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[发明专利]一种集约型湿制程设备-CN201510475544.8无效
发明人：朱科星;王珂;张长树;贺延峰 -专利权人：苏州创峰光电科技有限公司
申请日： 2015-08-06 - 公布日： 2015-11-18 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种集约型湿制程设备，包括主设备单元与药水添加槽单元，主设备单元包括复数个并排设置的主设备，药水添加槽单元包括复数个并排设置的药水添加槽，主设备包括：设备主体与支架机构，支架机构包括上下设置的泵浦支撑管本发明通过将主设备下方留设容置空间，以将药水添加槽、进水管路及排水管路全部收纳于机架空间内，避免了拆卸繁琐，运输麻烦，避免了零件的丢失或损坏，节省了场地空间，节省了工时，提高了组装效率。
一种集约型湿制程设备

[实用新型]一种集约型湿制程设备-CN201520584246.8有效
发明人：朱科星;王珂;张长树;贺延峰 -专利权人：苏州创峰光电科技有限公司
申请日： 2015-08-06 - 公布日： 2016-01-20 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种集约型湿制程设备，包括主设备单元与药水添加槽单元，主设备单元包括复数个并排设置的主设备，药水添加槽单元包括复数个并排设置的药水添加槽，主设备包括：设备主体与支架机构，支架机构包括上下设置的泵浦支撑管本实用新型通过将主设备下方留设容置空间，以将药水添加槽、进水管路及排水管路全部收纳于机架空间内，避免了拆卸繁琐，运输麻烦，避免了零件的丢失或损坏，节省了场地空间，节省了工时，提高了组装效率。
一种集约型湿制程设备

[实用新型]水平式湿制程设备的药液供给系统-CN201922052819.3有效
发明人：黄信航 -专利权人：黄信航
申请日： 2019-11-25 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种水平式湿制程设备的药液供给系统，包括横向依序并排有多个槽室的主设备单元及包括多组由药液添加槽、计量杯及液位浮球组件所形成的计量结构的药液添加单元。药液添加槽安装于槽室上。计量杯内设有可调高度的活塞且于下方形成计量空间，计量杯另设有供液管及输液管与计量空间相连通，供液管连接于药液添加槽与计量杯之间；输液管连接于计量杯与槽室的设备槽之间；液位浮球组件安装于计量杯上且与计量空间内连通
水平式湿制程设备药液供给系统

[实用新型]一种湿制程设备的过滤桶-CN201921312856.7有效
发明人：闫文生 -专利权人：广州市巨龙印制板设备有限公司
申请日： 2019-08-13 - 公布日： 2020-04-28 - 主分类号： B01D29/96 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种湿制程设备的过滤桶，包括桶头、桶盖、桶体和滤芯，桶头和桶体的顶部固定连接一体，滤芯和桶盖连接，滤芯穿过桶头插入桶体；还包括扭转轮组件和旋转手柄，桶头在相对的两侧分别设置扭转轮安装凹槽
一种湿制程设备过滤

[实用新型]湿制程设备的加工液增压喷洒装置-CN201920725133.3有效
发明人：吕信达 -专利权人：登泰电路机械股份有限公司
申请日： 2019-05-20 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： B05B7/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种湿制程设备的加工液增压喷洒装置，其包括有：一喷洒盘，将复数支喷液管安装于一框架内，各该喷液管各安装有复数个增压器；一供液主管，连接复数支供液支管，各该供液支管连接各该喷液管，该供液主管头端位于湿制程设备的加工液储槽内
湿制程设备加工增压喷洒装置

[实用新型]湿制程设备的加工液增压吸引装置-CN201920725765.X有效
发明人：吕信达 -专利权人：登泰电路机械股份有限公司
申请日： 2019-05-20 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： B05B9/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种湿制程设备的加工液增压吸引装置，包括有：至少一对吸引筒，各具有一纵向通道、一注液口与一吸液口；至少一对增压器，各将一外环体设置于该纵向通道内，该外环体的顶缘低于该注液口的底缘，该外环体的底缘高于吸液口的底缘
湿制程设备加工增压吸引装置

