专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种新型半透膜支撑体的制备方法-CN202110031441.8在审
  • 不公告发明人 - 宁波日新恒力科技有限公司
  • 2021-01-11 - 2021-06-29 - C09J7/29
  • 本发明公开了一种新型半透膜支撑体的制备方法,其结构由下而上分别为纺粘无纺布、湿法无纺布层、复合在湿法无纺布中的胶粘层,最上面的离型膜层。本新型支撑体通过在湿法无纺布上浸润并发泡形成的胶粘层,可以在涂布半透膜时和半透膜表面形成粘结,在原有锚定效应的基础上增加了胶粘作用,明显提高了半透膜和支撑体之间的剥离强度,直接避免了因支撑体和半透膜局部无结合力产生的半透膜缺陷胶粘层可以填补湿法无纺布中较大孔隙,使得孔隙更加均匀,提高支撑体的表面平滑度,从而避免了因为湿法无纺布的低密度缺陷而导致的半透膜渗透。本支撑体在湿法无纺布下方复合了纺粘无纺布,提高了抗拉强度,弥补了因湿法无纺布孔隙增大而降低强度的不足。
  • 一种新型半透膜支撑制备方法
  • [发明专利]湿法炼锌电解循环液脱除氟和氯的方法-CN202110049995.0在审
  • 王普公;王军辉;焦晓斌;席多祥;夏青;郭永峰;杨斌;冶玉花;崔耀;牛棽葳 - 白银有色集团股份有限公司
  • 2021-01-14 - 2021-06-01 - C25C7/06
  • 本发明公开了一种湿法炼锌电解循环液脱除氟和氯的方法,用于脱除湿法炼锌电解循环液中的氟氯离子,属于湿法冶金技术领域;包括以下步骤:(1)向湿法炼锌电解循环液中加入氧化钙,反应并过滤,得到氟化钙沉淀和沉氟后液;(2)调节沉氟后液的pH为1.5~3.5,加入铜渣,反应并过滤,得到氯化铜沉淀和脱除氟氯的电解循环液;(3)脱除氟氯的湿法炼锌电解循环液返回锌冶炼系统使用,当湿法炼锌电解循环液中氟离子浓度累积到大于150mg/L、氯离子浓度累积到大于200mg/L时,重复步骤(1)到步骤(2);本发明的方法能够有效地对湿法炼锌电解循环液中氟、氯离子进行脱除,原料易得,工艺简单,投资成本低,氟氯脱除效果好,适合大规模推广应用
  • 湿法电解循环脱除方法
  • [发明专利]一种新型半透膜支撑体-CN202110032024.5在审
  • 不公告发明人 - 宁波日新恒力科技有限公司
  • 2021-01-11 - 2021-05-11 - B01D69/10
  • 本发明公开了一种新型半透膜支撑体,其结构由下而上分别为纺粘层、湿法无纺布层、复合在湿法无纺布中的胶粘层,最上面的离型膜层。本新型支撑体通过在湿法无纺布上浸润并发泡形成的胶粘层,可以在涂布半透膜时和半透膜表面形成粘结,在原有锚定效应的基础上增加了胶粘作用,明显提高了半透膜和支撑体之间的剥离强度,直接避免了因支撑体和半透膜局部无结合力产生的半透膜缺陷胶粘层可以填补湿法无纺布中较大孔隙,使得孔隙更加均匀,提高支撑体的表面平滑度,从而避免了因为湿法无纺布的低密度缺陷而导致的半透膜渗透。本支撑体在湿法无纺布下方复合了纺粘层,提高了抗拉强度,弥补了因湿法无纺布孔隙增大而降低强度的不足。
  • 一种新型半透膜支撑
  • [发明专利]湿法蚀刻机台辅助补药系统及湿法蚀刻系统-CN202110698678.1在审
  • 彭千华;陈春河;陈星;闵力;李志敏 - 深圳方正微电子有限公司
  • 2021-06-23 - 2021-10-01 - H01L21/67
  • 本发明涉及一种湿法蚀刻机台辅助补药系统,包括:补药控制器;换药信号获取单元,用于在获取到湿法蚀刻机台的换药信号时,使补药控制器停止动作;传感器,与补药控制器连接,并设于量杯中,用于检测量杯的液位;其中,补药控制器用于定时向湿法蚀刻机台的控制器发送碱液入量杯信号以使湿法蚀刻机台的控制器控制量杯中进碱液;补药控制器还用于在第一传感器检测到量杯达到第一液位时,向湿法蚀刻机台的控制器发送碱液入药槽信号以使湿法蚀刻机台的控制器控制量杯向药槽排碱液本发明外挂于湿法蚀刻机台,在不更改管路和执行元器件情况下,通过外控电路实现自动补药功能,维持药槽药液浓度,从而提升工艺稳定性。
  • 湿法蚀刻机台辅助补药系统
  • [发明专利]一种可冲散轧花水刺无纺布的制备方法-CN202111548990.9在审
  • 江雷;黄利寿;明道方 - 欣柔科技安陆有限公司
  • 2021-12-17 - 2022-03-04 - D04H1/492
