专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]位置的实时测校装置以及方法-CN200810032842.X有效
  • 毛方林 - 上海微电子装备有限公司
  • 2008-01-21 - 2008-07-16 - G03F7/20
  • 本发明提供一种位置的实时测校装置以及方法,所述装置包括照明光源系统、投影物镜成像系统、用于支撑并固定掩模版的掩模台、用于支撑并固定晶片的工作台,所述测校装置还包括用于监测位置的投影物镜成像系统顶部传感器,以及用于监测像位置的投影物镜成像系统底部传感器,所述方法监测不同时刻投影物镜成像系统顶部传感器和底部传感器测量结果,通过与初始标定时刻位置相比较,计算可得不同时刻漂移量,并对投影系统位置进行实时校正通过本发明的测校装置及方法,可以测量待测、像与透镜的相对位置,有效修正光刻装置中投影物镜系统、像漂移值。
  • 物面像面位置实时装置以及方法
  • [发明专利]界面的移动方法及支持界面移动的装置-CN201310012680.4有效
  • 刘伟杰 - 华为终端有限公司
  • 2013-01-14 - 2013-05-15 - G06F3/0484
  • 本发明实施例公开了界面的移动方法及装置,其中所述方法可包括:接收将界面上第一界从第一区域移动到第二区域的指令;根据所述接收到的指令更新所述第一界在所述界面上的显示位置为所述第二区域;根据预先设定的规则获取第二界;在所述界面上除所述第二区域外的整个界面范围内,为第二界查找显示位置;根据查找到的显示位置更新所述第二界的显示位置;根据所有界面的显示位置在界面上显示所有界面。由于本发明实施例将界面上的第一界和第二界的显示位置均进行了更新,则第一界的移动范围可不受任何限制,因此,本发明实现了第一界在界面上进行任意位置的移动,增强了用户的体验。
  • 界面移动方法支持装置
  • [发明专利]确定光刻投影装置最佳面的方法及用于该方法的掩模-CN201010567531.0有效
  • 毛方林;李术新;李煜芝 - 上海微电子装备有限公司
  • 2010-12-01 - 2012-06-06 - G03F7/20
  • 一种确定光刻投影装置最佳面的方法,包括下述步骤:驱动图案形成装置至一高度位置,该图案形成装置包括第一组标记图案及第二组标记图案;驱动衬底至对应的像位置处;将该第一组标记图案曝光至衬底表面上形成第一曝光图案;水平移动该衬底;将该第二组标记图案曝光至该衬底表面上形成第二曝光图案,以使该第二曝光图案与第一曝光图案一起构成套刻图案;改变该图案形成装置的垂向高度,在不同高度处重复上列步骤,形成多个套刻图案;读取不同高度处形成的套刻图案的套刻结果;根据套刻结果拟合出不同高度处的畸变值;根据不同位置对应的畸变值,选取最小畸变值所对应的高度为最佳位置
  • 确定光刻投影装置最佳方法用于
  • [发明专利]程序生成装置及程序生成方法-CN200680006026.0有效
  • 藤野大助;入口健二;高桥宣行;田中克典;三谷由香 - 三菱电机株式会社
  • 2006-08-01 - 2008-07-23 - G05B19/4093
  • 本发明的NC程序生成装置具有:刀具轴方向设定单元,其设定对被加工进行加工时的刀具轴方向;刀具前端最深位置设定单元,其设定对被加工进行加工时的刀具前端的最深位置加工区域形状提取单元,其根据刀具轴方向及刀具前端的最深位置,提取对被加工进行加工的加工区域数据;加工工艺信息确定单元,其使用加工区域数据,确定对被加工进行加工时的加工工艺信息;以及NC程序生成单元,其生成与加工区域数据及加工工艺信息对应的加工控制程序加工区域形状提取单元提取以下区域,即,在所设定的刀具轴方向上,对被加工进行加工直至设定的刀具前端最深位置时,不会对被加工的加工产生干涉而可以加工的最大区域。
  • 程序生成装置方法
  • [发明专利]一种检测方法、检测设备-CN202010892141.4在审
  • 陈鲁;吕肃;方一;李青格乐 - 深圳中科飞测科技有限公司
  • 2020-08-31 - 2022-03-01 - G01B11/25
  • 本发明提供一种检测方法,该检测方法以下步骤:提供待测,所述待测具有待测,所述待测面包括多个待测点;获取所述多个待测点在基准中的第一位置关系:获取所述待测与所述基准之间的第一角度关系;根据所述角度关系矫正所述位置关系,获取所述多个待测点的第一空间位置关系。通过以上设置,首先获取测量待测与基准之间的角度关系,再次根据角度关系矫正待测上多个待测点在基准中的位置关系,最终获得待测上多个待测点的精确的位置关系,提高了检测方法的检测精度。
