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[实用新型]等离子体液产生装置-CN201720646493.5有效
发明人：卢仁杰;萧咏棱;卢盈霖 -专利权人：拜普生医科技股份有限公司
申请日： 2017-06-06 - 公布日： 2018-03-16 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本实用新型的题目是等离子体液产生装置。本实用新型公开一种等离子体液产生装置。等离子体液产生装置包括等离子体产生模块、驱动电路、调控模块以及混合机构。驱动电路与等离子体产生模块耦接，并驱动等离子体产生模块产生第一种等离子体粒子与第二种等离子体粒子。调控模块与驱动电路耦接，调控模块控制驱动电路，进而调控等离子体产生模块产生的第一种等离子体粒子与第二种等离子体粒子的比例。混合机构连接等离子体产生模块并混合第一种等离子体粒子、第二种等离子体粒子及液体，以产生等离子体液。
等离子体液产生装置

[实用新型]微波等离子体辅助原子层沉积设备-CN202221851674.9有效
发明人：王东君;陈宇林;郭敏 -专利权人：英作纳米科技（北京）有限公司
申请日： 2022-07-19 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种微波等离子体辅助原子层沉积设备，包括：微波等离子体发生器、等离子体扩散腔、真空反应室和反应源接口。微波等离子体发生器含有等离子体快速发生装置。微波等离子体发生器通过等离子体扩散腔与真空反应室相连通。等离子体扩散腔与真空反应室通过开合装置连接，通过该开合装置，可以方便样品取放样。本实用新型的微波等离子体辅助原子层沉积设备，能够提供微波辐照，提高等离子体的能量和密度，为原子层沉积的提供合适的能量，降低反应温度。本实用新型的微波等离子体辅助原子层沉积设备含有等离子体快速发生装置以及等离子体反应气体特殊脉冲进入模式，可以实现毫秒级的等离子体脉冲，大大缩短反应时间。
微波等离子体辅助原子沉积设备

[实用新型]等离子发动机-CN201621377085.6有效
发明人： D·E·A·兰岑德费尔;刘智宇 -专利权人：深圳市矛村电子科技有限公司
申请日： 2016-12-15 - 公布日： 2017-09-12 - 主分类号： F03H1/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种等离子发动机，它包括等离子体发生器、加热器和排放端，该等离子体发生器包括输入端和等离子体生成室，该加热器沿等离子体的流动方向布置在等离子体发生器的下游并用于加热等离子体，该排放端沿等离子体的流动方向布置在加热器的下游并用于将加热后的等离子体排出等离子发动机根据本实用新型，所述等离子体发生器为螺旋波型的等离子体发生器，它的等离子体生成室与加热器物理隔离，并且它的输入端设置有离子推进模块，该离子推进模块能在环境压力下点燃所述等离子体生成室中生成的等离子体。本实用新型的等离子发动机具有工作效率高并且经济性好的优点。
等离子发动机

[实用新型]大气常压差分输出激励低温等离子体玻璃清洗装置-CN201620929248.0有效
发明人：陈选章;万良淏 -专利权人：南京苏曼等离子科技有限公司
申请日： 2016-08-24 - 公布日： 2017-05-03 - 主分类号： B08B11/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种等离子体清洗设备，具体为一种大气常压差分输出激励低温等离子体玻璃清洗装置，包括低温等离子体激励部分和低温等离子体发生装置；所述低温等离子体激励部分包括低温等离子体电源发生器，低温等离子体变压器；低温等离子体发生装置包括两只电极，所述低温等离子体电源发生器通过等离子体变压器与两只等离子体电极相连；低温等离子体发生装置还包括低温等离子体电极间隙调整装置、等离子体电极固定端板、整体金属方形支架，和散热排风的接口本实用新型结构简单、操作简单、成本低、无废弃物、无污染，能够得到传统的玻璃清洗方法难以得到的处理效果。
大气常压输出激励低温等离子体玻璃清洗装置

[实用新型]等离子体设备-CN202223424556.2有效
发明人：王思宇;郭东;张赛谦 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2022-12-20 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本实用新型提供一种等离子体设备，涉及等离子体处理技术领域。该等离子体设备包括电源装置、匹配装置、主等离子体装置和远程等离子体装置；电源装置和匹配装置均位于远程等离子体装置外；匹配装置内设有切换开关，电源装置和切换开关连接；主等离子体装置设有第一通电端，远程等离子体装置设有第二通电端该等离子体设备通过将电源装置和匹配装置均外置于远程等离子体装置外可以有效节约远程等离子体设备的内部空间、减小远程等离子体设备的体积和重量，且该等离子体设备通过切换开关可以择一向主等离子体装置和远程等离子体装置供电，保证主等离子体装置和远程等离子体装置分别可以正常工作。
等离子体设备

