跟踪转台子系统;主动照明与跟踪子系统与高光谱全偏振成像系统光轴平行并联排列,主动照明与跟踪子系统与高光谱全偏振成像系统放置在跟踪转台子系统上,主动照明与跟踪子系统与跟踪转台子系统连接;主动照明与跟踪子系统发射激光束对目标进行照明,同时接收经目标反射回来的光,进行跟踪成像;高光谱全偏振成像系统完成全偏振成像和高光谱成像,并将信息融合进行目标识别;转台跟踪子系统的功能是实现空间目标的跟踪相比现有技术,本发明具有目标探测概率高、应用范围广的特点。
  • 基于光谱偏振目标探测成像系统
  • [发明专利]立体摄像自动汇聚系统-CN201010214191.3有效
  • 安黄彬;夏登海;李炜 - 深圳市掌网立体时代视讯技术有限公司
  • 2010-06-30 - 2010-10-27 - G03B35/08
  • 本发明涉及立体摄像自动汇聚系统,包括成像器组和控制系统;所述成像器组包括用于搜索并拍摄目标物图像的目标成像器,以及分别安装在所述目标成像器两侧的左侧成像器和右侧成像器;所述控制系统定时采样左侧成像器、右侧成像器与目标成像器的同一时刻图像进行比较,根据比较结果调整左侧成像器和右侧成像器的位置及参数以使所述左侧成像器和右侧成像器对目标物汇聚。本发明能够有效地对目标物进行汇聚,减小了立体摄像系统显示立体图像的偏差,提高了成像效果,并大大方便立体摄像系统的架设、使用,并能使得立体系统的使用跟2D普通摄影系统一样方面易用,还可以实现2D摄影所能实现的特效摄影
  • 立体摄像自动汇聚系统
  • [发明专利]一种用于遮蔽目标的光电成像探测系统及方法-CN201711160373.5在审
  • 郝群;曹杰;程阳;王非;王子寒;肖宇晴 - 北京理工大学
  • 2017-11-20 - 2018-04-20 - G01S17/89
  • 本发明公开的一种用于遮蔽目标的光电成像探测系统及方法,属于光电成像目标探测技术领域。本发明公开的一种用于遮蔽目标的光电成像探测系统,包括全波形激光雷达系统、选通成像系统、主控电路、光源驱动、激光光源、第一分光镜和第二分光镜。本发明还公开基于所述系统实现的一种遮蔽目标光电成像探测方法。本发明采用全波形激光雷达系统与选通成像系统结合的方式,在预估遮蔽目标的纵深距离之后进行选通成像,能够大幅缩短盲选通成像时间,同时减少非目标散射回波的影响,从而快速得到遮蔽目标的高分辨率图像;相比较传统回波探测方法,本发明能够实现对遮蔽目标的快速、高分辨探测,并具备较高的测距精度和系统信噪比。
  • 一种用于遮蔽目标光电成像探测系统方法
  • [发明专利]成像系统和方法-CN202110072616.X有效
  • 张翼;孙晓雨;李胜全;程正坤;罗明成;周佳琼;陈明;齐晓飞 - 鹏城实验室
  • 2021-01-19 - 2023-05-26 - G01S15/89
  • 本发明公开一种成像系统,所述成像系统包括:预设发射器阵列、预设接收器阵列和成像器;所述预设发射器阵列,用于向目标物体发射涡旋声波,以使所述涡旋声波到达所述目标物体时,产生反射回波;所述预设接收器阵列,用于接收所述反射回波;所述成像器,用于基于所述反射回波,获得所述目标物体的目标图像,所述目标图像包括所述目标物体的目标位置信息和目标轮廓信息。本发明还公开一种成像方法。利用本法发明的成像系统,预设接收器阵列设置较少的接收器,成像系统的成本较低。
  • 成像系统方法
  • [发明专利]用于测量光学成像系统的图像质量的系统-CN200580018031.9有效
  • M·门格尔;U·维格曼;A·厄尔曼;W·埃默;R·克莱门特;L·马蒂杰森 - 卡尔蔡司SMT股份公司
  • 2005-06-02 - 2007-05-30 - G03F7/20
  • 一种用于光学成像系统(150)的光学测量的测量系统(100),提供该光学成像系统以使设置在成像系统目标表面(155)的图案成像成像系统的图像表面(156),该测量系统包括,具有目标侧测量结构(111)的目标侧结构载体(110),其设置于成像系统目标侧上;具有图像侧测量结构(121)的图像侧结构载体(120),其设置于成像系统的图像侧上;该目标侧测量结构和该图像侧测量结构以这种方式彼此匹配:当目标侧测量结构借助于成像系统成像到图像侧测量结构上时该成像系统设计为用于借助浸液(171)成像的浸液系统。给设置在浸液区域中的结构载体分配保护系统(125),以提高测量结构对由浸液导致的降解的抵抗力。因此,在浸液条件下的浸液系统的测量在测量精确度方面,可能不受浸液的有害影响。
  • 用于测量光学成像系统图像质量
  • [发明专利]立体成像设备-CN201110348448.9有效
  • 山田正裕;青木直 - 索尼公司
  • 2011-11-03 - 2012-07-11 - G03B35/08
  • 本发明公开一种立体成像设备,包括:目标光学系统,其具有将对象成像为实像或者虚像的功能;以及多个成像光学系统,其使用多个独立光学系统将从目标光学系统的不同路径出射的多个对象光束再次成像为视差图像,其中,在目标光学系统将对象成像为实像时的焦距值为正并且目标光学系统将对象成像为虚像时的焦距值为负的情况下,目标光学系统的焦距(f)和从目标光学系统的后侧主点到成像光学系统的前侧主点之间的距离(L)设定为满足以下公式的值:|f/(L-f)|≤1。
  • 立体成像设备
  • [实用新型]立体成像设备-CN201120435869.0有效
  • 山田正裕;青木直 - 索尼公司
  • 2011-11-03 - 2012-08-01 - G03B35/08
  • 本实用新型公开一种立体成像设备,包括:目标光学系统,其具有将对象成像为实像或者虚像的功能;以及多个成像光学系统,其使用多个独立光学系统将从目标光学系统的不同路径出射的多个对象光束再次成像为视差图像,其中,在目标光学系统将对象成像为实像时的焦距值为正并且目标光学系统将对象成像为虚像时的焦距值为负的情况下,目标光学系统的焦距(f)和从目标光学系统的后侧主点到成像光学系统的前侧主点之间的距离(L)设定为满足以下公式的值
  • 立体成像设备

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top