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[发明专利]低真空系统持续充入工作气体时的动态压力精确控制系统-CN202010407037.1在审
发明人：王晓伟;阚存东;李虎 -专利权人：上海利方达真空技术有限公司
申请日： 2020-05-14 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： F04C28/24 文献下载
摘要：本发明公开了低真空系统持续充入工作气体时的动态压力精确控制系统，包括真空室、真空泵组、真空抽气管道阀门组件、工作气体输入单元、调节气体输入单元、压力测量单元和电气控制单元，真空泵组通过真空抽气管道对真空室抽取真空工作气体输入单元包括电磁阀Ⅰ、质量流量控制器Ⅰ及工作气体管路，向真空室充入工作气体。调节气体输入单元包括电磁阀Ⅱ、质量流量控制器Ⅱ及调节气体管路，向真空泵组抽气口充入大气。电气控制单元采用PLC控制真空泵组和电磁阀的开/关、设定工作气体充气流量、设定真空室目标压力值，根据压力测量单元反馈的真空室动态压力值，对调节气体充气流量进行PID调整，实现对真空室动态压力的精确控制。
真空系统持续工作气体动态压力精确控制系统

[实用新型]低真空系统持续充入工作气体时的动态压力精确控制系统-CN202020798672.2有效
发明人：王晓伟;阚存东;李虎 -专利权人：上海利方达真空技术有限公司
申请日： 2020-05-14 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： F04C28/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了低真空系统持续充入工作气体时的动态压力精确控制系统，包括真空室、真空泵组、真空抽气管道阀门组件、工作气体输入单元、调节气体输入单元、压力测量单元和电气控制单元，真空泵组通过真空抽气管道对真空室抽取真空工作气体输入单元包括电磁阀Ⅰ、质量流量控制器Ⅰ及工作气体管路，向真空室充入工作气体。调节气体输入单元包括电磁阀Ⅱ、质量流量控制器Ⅱ及调节气体管路，向真空泵组抽气口充入大气。电气控制单元采用PLC控制真空泵组和电磁阀的开/关、设定工作气体充气流量、设定真空室目标压力值，根据压力测量单元反馈的真空室动态压力值，对调节气体充气流量进行PID调整，实现对真空室动态压力的精确控制。
真空系统持续工作气体动态压力精确控制系统

[发明专利]用于产生真空的泵送系统及利用此泵送系统的泵送方法-CN201480082186.8在审
发明人： D·穆勒;J-E·拉切尔;T·伊尔切夫 -专利权人：阿特利耶博世股份有限公司
申请日： 2014-09-26 - 公布日： 2017-08-01 - 主分类号： F04C25/02 文献下载
摘要：产生真空的泵送系统(SP)，包含主要真空泵，该主要真空泵是具有气体抽吸入口(2)及气体排放出口(4)的干式螺杆型泵(3)，该气体抽吸入口被连接至真空室(1)，该气体排放出口在泵送系统的外部的气体排气出口(8)的方向上通向气体排空管道(5)中。该泵送系统包含止回阀(6)及辅助真空泵(7)，该止回阀被定位在该气体排放出口(4)与该气体排气出口(8)之间，该辅助真空泵被并联连接至该止回阀。该主要真空泵(3)被启动，以便泵送真空室(1)中所含有的气体，及将这些气体排放通过它的气体排放出口(4)，同时辅助真空泵(7)被启动。此外，辅助真空泵(7)在主要真空泵(3)泵送真空室(1)中所含有的气体的整个时间期间持续泵送，和/或在主要真空泵(3)维持真空室(1)中的一个限定的压力的整个时间期间持续泵送。
用于产生真空系统利用方法