[实用新型]等离子体足部理疗机-CN201720877911.1有效
发明人：王雨蓬;李毅;李双豆;杨锡信;赵龙;周磊;赵国柱 -专利权人：烟台海灵健康科技有限公司
申请日： 2017-07-19 - 公布日： 2018-12-25 - 主分类号： A61N1/44 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种等离子体足部理疗机，包括等离子体发生器升降装置(1)、等离子体发生器(2)、等离子体足部理疗箱(3)、抽气系统(4)、触摸控制系统(5)、气源(6)和电源(7)，所述等离子体发生器升降装置(1)设置在等离子体发生器(2)下部并连接控制等离子体发生器(2)上升下降，等离子体发生器(2)设置在等离子体足部理疗箱(3)下方并与等离子体足部理疗箱(3)相连。本实用新型的等离子体足部理疗机产生的等离子体，具有杀菌消毒作用，对于大多数的皮肤疾病具有显著治疗效果，同时等离子体能大幅提高人体免疫能力，具有防病保健的效果，并且能够加速脚部血液循环，促进新陈代谢，缓解疲劳
等离子体等离子体发生器足部理疗本实用新型升降装置触摸控制系统脚部血液循环人体免疫能力杀菌消毒作用抽气系统防病保健缓解疲劳连接控制皮肤疾病新陈代谢治疗效果等离子气源电源体能

[实用新型]等离子体刮痧仪-CN202123296503.2有效
发明人：聂兰兰;王玫芝 -专利权人：广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院
申请日： 2021-12-23 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： A61H7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种等离子体刮痧仪，包括：壳体(7)；设置于所述壳体(7)内的负压吸痧部件(9)；设置于所述壳体(7)内的等离子体放电部件(6)，所述等离子体放电部件(6)的等离子体出口朝向所述负压吸痧部件本实用新型提供的等离子体刮痧仪，通过增加等离子体放电部件，在刮痧过程中，由于等离子体放电部件的等离子体出口朝向负压吸痧部件的吸痧口，因此，使得等离子体由等离子体出口向刮痧部位流出，在刮痧的同时使得等离子体作用到刮痧部位的皮肤上在出痧后皮肤表面组织损伤而使得皮肤屏障受损的情况下，有效避免皮肤感染细菌的问题；由于等离子体促进胶原蛋白的产生，使得等离子体能够促进皮肤屏障修复。
等离子体刮痧

[实用新型]一种液体瀑布式处理的介质阻挡低温等离子体装置-CN202020465416.1有效
发明人：余莉萍;沈中增;唐田田;窦凤玲;李玲玲 -专利权人：苏州敬天爱人环境科技有限公司
申请日： 2020-04-02 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本实用新型涉及等离子体技术领域，特别涉及一种液体瀑布式处理的介质阻挡低温等离子体装置，包括等离子体装置本体，等离子体装置本体的下表面固定设置有等离子体装置底板，等离子体装置底板的上表面焊接设置有等离子体装置主承轴等离子体装置主承轴采用不锈钢材料制成，本实用新型通过设计的等离子体介质阻挡器可在电子离开原子核时进行阻挡，使得电离的过程中离子中正负电荷总量相等，通过设计的等离子体介质阻挡控制按钮可有效对介质阻挡进行控制，等离子体低温调节器可有效使得离子体装置就需要在低温环境下进行，使得外层电子摆脱原子核的束缚成为自由电子稳定，通过设计的等离子体装置电源开关可有效控制等离子体装置开关。
一种液体瀑布处理介质阻挡低温等离子体装置

[发明专利]等离子体设备和系统-CN200780043771.7有效
发明人：弗拉基米尔·E·贝拉斯琴科;奥列格·P·索洛伦科;安德里·V·斯米尔诺夫 -专利权人：弗拉基米尔·E·贝拉斯琴科;奥列格·P·索洛伦科;安德里·V·斯米尔诺夫
申请日： 2007-11-27 - 公布日： 2009-12-16 - 主分类号： B44C1/22 文献下载
摘要：一种等离子体设备，包括第一阳极等离子体头和第一阴极等离子体头。每个等离子体头包括电极、等离子体流动通道和布置在所述等离子体流动通道的至少一部分之间的主气体入口。第一阳极等离子体头和第一阴极等离子体头布置成相对彼此成一角度。等离子体设备也包括第二阳极等离子体头和第二阴极等离子体头。每个等离子体头包括电极、等离子体流动通道、以及布置在等离子体流动通道和电极的至少一部分之间的主气体入口，第二阳极等离子体头和第二阴极等离子体头布置成相对彼此成一角度。
等离子体设备系统

