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[发明专利]一种抑制轨迹误差的随机抛光轨迹运动方法-CN201110082649.9有效
发明人：施春燕;袁家虎;伍凡;万勇建;范斌;雷柏平 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2011-04-02 - 公布日： 2011-11-23 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明一种抑制轨迹误差的随机抛光轨迹运动方法包括：确定待抛光光学元件表面的待抛光点和驻留时间分布，用随机轨道算法生成待抛光光学元件表面离散点的抛光顺序和抛光轨迹；用驻留时间补偿方法计算抛光头运动轨迹经历抛光点的停留时间分布，获得待抛光光学元件表面离散点准确的驻留时间；根据驻留时间的分布，由机床代码转换程序生成随机轨迹数控抛光程序代码，在数控抛光机床执行随机轨迹数控抛光程序代码对待抛光光学元件表面各个点进行抛光。随机轨迹抛光方法根据面形分布，使抛光头和磨粒的运动轨迹近似为随机凌乱分布，待抛光光学元件不会残留规则的轨迹划痕，而且使规则的轨迹间的去除函数迭代误差均匀的分布在整个面形中，提高面形精度。
一种抑制轨迹误差随机抛光运动方法

[发明专利]一种螺旋正弦式小工具抛光去除金刚石刀痕的方法-CN201610959076.6在审
发明人：王朋;杜雪;朱志伟;回长顺 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2016-11-03 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种螺旋正弦式小工具抛光去除金刚石刀痕的方法，包括步骤规划运动轨迹，确定抛光运动轨迹以及轨迹参数抛光运动轨迹为在螺旋式运动轨迹的基础上叠加正弦运动方式，这种运动轨迹称之为连续螺旋正弦式运动轨迹；轨迹参数的设置以满足抛光运动轨迹与刀痕轨迹正交叉为准；根据步骤一中确定的抛光运动轨迹以及轨迹参数，编程得到抛光运动轨迹，并将运动各点的坐标值，输入数控机床，进行抛光，去除金刚石刀痕。本发明采用螺旋+正弦连续轨迹方式，最大限度的保证了抛光轨迹与车削刀痕交叉的一致性，使得去除更加均匀；此种组合的抛光方式打乱了单一螺旋式抛光轨迹，最大限度的避免了中频误差的产生，有利于提升光学表面的质量。
一种螺旋正弦工具抛光去除金刚石刀痕方法

[实用新型]晶圆抛光系统-CN202122971341.1有效
发明人：杨渊思;徐枭宇;周智鹏;吴俊逸 -专利权人：杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2021-11-30 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆抛光系统，至少包括一个抛光单元；抛光单元包括晶圆传输通道，及至少两个抛光模组，抛光模组位于晶圆传输通道的两侧；抛光模组包括抛光平台和抛光臂，抛光臂可带动晶圆相对抛光平台活动，以实现抛光工艺；晶圆传输通道上有至少两个工作位，晶圆传递装置可在工作位之间移动；晶圆在一个抛光模组的抛光臂和晶圆传输通道之间的传输轨迹为第一轨迹；晶圆在另一抛光模组的抛光臂和晶圆传输通道之间的传输轨迹为第二轨迹；第一轨迹，晶圆传递装置的移动轨迹，及第二轨迹的走向呈近似Z字形。本实用新型稳定性更好，灵活度高，抛光效果更佳。
抛光系统

[发明专利]轨迹控制式重心可调抛光机构及抛光方法-CN202011366478.8有效
发明人：柯晓龙;邱磊 -专利权人：厦门理工学院
申请日： 2020-11-29 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： B24B13/01 文献下载
摘要：本发明公开了一种轨迹控制式重心可调抛光机构及抛光方法，该抛光机构包括抛光盘、动力传动机构、重心调整机构及支撑机构；所述的动力传动机构包括电机及动力主轴，该动力主轴与该抛光盘之间采用柔性连接；该重心调整机构包括轨迹板、摆动板以及施压机构；该轨迹板固定不动，其上开有轨迹槽；该摆动板轴接所述动力主轴之外，其上设有与轨迹槽配合的凸块；该施压机构位于摆动板及抛光盘之间，用以将摆动板的摆动压力传递给抛光盘。本发明所述的轨迹控制式重心可调抛光盘机构及其抛光方法，利用轨迹板的轨迹槽，通过调节抛光盘的重心可以减小边缘效应，具有操作简单，实用性强、可自动化控制等特点。
轨迹控制重心可调抛光机构方法

[发明专利]用于CMP抛光垫的碎屑移除凹槽-CN201710180712.X在审
发明人： L·M·库克;Y·童;J·索;J·J·亨德伦;P·康奈尔 -专利权人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
申请日： 2017-03-23 - 公布日： 2017-10-03 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本发明提供一种适用于抛光或平面化半导体、光学和磁衬底中的至少一个的抛光垫。所述抛光垫包含抛光层，所述抛光层具有聚合物基质、厚度以及表示所述抛光层的用于抛光或平面化的工作区的抛光轨迹。径向排放凹槽延伸穿过所述抛光轨迹，以促进在所述抛光垫旋转期间穿过所述抛光轨迹且在半导体、光学和磁衬底中的所述至少一个下面且接着超出所述抛光轨迹朝向所述抛光垫的周边的抛光碎屑移除。
用于 cmp 抛光碎屑凹槽