[发明专利]一种基于微型真空泵测量惰性气体抽速的装置及方法-CN201811488521.0在审
发明人：郭美如;董猛;孙雯君;李刚;裴晓强;任正宜;管保国 -专利权人：兰州空间技术物理研究所
申请日： 2018-12-06 - 公布日： 2019-05-14 - 主分类号： F04B51/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于微型真空泵测量惰性气体抽速的装置及方法，装置包括气体微流量源、测试罩、真空抽气系统、活性气体抽气系统、磁悬浮转子真空计及待测微型真空泵；气体微流量源用于提供微流量惰性气体；真空抽气系统用于对测试罩内抽真空；活性气体抽气系统用于抽出活性气体，且抽速比待测微型真空泵的抽速大10⁴倍，同时对惰性气体无抽速；真空抽气系统预先对测试罩内抽真空，在测试过程中活性气体抽气系统与待测微型真空泵一起抽出测试罩中的气体，并由磁悬浮转子真空计测量动态平衡下的测试罩内的气体压力。本发明可以实现微型真空泵对惰性气体抽速的精确测量，且方法简单可行，易于操作。
微型真空泵抽速活性气体真空抽气系统测试抽气系统惰性气体测量惰性气体磁悬浮转子气体微流量抽真空真空计测量抽出测试过程气体压力动态平衡微流量速比

[发明专利]一种真空环境气体流量的测控方法及测控系统-CN201711410852.8有效
发明人：刘坤;张朔熙;雷震霖;毕德龙;王光玉;张军;张漫漫;马世玉;谢元华;巴德纯 -专利权人：东北大学;中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
申请日： 2017-12-23 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： G05D7/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种真空环境气体流量的测控方法及测控系统。其中，通过位于平衡室和需测控真空环境之间的第一流量调节阀来调控需测控真空环境的气体流量，通过平衡室使得需测控真空环境的气体流量等于压力气源的出气流量，只需测量压力气源的出气流量即可获得需测控真空环境的气体流量，即只需使流量计在恒定压力下工作而无需直接在真空下测量需测控真空环境的气体流量即可得到需测控真空环境的气体流量，由此解决了现有流量计无法在真空条件下进行正常准确的气体流量测量而无法获得准确真实的真空环境的气体流量的技术问题，大大提高了真空环境的气体流量的测量精度，反映真空环境气体流量的真实情况。同时也实现对需测控真空环境气体流量的控制。
一种真空环境气体流量测控方法系统

[发明专利]用于分析电池壳体的设备-CN202280007690.6在审
发明人：朴珖渊;崔洛熙;李炳洙 -专利权人：株式会社LG新能源
申请日： 2022-07-26 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： G01L17/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于分析电池壳体的设备，所述设备包括：密封部分，所述密封部分具有气体注射流动路径和真空形成流动路径；气体注射管线，所述气体注射管线被连接到所述气体注射流动路径的入口；真空形成管线，所述真空形成管线被连接到所述真空形成流动路径的出口；气体供应部分，所述气体供应部分用于将气体注射到所述电池壳体中；以及真空泵，所述真空泵用于在真空形成凹槽中形成真空。
用于分析电池壳体设备

[发明专利]一种真空系统及控制方法-CN201811438173.6在审
发明人：王永康 -专利权人：东莞市维健维康科技有限公司
申请日： 2018-11-29 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： F04B39/12 文献下载
摘要：本发明涉及抽真空技术领域，尤其涉及一种真空系统及控制方法，包括真空容器，所述真空容器的下方设置有真空泵，所述真空容器与真空泵之间设置有真空管，所述真空容器通过真空管与真空泵连通，所述真空泵的下方设置有气体收集容器，所述气体收集容器与真空泵之间设置有气体输送管，所述气体收集容器通过气体输送管与真空泵连通，所述真空泵的旁侧设置有用于给真空泵降温的工作液冷却系统，本发明可通过工作液冷却系统对真空泵进行冷却降温，从而提高整个真空系统的可运作时间，提升产能，并进一步通过气体收集容器对气体中粉尘颗粒进行收集，避免真空泵升温后，粉尘碰到高温的真空泵发生爆炸。
真空泵气体收集容器真空容器真空系统真空管气体输送管冷却系统工作液连通粉尘颗粒冷却降温抽真空产能粉尘爆炸运作