  • 一种检测方法设备
  • [发明专利]一种自动对焦系统和方法-CN202211452231.7有效
  • 杨日升;陈椿元;张东;吴聪懿 - 上海隐冠半导体技术有限公司
  • 2022-11-21 - 2023-03-14 - G02B7/28
  • 本发明公开了一种自动对焦系统和方法,该自动对焦系统包括:机台,包括台面、控制器、驱动器和位置检测模块,台面上承载有待测;对焦装置,位于待测背离机台的一侧且两者间隔设置,用于对焦并测量待测的第一焦位置;上位机,分别与位置检测模块和对焦装置电连接,用于接收对焦装置的第一焦位置位置检测模块检测的第二焦位置,并分析第一焦位置和第二焦位置以获得位移信号;控制器分别与上位机和驱动器电连接,用于接收位移信号,且将位移信号转化为驱动信号并传输给驱动器,使驱动器驱动待测至目标焦位置
  • 一种自动对焦系统方法
  • [实用新型]用于带状的定位机构-CN201220012730.X有效
  • 张育斌 - 台湾山二股份有限公司
  • 2012-01-12 - 2012-10-10 - A44B11/06
  • 本实用新型涉及一种用于带状的定位机构,其包含:一本体,具有一插槽与一对应插槽的内壁;一连接件,枢设于本体,连接件能在一紧固位置与一释放位置之间相对于本体偏转,连接件结合一带状的一端;一定位件,具有一抵压,定位件枢设于连接件;一弹性件,其弹力带动定位件连同连接件自释放位置朝紧固位置旋转;当连接件转至释放位置,带状的另一端能经由本体的插槽设于内壁与抵压之间,当连接件转至紧固位置时,连接件与定位件往内壁方向靠近,带状受到内壁与定位件的抵压直接压迫,防止带状相对于本体移动。
  • 用于带状定位机构
  • [发明专利]倾斜成像系统采样体积的测量方法-CN201510557000.6有效
  • 张红霞;刘京;贾大功;刘铁根;张以谟 - 天津大学
  • 2015-09-02 - 2017-08-25 - G01M11/02
  • 一种倾斜成像系统采样体积的测量方法,该方法包括固定与成像镜头光轴的夹角θ,搭建物倾斜成像实验系统,获得在该倾斜角θ处每一个位置x处的网格标定板图像。对CCD传感器接收到的每一幅网格标定板图像进行处理,得到每幅图像的清晰成像面积。将以上得到的每一个位置x处的清晰成像面积对平行移动间隔Δx进行积分得到该倾斜角θ处的采样体积。变化倾斜角的取值,重复上述过程,得到每一个倾斜角处的采样体积。从而拟合得到采样体积和倾斜角的经验计算公式,进一步得到任意倾斜角处的采样体积。本发明为设计和优化倾斜成像系统提供有力的依据。
  • 倾斜成像系统采样体积测量方法
  • [发明专利]确定中线位置的方法-CN202210117981.2在审
  • 任远;王雅静;冯洋;刘晓林;王明政 - 上海时代天使医疗器械有限公司
  • 2022-02-08 - 2023-08-18 - G06V40/16
  • 本申请的一方提供了一种计算机执行的确定中线位置的方法,其包括:获取患者正脸露齿照片;对所述患者正脸露齿照片进行面部特征点识别;基于识别出的相应面部特征点,产生面中线;基于所述患者正脸露齿照片中的唇内区域图像,产生牙中线;基于识别出的相应面部特征点,识别虹膜区域;以及基于给定的虹膜直径尺寸、所述识别出的虹膜区域直径的像素数以及所述中线和牙中线之间的像素数偏差,计算得到所述中线和牙中线之间的实际偏差。
  • 确定中线位置方法
  • [实用新型]硅液位置控制装置-CN201020623322.9有效
  • 汤旋 - 浙江昱辉阳光能源有限公司
  • 2010-11-24 - 2011-06-22 - C30B15/20
  • 本实用新型实施例公开了一种硅液位置控制装置,该控制装置安装在单晶炉上的观测窗口上,包括:激光发射器、激光接收器和控制回路,激光发射器可调节的设置在单晶炉上的第一观测窗口;激光接收器用于接收激光发射器的光束显示硅液面的变化,并可调节的设置在单晶炉上的第二观测窗口上;控制回路接收激光接收器的信号,并根据该信号控制单晶炉上的马达控制坩埚的至目标位置。本实用新型实施例中的装置通过激光接收器接收到的激光发射器发射出的光束角度的变化进而得知硅液距离热屏位置的变化,然后控制回路根据检测到的信号,控制马达的工作状态进而实现实时调控坩埚的跟随比,使得坩埚始终保持在最佳的生长状态
  • 液面位置控制装置

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