[实用新型]流体磁感应装置及PCB湿制程设备-CN202321174255.0有效
发明人：陈德和 -专利权人：东莞宇宙电路板设备有限公司
申请日： 2023-05-15 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G01F1/58 文献下载
摘要：本申请还提出了一种PCB湿制程设备。
流体感应装置 pcb 湿制程设备

[实用新型]一种便于清洗的水平式湿制程设备-CN201921720082.1有效
发明人：黄信航 -专利权人：黄信航
申请日： 2019-10-15 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：一种便于清洗的水平式湿制程设备，用于印刷电路板的加工作业，包括横向依序并排的多个槽室，每个槽室包括操作槽及设备槽，操作槽供印刷电路板进入，以进行相关制程作业，设备槽则为相关供液管路、泵浦、鼓风机或桶槽的设置区域，其中操作槽顶部周围设有操作围堰，设备槽顶部周围设有设备围堰；以此便于操作者日后的清洗维护。上述方案，通过操作围堰与设备围堰提供了一个环绕的围墙，操作员在用水清洗时，水只会流入各槽内并不会流至地面，操作现场地面保持干净，符合工厂规范；利用透明板的设计，不会影响操作员观察设备槽处的流量计或压力表
一种便于清洗水平式湿制程设备

[发明专利]优化4M制程的TFT阵列制备方法-CN201710175687.6有效
发明人：刘晓娣 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2017-03-22 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：本发明提供一种优化4M制程的TFT阵列制备方法。该方法包括：步骤10、在第一道光罩制程中，在玻璃基板上制备栅极层，并图形化栅极层；步骤20、在第二道光罩制程中，对光刻胶层进行曝光显影；第一次湿刻，图形化源漏极层；第一次氧气灰化，减少源漏金属层边的有源层拖尾大小；第一次干刻，形成有源层岛状结构；第二次氧气灰化，露出沟道区域的源漏极层；第二次湿刻，图形化源漏极；第三次氧气灰化，减少接触层拖尾；第二次干刻，刻蚀有源层；步骤30、在第三道光罩制程中，制备钝化层并图案化；步骤40、在第四道光罩制程中，制备透明电极层并图案化。本发明可以在原制程基础上，成功在沟道区消除重掺杂残留(减少约0.9um)，在不定形硅区减少约1um。
优化 tft 阵列制备方法

[发明专利]用湿式喷砂机处理镁合金表面的方法-CN01141850.8无效
发明人：徐政荣 -专利权人：徐政荣
申请日： 2001-09-20 - 公布日： 2003-04-09 - 主分类号： B24C1/08 文献下载
摘要：一种用湿式喷砂机处理镁合金表面的方法，其特征为，在室温条件下用湿式喷砂机对镁合金表面施以喷砂处理，压力源为空压机，使用自然物的砂材，砂水重量比为1∶10－4∶10，表面喷砂处理完成后，可直接施以涂装或电镀该表面处理方法除了可以去除镁合金的锈蚀、腐坏、污染的表面外，更可将镁合金射出或压铸工件表面原有的砂孔清除，此表面处理方法不仅可提高后续制程(电镀、电着涂装、喷漆烤漆)的密着性，更由于喷砂完成的工件可不需要经过化成处理及皮膜处理制程而直接作电镀、电着涂装、喷漆或烤漆等制程，完全消除了传统化学制程对环境所造成的污染。
用湿式喷砂机处理镁合金表面方法