[实用新型]一种真空处理装置-CN201420140869.1有效
发明人：杜宏伟;孙培会;陈鹏 -专利权人：北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2014-03-26 - 公布日： 2014-10-22 - 主分类号： F04B39/16 文献下载
摘要：本实用新型提供一种真空处理装置，用于对真空干燥设备内的待处理基板进行抽真空处理，该真空处理装置包括一干泵，真空处理装置还包括：用于对由真空干燥设备抽出的气体进行过滤，并使过滤后的气体进入干泵内的过滤装置；过滤装置包括：用于对由真空干燥设备抽出的气体进行冷却，以使气体中的杂质气体凝华和/或液化后排出的冷却单元，冷却单元的气体入口与真空干燥设备的气体出口连通，冷却单元的气体出口与干泵的气体入口连通。本实用新型所提供的真空处理装置，其结构简单，通过真空干燥设备与干泵之间设置一过滤装置，可以将真空干燥设备抽出的气体中杂质气体凝华或液化后排出掉，从而减少了进入干泵内的杂质气体，可以延长干泵的使用寿命。
一种真空处理装置

[发明专利]真空处理系统、支撑结构和用于运输基板的方法-CN202180076621.6在审
发明人：托马斯·格比利;沃尔夫冈·布什贝克 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-11-15 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于处理基板的真空处理系统(100)，所述真空处理系统包括：第一真空腔室(105)，所述第一真空腔室具有第一气体压力；第二真空腔室(106)，所述第二真空腔室具有第二气体压力；以及气体分隔单元(120)，所述气体分隔单元在所述第一真空腔室(105)与所述第二真空腔室(106)之间。所述气体分隔单元提供在所述第一真空腔室与所述第二真空腔室之间的连接。所述气体分隔单元(120)被适配成与一个或多个支撑结构(110)相互作用，以便最小化从所述第一真空腔室(105)到所述第二真空腔室(106)和/或从所述第二真空腔室到所述第一真空腔室的气体流动。
真空处理系统支撑结构用于运输方法

[发明专利]低真空气体的快速无损采样装置及采样方法-CN202010403129.2在审
发明人：罗艳;吴晓斌;王魁波;谢婉露;李慧 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2020-05-13 - 公布日： 2020-09-15 - 主分类号： G01N1/24 文献下载
摘要：本申请实施例中提供了低真空气体的快速无损采样装置及采样方法，无损采样装置包括：真空获得组件，用于获取一定气压的真空；采样组件，用于对待测气体进行减压采样得到采样气体；气体分析组件，用于在真空内对采样气体进行气体分析；以及连接真空获得组件、采样组件以及气体分析组件的控制模块；其中，气体分析组件设置开口与所述真空获得组件相连通。通过本申请的低真空气体的快速无损采样装置及采样方法可以使采样得到的气体含量比例与原有工艺腔室中的气源一致，实现无损采样，使最后的气体成分分析更加准确。
真空气体快速无损采样装置方法

[发明专利]老化歧管-CN200810142872.6无效
发明人： B·E·科尔 -专利权人：霍尼韦尔国际公司
申请日： 2008-05-28 - 公布日： 2008-12-10 - 主分类号： H01J9/42 文献下载
摘要：两腔室式系统，在一个腔室中填充有气体，而另一个为真空，提供了避免环境气体污染的老化一个或多个真空管的方法。真空管通常在密封后被老化。一些过程在密封真空管之前老化它们。老化过程可花费数天，这使得环境气体有足够的机会污染真空管。真空管的填充管穿过真空腔室，然后进入填充气体腔室。泄漏到填充管的环境气体被真空抽出。类似地，泄漏到填充管的填充气体也被抽到真空。如此，环境气体在污染真空管之前被抽走。
老化歧管