[发明专利]用于对光学镜片进行抛光的方法-CN202280014413.8在审
发明人： L·马丁;C·霍;S·皮诺特;J·莫伊内 -专利权人：依视路国际公司
申请日： 2022-02-11 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： B24B13/06 文献下载
摘要：一种对旨在安装在眼镜架中的光学镜片的表面进行抛光的方法，其中，该方法包括：获得代表光学镜片要安装在眼镜架中的磨边轮廓的磨边轮廓数据；以及确定与抛光工具要仅在磨边轮廓内对光学镜片的表面进行抛光的轨迹相对应的抛光工具轨迹数据；将抛光工具轨迹数据提供给携带抛光工具的CNC机床；以及基于抛光工具轨迹数据，经由抛光工具对光学镜片的表面进行抛光。
用于光学镜片进行抛光方法

[发明专利]中小航空发动机压气机叶片的抛光方法-CN202110318018.6有效
发明人：龙永胜;周辉炼;项德义;苏庆怀;王科昌;易鹏 -专利权人：中国航发南方工业有限公司
申请日： 2021-03-25 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： B24B19/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种中小航空发动机压气机叶片的抛光方法，包括：叶片抛光的区域划分，将叶片型面划分成多个抛光区域，确定抛光轨迹和选取抛光工具；不同区域的抛光参数选取，根据叶片不同区域的空间形状、空间尺寸及加工余量确定不同的抛光参数；抛光方法验证，根据抛光区域、抛光轨迹及抛光参数，将获得的抛光叶片进行抛光方法验证，并与手工抛光叶片进行比对；抛光方法的确定，结合验证试验修正抛光的区域划分、各个区域的抛光轨迹及各个区域的抛光参数；依据修正后的抛光区域划分、各个区域的抛光轨迹及各个区域的抛光参数，进行中小航空发动机压气机叶片抛光。
中小航空发动机压气叶片抛光方法

[发明专利]一种提高磁流变机器人抛光设备轨迹精度的方法-CN202210069150.2在审
发明人：李龙响;程润木;罗霄;薛栋林;张学军 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2022-01-21 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：一种提高磁流变机器人抛光设备轨迹精度的方法涉及光学制造技术领域，解决了磁流变机器人抛光设备不能达到磁流变抛光技术高精度加工时对轨迹精度要求的问题，包括：获得靶球坐标和抛光轮最低点坐标之间的转换关系；空载条件下运行第1理论加工轨迹得到第1加工轨迹，对第1理论加工轨迹补偿得到更新后的第1加工轨迹；第1加工轨迹作为第2理论加工轨迹，并在带载条件下运行得到第2加工轨迹，对第2理论加工轨迹补偿得到更新后的第2加工轨迹；第2加工轨迹作为第3理论加工轨迹，并在加工过程时运行得到第3加工轨迹，对第3理论加工轨迹补偿得到更新后的第3加工轨迹。本发明提升了磁流变机器人抛光设备的轨迹精度。
一种提高流变机器人抛光设备轨迹精度方法

[发明专利]一种晶圆抛光系统-CN202111041137.8在审
发明人：杨渊思;徐枭宇;周智鹏;吴俊逸 -专利权人：杭州众硅电子科技有限公司
申请日： 2021-09-07 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆抛光系统，至少包括一个抛光单元；抛光单元包括晶圆传输通道，及至少两个抛光模组，抛光模组位于晶圆传输通道的两侧；抛光模组包括抛光平台和抛光臂，抛光臂可带动晶圆相对抛光平台活动，以实现抛光工艺；晶圆传输通道上有至少两个工作位，晶圆传递装置可在工作位之间移动；一个抛光模组的抛光臂从晶圆传输通道内的工作位上获取晶圆后，完成该抛光工艺，将晶圆沿第一轨迹放回至晶圆传输通道，晶圆传递装置移动，将其转移至另一工作位，另一抛光模组的抛光臂沿第二轨迹从该工作位获取晶圆后，完成另一抛光工艺；第一轨迹，晶圆传递装置的移动轨迹，及第二轨迹的走向呈近似Z字形。本发明稳定性更好，灵活度高，抛光效果更佳。
一种抛光系统

[发明专利]径向倾斜的抛光垫-CN200610074776.3有效
发明人： G·P·马尔多尼 -专利权人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
申请日： 2006-04-11 - 公布日： 2006-10-18 - 主分类号： B24D17/00 文献下载
摘要：可用来抛光磁性基片、光学基片和半导体基片的抛光垫。该抛光垫包括抛光层，该抛光层具有一旋转中心，以及与该旋转中心同心并具有一定宽度的环形抛光轨迹。该环形抛光轨迹的宽度不含非径向凹槽。该抛光垫具有位于所述环形抛光轨迹宽度内抛光层中的大量径向微沟槽，大部分径向微沟槽主要为径向取向，其平均宽度小于50微米。
径向倾斜抛光