[实用新型]一种新型PCB湿制程设备的送板装置-CN201320430450.5有效
发明人：冯建明;戴莹琰;李后清;王敦猛;寇化吉;钱伟 -专利权人：昆山市华涛电子有限公司
申请日： 2013-07-19 - 公布日： 2014-01-15 - 主分类号： B65H5/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型PCB湿制程设备的送板装置，电机及减速箱分别设置在送板装置的两侧；减速箱输出至安装有主动齿轮的主传动轴；主动齿轮与滚轮轴一端的滚轮轴从动齿轮啮合配合，同一端还装有相互啮合的滚轮轴啮合齿轮本实用新型的PCB湿制程设备的送板装置采用单电机双边传动，能有效避免滚轮轴的变形及两端滚轮转动速度的偏差，减小轴端跳动，而采用了经过反复实践的滚轮轴从动齿轮和滚轮轴啮合齿轮的直径及滚轮轴心间距之间的设计比例
一种新型 pcb 湿制程设备装置

[实用新型]一种印刷电路板湿制程设备喷洒管路间距调节结构-CN201821376173.3有效
发明人：程言起 -专利权人：吉安市瑞鸿电子有限公司
申请日： 2018-08-24 - 公布日： 2019-06-07 - 主分类号： B05B15/68 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种印刷电路板湿制程设备喷洒管路间距调节结构，包括进液管，所述进液管下端固定有储液箱，且储液箱下端安装有底座，所述底座外部固定有固定杆，且固定杆下端安装有滑杆，所述滑杆下端固定有连接座，该印刷电路板湿制程设备喷洒管路间距调节结构设有间距调整结构，使用简单，可以有效对喷头的位置进行调节，以方便电路板的制作生产。
下端滑杆间距调节结构湿制程设备印刷电路板喷洒管路固定柱弹簧内部安装储液箱分液管固定杆进液管连接管连接座限位板底座内置外部间距调整结构底板喷头本实用新型电路板内部设置外部设置出液孔固定孔密封板上端滚轮制作生产

[实用新型]晶圆湿制程设备用超声波电镀槽装置-CN201922317676.4有效
发明人：王振荣;刘红兵;朱雄;鲁珊 -专利权人：上海新阳半导体材料股份有限公司
申请日： 2019-12-22 - 公布日： 2020-09-01 - 主分类号： C25D17/02 文献下载
摘要：一种晶圆湿制程设备用超声波电镀槽装置，包括电镀用槽体单元以及药液循环加热单元，所述电镀用槽体单元内设有超声波转换单元以供对所述电镀用槽体单元产生超声波震动，所述药液循环加热单元连通于所述电镀用槽体单元以循环加热电镀或清洗所需的药液本实用新型所提供的晶圆湿制程设备用超声波电镀槽装置，其结构简明，方便使用，能充分使得药液均匀且保证较高的药液质量。
晶圆湿制程设备用超声波电镀装置

[实用新型]用于太阳电池湿制程中的风刀板、风刀、风刀组及设备-CN201020570728.5有效
发明人：黄洪杰;郑晔 -专利权人：无锡尚德太阳能电力有限公司;库特勒自动化系统(苏州)有限公司
申请日： 2010-10-18 - 公布日： 2011-06-22 - 主分类号： B08B5/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于太阳电池湿制程中的风刀板、风刀、风刀组及设备，所述风刀板内部具有一沿板长方向延伸的空腔，空腔的一侧开设有由风刀板外侧导通至空腔内的第一进风口，空腔的另一侧开设有多行沿板长方向排布的喷孔所述设备，包括风刀组。本实用新型结构简单，可以直接应用于太阳电池湿制程设备的药液槽内或药液槽之间；并具有挡液效果明显，耗气量低，需要的气体压力较低的优点。
用于太阳电池湿制程中的风刀板风刀风刀组设备

[发明专利]半导体元件的制造方法-CN202210185634.3在审
发明人：龙俊名;张哲豪 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2022-02-28 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H01L21/8238 文献下载
摘要：一种半导体元件的制造方法，实施方式提供对于沉积在源极/漏极凹槽中的介电层的处理制程。该处理制程改变介电层的水平部位的蚀刻选择性，以使介电层的水平部位具有低于介电层的垂直部位的蚀刻速率。通过湿式蚀刻制程去除垂直部位，以在源极/漏极凹槽的底部留下介电层的一部位。
半导体元件制造方法

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