[实用新型]用于真空焊接炉的保护气体处理系统-CN201820232065.2有效
发明人：赵永先;张延忠 -专利权人：北京仝志伟业科技有限公司
申请日： 2018-02-09 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： B23K37/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种用于真空焊接炉的保护气体处理系统，包括真空焊接腔体、保护气体存储装置、真空泵，保护气体存储装置经第一管路接真空焊接腔体，真空泵经第二管路接真空焊接腔体，其特征在于：还包括保护气体冷却单元,保护气体冷却单元通过管路与真空焊接腔体连接。
保护气体真空焊接腔体保护气体冷却真空焊接炉处理系统存储装置真空泵本实用新型

[实用新型]一种评价吸附剂吸附性能的系统-CN201821070240.9有效
发明人：兰芳;王超 -专利权人：东莞市科奔实业有限公司;东莞市万恩环保科技有限公司
申请日： 2018-07-06 - 公布日： 2019-01-11 - 主分类号： G01N30/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种评价吸附剂吸附性能的系统，该系统包括气体发生装置(1)、气体恒温装置(2)、真空箱(3)和恒温装置(5)，其中，气体发生装置(1)与真空箱(3)连通并向真空箱(3)输送检测气体；气体恒温装置(2)设置于气体发生装置(1)的外周，调节和控制气体发生装置(1)内检测气体的温度；真空泵(5)抽真空使真空箱(3)为负压状态，在真空箱(3)内放置的待测样品吸附由气体发生装置(1)输送的检测气体；所述真空箱(3)的外侧还设置有调节和控制真空箱(3)温度的恒温装置(4)。
真空箱气体发生装置气体恒温装置评价吸附剂恒温装置吸附性能检测负载型吸附剂本实用新型待测样品负压状态准确度抽真空真空泵外周吸附连通配方筛选

[发明专利]一种用于常压多气体漏率测试的质谱分析检测装置及方法-CN202011332641.9有效
发明人：李宏宇;代明桥;韩洋;彭光东;张世一;沈超;花雨;苏东平 -专利权人：上海卫星装备研究所
申请日： 2020-11-24 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： G01M3/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于常压多气体漏率测试的质谱分析检测装置及方法，包括：气体检测室与真空系统连接；气体检测室与气体分析及校准系统连接；气体检测室与循环气体取样系统连接；真空计与气体检测室连接；气体检测室用于气体检测与分析；真空系统用于气体检测室抽真空，真空系统抽速满足气体检测室工作真空压力要求；气体分析及校准系统用于漏率检测以及质谱分析仪的标定；循环气体取样系统将密闭检漏容器内的气体进行循环并引入气体检测室；真空计用于对气体检测室进行真空测量本发明的常压多气体漏率测试的质谱分析方法及检测装置能够快速、精确、可靠的对航天器的整体密封性能进行高精度、快速漏率测试。
一种用于常压气体测试谱分析检测装置方法

[发明专利]真空容器的压力控制方法及压力控制装置-CN200880112627.9有效
发明人：斋藤英树;佐伯敏朗 -专利权人：日立造船株式会社
申请日： 2008-11-19 - 公布日： 2010-09-15 - 主分类号： G05D16/20 文献下载
摘要：本发明提供一种真空处理装置的真空容器的压力控制方法，真空处理装置具有设置在真空容器的气体排出管的真空阀、测量真空容器内压力的压力计以及检测真空阀的阀开度的开度检测器，其中，基于根据真空阀的实际阀开度求出的推测排出气体量和在上次运算周期求出的推测流入气体量间的气体流量差，通过计算求出虚拟真空容器中的压力，基于该求出的计算压力与压力计测量的实际的真空容器的测量压力之差求出当前的推测流入气体量，在该推测流入气体量上加上基于作为目标的设定压力与测量压力间的压力偏差得到的校正气体量，求出设定排出气体量，并控制真空阀的阀开度以成为该设定排出气体量。
真空容器压力控制方法装置

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