[实用新型]一种食用菌棒输送式等离子体杀菌除卵设备-CN202122385481.0有效
发明人：沈振兴;樊灏;孙健;杨柳;田兴武;燕党平 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2021-09-29 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： A61L2/14 文献下载
摘要：本实用新型提供一种食用菌棒输送式等离子体杀菌除卵设备，包括支撑装置、等离子体发生装置和传输装置；等离子体发生装置和传输装置设置在支撑装置上，等离子体发生装置用于在高频交流电压作用下放电产生等离子体；传输装置用于传输食用菌棒，食用菌棒在传输装置上传输时位于等离子体发生装置产出的等离子体覆盖范围内。本实用新型采用等离子体发生装置产生等离子体，利用等离子体对食用菌棒进行消毒杀菌，能耗低、成本低，且不会造成二次污染。
一种食用菌输送等离子体杀菌设备

[发明专利]等离子体处理设备和方法-CN201880084092.2有效
发明人：马绍铭;仲華;杨晓晅;D·V·德塞;瑞安·M·帕库尔斯基 -专利权人：玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司
申请日： 2018-12-13 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：提供了等离子体处理设备和方法。在一个示例实施方式中，等离子体处理设备包括处理室。等离子体处理设备包括设置于处理室中的基座。基座用于支撑工件。等离子体处理设备包括在竖直方向上设置于处理室上方的等离子体室。等离子体室包括介电侧壁。等离子体处理设备包括将处理室与等离子体室分开的分离格栅。等离子体处理设备包括邻近介电侧壁的第一等离子体源。第一等离子体源用于在分离格栅上方的等离子体室中产生远程等离子体。等离子体处理设备包括第二等离子体源。第二等离子体源用于在分离格栅下方的处理室中产生直接等离子体。
等离子体处理设备方法

[发明专利]等离子体处理系统中的等离子体限制结构-CN200980150203.6有效
发明人：艾利克·哈德森;安德里亚斯·费舍尔 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-12-16 - 公布日： 2011-11-16 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：提供了一种配置为用于在衬底的等离子体处理中限制等离子体处理室中的等离子体的可移动等离子体限制结构。该可移动等离子体限制结构包括配置为环绕该等离子体的可移动面向等离子体结构。该可移动等离子体限制结构还包括可移动导电结构，该可移动导电结构设置于可移动面向等离子体结构的外部且配置与所述可移动面向等离子体结构作为单个装置展开和收缩以促进该衬底的处理。可移动导电结构在等离子体处理中射频(RF)接地。在等离子体处理中可移动面向等离子体结构配置于等离子体和可移动导电结构之间以便在等离子体处理中来自于等离子体的RF流经由面向等离子体结构流向可移动导电结构。
等离子体处理系统中的限制结构

[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法-CN201910437815.9有效
发明人：松浦广行 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-05-24 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供等离子体处理装置和等离子体处理方法，能够抑制由于生成等离子体而导致的等离子体生成部的损伤。等离子体处理装置包括具有等离子体电极的等离子体生成部，能够对收纳在处理容器内的基片进行等离子体处理，上述等离子体生成部的至少与所述等离子体电极相对的部分由合成石英形成。
等离子体处理装置方法

[发明专利]等离子体生成装置及方法-CN201080004507.4无效
发明人：钟江正巳;加藤恭一;尾上薰;福冈大辅 -专利权人：里巴贝鲁株式会社
申请日： 2010-01-12 - 公布日： 2011-12-14 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明的课题是提供一个在高洁净、高纯度的状态下，能够产生并维持稳定的高密度等离子体的等离子体装置。解决上述课题的技术方案是：配有第1等离子体生成室10(配有气体供应口12和等离子体出口13)、第1等离子体生成装置11(在不暴露在第1等离子体生成室空间内的情况下配置)、第2等离子体生成室20(配有等离子体供应口22，供应通过等离子体出口在第1等离子体生成室产生的等离子体)和第2等离子体生成装置21(在不暴露在第2等离子体生成室空间内的情况下配置，在第2等离子体生成室内产生比第1等离子体生成室产生的等离子体更高密度的等离子体)的等离子体生成装置。
等离子体生成装置方法

[发明专利]具有直接出口环状等离子体源的等离子体处理系统-CN201580066116.8有效
发明人： D·卢博米尔斯基 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-11-18 - 公布日： 2020-07-31 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：等离子体处理系统包括处理腔室及等离子体源，该等离子体源在等离子体腔中产生等离子体。该等离子体腔围绕环轴是实质对称的。该等离子体源在该等离子体腔的第一轴向侧上限定多个出口孔。由该等离子体所产生的等离子体产物在轴向方向上通过该多个出口孔从该等离子体腔朝该处理腔室传递。一种等离子体处理的方法，包括以下步骤：在实质环状的等离子体腔内产生等离子体以形成等离子体产物，该实质环状的等离子体腔限定环轴，及通过多个出口开口向处理腔室将等离子体产物直接分布进处理腔室中，该多个出口开口实质在方位上分布于该等离子体腔的第一轴向侧周围
具有直接出口环状等离子体处理系统

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