专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种软X射线-真空紫外光学系统的设计方法及光学系统-CN202310036674.6在审
  • 曹一青 - 莆田学院
  • 2023-01-10 - 2023-05-09 - G02B27/00
  • 本发明公开了一种软X射线‑真空紫外光学系统的设计方法及光学系统,包括以下步骤:步骤一:基于软X射线‑真空紫外光学系统像差理论,分别计算系统中两个光学元件的场曲像差、彗像差、球像差、像散像差和畸变像差并建立总像差表达式;步骤二:应用光学元件2的像差来平衡光学元件1的像差,建立系统的场曲、彗、球、像散及畸变总像差平衡方程式;步骤三:构建光学系统总的像差平衡方程式作为系统成像质量评价目标函数;步骤四:应用自适应变异概率改进的遗传算法对目标函数进行求解
  • 一种射线真空紫外光学系统设计方法
  • [发明专利]一种自适应光学系统优化标定及控制方法-CN202210776794.5有效
  • 苏春轩;赖柏衡;赵旺;杨康建;程涛;王帅;杨平 - 中国科学院光电技术研究所
  • 2022-07-04 - 2023-07-18 - G02B26/06
  • 本发明公开了一种自适应光学系统优化标定及控制方法,以光束质量最优作为自适应光学系统的校正目标,根据实际自适应光学系统校正能力,修正传统夏克‑哈特曼波前传感器的系统标定点,并以此作为变形镜面形控制的参照,实现约束条件下最优自适应光学波前像差校正首先采用平面对夏克—哈特曼(Shack‑Hartmann)波前传感器进行标定后,测量变形镜每个驱动器的影响函数,并探测入射光束像差,随后采用优化算法以光束质量最好为目标,计算得到变形镜的优化面型以及对应的校正,最后以该差生成新的标定文件并替换原标定文件,控制变形镜进行波前像差校正。该方法适用于待校正光束像差幅值和空间频率超出变形镜校正能力的场合,可获得更好的光束质量。
  • 一种自适应光学系统优化标定控制方法
  • [发明专利]一种地下构造的反演方法-CN201710554305.0有效
  • 李闯;黄建平;李振春 - 中国石油大学(华东)
  • 2017-07-10 - 2019-02-26 - G01V1/30
  • 本申请实施例公开了一种地下构造的反演方法,所述方法包括:根据观测数据计算第一数据,获取第一数据中的绕射场和反射场;根据预设的反射场加权函数和所述反射场、绕射场,确定第二数据;根据所述第二数据本申请的方法通过分离绕射场和反射场,并利用加权函数,对反射场进行加权,以生成第二数据进行迭代反演,实现非均质地质目标体的高精度成像;还可以通过改变加权函数,在迭代过程中不断降低反射的权重,挺高对地下孔缝洞等非均质结构的识别度
  • 一种地下构造反演方法
  • [发明专利]低偏振像差三反光学系统设计方法、系统、设备及介质-CN202310822655.6有效
  • 罗敬 - 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  • 2023-07-06 - 2023-09-22 - G02B27/00
  • 本发明涉及光学设计领域,具体提供低偏振像差三反光学系统设计方法、系统、设备及介质,根据目标三反光学系统的要求确定自由设计参数的数目,并生成相应数目的随机数,根据赛德尔像差计算公式,以消除目标三反光学系统的初级球、初级像散和初级彗为目标,通过自由设计参数和多个方程确定剩余设计参数,根据高斯光学理论,得到目标三反光学系统中三块有光焦度反射镜的全部结构参数,将所有参数输入到光学设计软件中并计算得到目标三反光学系统的像差和偏振像差,根据像差和偏振像差构建评价函数,若评价函数不满足需求,则重新以随机数的形式生成新的自由设计参数,并再次计算评价函数,直到像差和偏振像差均满足需求时完成设计。
  • 偏振像差三反光学系统设计方法系统设备介质

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