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[发明专利]抛光砖粉料制备方法、抛光砖制备方法及抛光砖生产线-CN201810659985.7在审
发明人：程贵生;廖花妹;李丽芳;吴志坚;邹培忠 -专利权人：河源市东源鹰牌陶瓷有限公司
申请日： 2018-06-22 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： B28B17/02 文献下载
摘要：本发明公开了抛光砖粉料制备方法、抛光砖制备方法及抛光砖生产线。其中，所述抛光砖粉料制备方法包括如下步骤：制备并获得基础料浆；制备并获得色料浆；获取所述基础料浆并干燥，获得基础料粉；获取所述基础料浆与所述色料浆的混合料浆，干燥获得色粉。本发明技术方案通过先对色料进行磨碎，色料的细度越细色料的发色越好，从而使得在颜色同等深的情况下，色料的使用量大大减少；在与基础料浆进行混合制备色粉时，通过磨碎后的色料浆和基础料浆混合制备，减少色料悬浮于基础料浆表面的情况发生，大大缩短了混合料浆的均化时间，从而提高调色效率，进一步提高生产效率。
制备色料基础料抛光砖粉料抛光砖生产线混合料浆磨碎色粉调色效率生产效率发色均化细度悬浮

[发明专利]用于STI工艺的抛光料浆组合物-CN201980084398.2在审
发明人：金廷润;黄晙夏;朴光洙;梁海元 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2019-07-11 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于STI工艺的抛光料浆组合物，并且更具体地涉及用于STI工艺的抛光料浆组合物，所述抛光料浆组合物包括：具有抛光粒子的抛光液；以及添加液，所述添加液包括具有酰胺键的聚合物，以及包括具有与一个以上的原子连接的三个以上链的单体的多晶硅膜抛光抑制剂
用于 sti 工艺抛光组合

[发明专利]抛光料浆组合物-CN201980084413.3有效
发明人：崔秀完;金廷润;崔洛炫;梁海元 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2019-07-03 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种抛光料浆组合物。根据本发明的一实施例的抛光料浆组合物包括：包含抛光粒子的抛光液；以及包含非离子高分子聚合物及选择比调节剂的添加液。本发明的抛光料浆组合物具有氧化硅膜和多晶硅膜的高抛光率，在半导体元件的浅槽隔离(STI)抛光之后没有留下杂质，并且能够减少氧化硅膜凹陷的量以及减少刮痕。
抛光组合

[发明专利]钨抛光料浆组合物-CN201610539064.8有效
发明人：黄珍淑;孔铉九;朴韩泰 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2016-07-08 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种钨抛光料浆组合物，且本发明的钨抛光料浆组合物包括水溶性高分子、抛光粉及腐蚀调节剂。
抛光组合

[发明专利]抛光料浆组合物-CN201610575493.0有效
发明人：崔东圭;尹永镐;孔铉九;黄珍淑;朴韩泰 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2016-07-19 - 公布日： 2018-10-19 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及抛光料浆组合物，且本发明的抛光料浆组合物，其包括：抛光粒子，第一抛光粒子、第二抛光粒子、第三抛光粒子中至少两个以上；及氧化剂，且随着所述抛光粒子和含有钨膜的接触面积(contact area)
抛光组合

[实用新型]抛光砖粉料制造设备以及抛光砖生产线-CN201820978735.5有效
发明人：程贵生;廖花妹;李丽芳;吴志坚;邹培忠 -专利权人：河源市东源鹰牌陶瓷有限公司
申请日： 2018-06-22 - 公布日： 2019-01-15 - 主分类号： B28B17/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了抛光砖粉料制造设备以及抛光砖生产线。其中，所述抛光砖粉料制造设备包括：基础料磨碎装置，处理基础料得基础料浆；色料磨碎装置，处理色料得色料浆；储存均化池，储存基础料浆；第一中转池，接收储存均化池的基础料浆；第二中转池，接收色料浆和储存均化池的基础料浆，得混合料浆；第一干燥装置，接收第一中转池的基础料浆并制得基础料粉；第二干燥装置，接收第二中转池的混合料浆并制得色粉。本实用新型通过对色料进行磨碎，色料的细度越细色料的发色越好，降低色料的使用量；通过磨碎后的色料浆和基础料浆混合制备，减少色料悬浮于基础料浆表面的情况发生，大大缩短了混合料浆的均化时间。
基础料色料中转池混合料浆制造设备均化池抛光砖储存粉料抛光砖生产线本实用新型干燥装置磨碎装置磨碎发色均化色粉细度制备悬浮