[发明专利]一种微结构表面三维椭圆振动超精密抛光方法-CN201510870436.0有效
发明人：王桂莲;周晓勤;周海波;牛兴华;胡亚辉;王玉花;李小海;焦仁宝;嵇国富 -专利权人：天津理工大学
申请日： 2015-12-01 - 公布日： 2017-07-04 - 主分类号： B24B35/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种微结构表面超精密抛光的三维椭圆振动轨迹计算方法，抛光过程中抛光工具与工件之间有一定的相对速度和一定的抛光压力对加工表面作用的同时，抛光头相对加工表面做椭圆振动，之后根据被加工表面的曲率变化，调整抛光工具相对工件表面的姿态，然后根据被加工表面的曲率变化，调整椭圆的离心角，最后根据抛光工具相对工件的位置和椭圆轨迹获得抛光工具的运动轨迹以进行抛光。本发明的三维椭圆振动轨迹计算方法兼具切平面和法平面椭圆振动轨迹的优点，对获得均匀性材料去除效果很好而且三维椭圆运动抛光方法改变硬、脆、难加工材料的表面抛光技术，显著提高加工表面质量。
一种微结构表面三维椭圆振动精密抛光方法

[发明专利]具有径向交替凹槽段结构的化学机械抛光垫-CN200610004830.7有效
发明人： C·L·埃尔姆蒂;J·J·亨敦;G·P·穆尔唐尼 -专利权人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
申请日： 2006-01-12 - 公布日： 2006-07-19 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：一种具有环形抛光轨迹(122)并包括大量横跨该抛光轨迹的凹槽(148)的抛光垫(104)。每个凹槽包括位于抛光轨迹内的多个流动控制段(CS1－CS3)和至少两个斜率的突变(D1、D2)。
具有径向交替凹槽结构化学机械抛光

[发明专利]基于轨迹修正的曲面抛光机器人抛光方法及系统-CN202111353646.4在审
发明人：陈满意;朱义虎;韩天勇 -专利权人：武汉理工大学
申请日： 2021-11-16 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：一种基于轨迹修正的曲面抛光机器人抛光方法，包括如下步骤：S1、根据抛光机器人工作特点建立相对应的动力学模型，通过动力学模型设计抛光机器人控制系统的控制律，并按照所设计的控制律通过上位机控制抛光机器人运动；S2、根据三轴力传感器反馈的抛光力与期望抛光力的差值作用与导纳控制模型来对维持抛光力稳定；S3、根据曲面零件的三维模型特征生成包含位姿信息的多轴刀位点，并通过上位机控制抛光机器人按规划的轨迹进行抛光作业；S4、根据抛光过程得到的实际运动轨迹来对规划的轨迹进行修正。本发明还提供一种基于轨迹修正的曲面抛光机器人抛光系统。
基于轨迹修正曲面抛光机器人方法系统

[发明专利]一种带有优化沟槽的化学机械抛光垫及其应用-CN202110299881.1有效
发明人：谢毓;王凯;田骐源 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司
申请日： 2021-03-22 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种带有优化沟槽的化学机械抛光垫及其应用，所述抛光垫包括抛光层，其具有环形抛光轨迹区、位于抛光轨迹区内的圆形中间区及抛光轨迹区外部的环形外缘区；以及位于抛光层表面的沟槽，包括圆周向沟槽及径向沟槽，所述径向沟槽呈放射状由最靠近抛光垫圆心方向的沟槽处沿半径方向向外延伸，至抛光轨迹区与环形外缘区交界处的沟槽处，由一条沟槽发散为至少两条放射状沟槽。本发明的沟槽能够在最大量存储抛光液的情况下不降低抛光碎屑的排出，从而能得到稳定的抛光速率，提高产品良率，延长抛光垫使用寿命。
一种带有优化沟槽化学机械抛光及其应用

[实用新型]一种轨迹控制式可调重心抛光装置-CN202022814204.2有效
发明人：邱磊;柯晓龙 -专利权人：厦门理工学院
申请日： 2020-11-29 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种轨迹控制式可调重心抛光装置，包括抛光盘、动力传动机构、重心调整机构及支撑机构；该动力传动机构包括电机及动力主轴，该动力主轴与该抛光盘之间采用柔性连接；该重心调整机构包括轨迹板、摆动板及施压机构；该轨迹板固定不动，其上开有轨迹槽；该摆动板套在支撑机构的主轴套筒上，并与主轴套筒相互轴接在一起，该主轴套筒套在所述动力主轴之外；该摆动板上设有与轨迹槽配合的凸块；该施压机构位于摆动板及抛光盘之间，用以将摆动板的摆动压力传递给抛光盘本实用新型的轨迹控制式重心可调抛光盘机构，利用轨迹板的轨迹槽，通过调节抛光盘的重心可以减小边缘效应，具有操作简单，实用性强、可自动化控制等特点。
一种轨迹控制可调重心抛光装置

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