  • 本发明公开了一种可冲散轧花水刺无纺布的制备方法,利用高速旋转的叶轮将高浓碎纸浆强力上下、前后挤压、搅拌、翻滚制得木浆纤维;通过流量计将木浆纤维、黏胶短切纤维混合成一定配比的布浆;将所得布浆通过冲浆泵送入斜网成形机,在湿法成型器上脱水形成湿法纤维网并置于湿法托网帘上;湿法托网帘带动纤维网首先经过剥离装置,通过剥离装置上横向设置的出风口使紧贴在湿法托网帘上面的纤维网与湿法托网帘产生空隙,然后再将纤维网经过转移辊从湿法托网帘转移到水刺托网帘上;纤维网在水刺托网帘的带动下进入水刺工序
  • 一种冲散轧花水刺无纺布制备方法
  • [发明专利]一种湿法贝斯皮革的制备方法-CN202211327525.7在审
  • 黎磊 - 福建兰峰制革有限公司
  • 2022-10-27 - 2023-01-31 - D06N3/00
  • 本发明涉及皮革技术领域,提出一种混料均匀的湿法贝斯浆料,可以提高成品革的质量的一种湿法贝斯皮革的制备方法,步骤如下:基布预处理:将基布水洗、展平、烘干至六七成干,得到潮湿的基布;湿法贝斯浆料制备:由以下重量份材料和步骤制备:树脂、N,N‑二甲基甲酰胺溶剂(DMF)、木质粉搅拌成浆;矿粉加入搅拌浆料混合均匀;搅拌浆料中加入酸性缓冲剂;搅拌浆料中加入油脂;搅拌浆料加入色浆、脱泡制得湿法贝斯浆料;涂覆:在潮湿基布表面上先涂覆一层湿法贝斯浆料;凝聚:将涂覆湿法贝斯浆料的基布浸入絮凝液中凝聚,制成贝斯前体;水洗、烫平、烘干:清洗贝斯前体,压辊定型,烘干,得到湿法贝斯;成品革制备:干法贴面,揉制花纹,得到成品革。
  • 一种湿法皮革制备方法
  • [发明专利]羊毛短纤维湿法毡的加工方法-CN201810843950.9有效
  • 张得昆;赖艳;李艳;刘造芳 - 西安工程大学
  • 2018-07-27 - 2021-03-05 - D21H15/02
  • 本发明公开了羊毛短纤维湿法毡的加工方法,先将短纤维切成0.5~20mm长度;制备质量百分比为0.0001%~0.01%的含聚氧化乙烯分散剂,再加入短纤维后搅匀制成纤维悬浮液,短纤维质量百分比为0.1%~2%;通过酸性溶液调节纤维悬浮液PH值为2~5;再将纤维悬浮液输送到非织造湿法设备的成型网帘上,经沉积、滤水、抽真空后制得纤维湿法网;采用聚乙烯醇制备浓度为1%~20%的粘合剂溶液,将其喷洒在纤维湿法网上;再将纤维湿法网置于50℃~120℃的烘箱中干燥0.1h~2.5h,冷却至室温后制得纤维湿法毡。本发明的加工方法,利用湿法非织造技术对废弃羊毛短纤维进行加工制造,实现了对废弃羊毛短纤维资源的回收利用,也节约了生产成本。
  • 羊毛短纤维湿法加工方法
  • [发明专利]单面湿法黑硅硅片的制备方法-CN201711035349.9有效
  • 宫龙飞;吉鑫;姜小松;阮文娟;金善明 - 扬州协鑫光伏科技有限公司;苏州协鑫光伏科技有限公司
  • 2017-10-30 - 2019-09-03 - H01L31/0236
  • 本发明涉及一种单面湿法黑硅硅片的制备方法,包括如下步骤:将若干个硅片以两两相并的方式放置,其中,两两相并的两个硅片之间的距离为0.1mm~3mm;采用动态反应对硅片进行双面抛光,得到双面抛光后的硅片;采用湿法刻蚀对双面抛光后的硅片进行单面制绒,其中,湿法刻蚀中的反应过程均静置,得到单面制绒后的硅片;以及将两两相并的单面制绒后的硅片进行分离,得到单面湿法黑硅硅片。上述单面湿法黑硅硅片的制备方法中,由于硅片以两两相并的方式放置以进行双面抛光以及单面制绒,且湿法刻蚀中的反应过程均静置,能够阻止在硅片背面形成绒面结构。因此,分离之后能够直接得到单面湿法黑硅硅片,无需后续再去除硅片背面的绒面,从而简化了制备方法。
  • 单面湿法硅片制备方法
  • [发明专利]单面湿法黑硅硅片-CN201711034094.4有效
  • 宫龙飞;金善明;张喜 - 扬州协鑫光伏科技有限公司;苏州协鑫光伏科技有限公司
  • 2017-10-30 - 2019-09-03 - H01L31/0236
  • 本发明涉及一种单面湿法黑硅硅片,采用单面湿法黑硅硅片的制备方法制备得到,包括如下步骤:将若干个硅片以两两相并的方式放置,其中,两两相并的两个硅片之间的距离为0.1mm~3mm;采用动态反应对硅片进行双面抛光,得到双面抛光后的硅片;采用湿法刻蚀对双面抛光后的硅片进行单面制绒,其中,湿法刻蚀中的反应过程均静置,得到单面制绒后的硅片;以及将两两相并的单面制绒后的硅片进行分离,得到单面湿法黑硅硅片。由于硅片以两两相并的方式放置以进行双面抛光以及单面制绒,且湿法刻蚀中的反应过程均静置,能够阻止在硅片背面形成绒面结构。因此,分离之后能够直接得到单面湿法黑硅硅片,无需后续再去除硅片背面的绒面,从而简化了制备方法。
  • 单面湿法硅片

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