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- [发明专利]X射线分析装置-CN202110629795.2在审
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高桥春男
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日本株式会社日立高新技术科学
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2021-06-07
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2022-01-04
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G01N23/223
- 提供X射线分析装置。不需要用于将试样配置于一次X射线(X1)照射区域的位置调整机构和位置调整过程,利用简单的结构实现连续地测定大量小片试样的方法。荧光X射线分析装置构成为包含能够对试样照射X射线的X射线照射部、检测从试样产生的二次X射线的X射线检测部、搬送试样的试样搬送部和对检测到的X射线强度进行处理的数据处理部,使各个结构要素具有以下的功能。试样搬送部使试样移动以使试样通过X射线照射位置。X射线检测部以比试样通过X射线照射部所需要的时间短的时间间隔连续取得X射线能量谱。数据处理部根据连续取得的X射线能量谱的排列,根据X射线能量谱的特征选择试样位于所述X射线照射部的时刻的能量谱。
- 射线分析装置
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