[发明专利]可实现多选择比的抛光料浆组合物-CN202011417878.7在审
发明人：申基柱;金廷润;朴光洙;崔秀完 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2020-12-07 - 公布日： 2021-06-22 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及可实现多选择比的抛光料浆组合物，更详细地，涉及抛光料浆组合物，包括：包括抛光粒子的抛光液；以及添加液，所述添加液包括带有酰胺键的聚合物及阳离子性聚合物。
实现选择抛光组合

[发明专利]一种光学玻璃抛光工作盘-CN201610366404.1在审
发明人：陈洪良 -专利权人：苏州微米光学科技有限公司
申请日： 2016-05-30 - 公布日： 2016-08-10 - 主分类号： B24B13/01 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学玻璃抛光工作盘，包括：上料盘，所述上料盘下部装有若干待磨玻璃，所述上料盘与第一动力装置相连；下磨盘，所述下磨盘上表面固有抛光垫，所述下磨盘底部连有第二动力装置，所述第二动力装置带动所述下磨盘自传，在所述第一动力装置的带动下，所述上料盘的待磨玻璃贴合所述抛光垫做环绕运动或直线运动；抛光浆池，所述下磨盘置于所述抛光浆池中。抛光时，上料盘的待磨玻璃与下磨盘上的抛光垫相接触，待磨玻璃和抛光垫上均布有抛光浆，第二动力装置带动下磨盘转动的同时，第一动力装置带动上料盘做直线运动或环绕运动，以此完成玻璃片的抛光。
一种光学玻璃抛光工作

[实用新型]一种光学玻璃抛光工作盘-CN201620502792.7有效
发明人：陈洪良 -专利权人：苏州微米光学科技有限公司
申请日： 2016-05-30 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： B24B13/01 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光学玻璃抛光工作盘，包括上料盘，所述上料盘下部装有若干待磨玻璃，所述上料盘与第一动力装置相连；下磨盘，所述下磨盘上表面固有抛光垫，所述下磨盘底部连有第二动力装置，所述第二动力装置带动所述下磨盘自传，在所述第一动力装置的带动下，所述上料盘的待磨玻璃贴合所述抛光垫做环绕运动或直线运动；抛光浆池，所述下磨盘置于所述抛光浆池中。抛光时，上料盘的待磨玻璃与下磨盘上的抛光垫相接触，待磨玻璃和抛光垫上均布有抛光浆，第二动力装置带动下磨盘转动的同时，第一动力装置带动上料盘做直线运动或环绕运动，以此完成玻璃片的抛光。
一种光学玻璃抛光工作

[发明专利]钨阻挡层抛光料浆组合物-CN201780048960.7有效
发明人：朴韩泰;孔铉九;李相美 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2017-06-16 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种钨阻挡层抛光料浆组合物，根据本发明的一个实施例的钨阻挡层抛光料浆组合物包括：抛光粒子；和含有硫磺的氨基酸，可改善边缘过度侵蚀EOE(edge over erosion)。
阻挡抛光组合

[发明专利]抛光料浆组合物-CN201910540392.3在审
发明人：孔铉九;黄珍淑;李相美;黄寅卨;辛娜喇 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2019-06-21 - 公布日： 2020-01-07 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种抛光料浆组合物，更具体地，涉及一种包括胶体二氧化硅抛光粒子；金属氧化物单分子螯合剂；氧化剂；以及pH调节剂、水溶性聚合物或两者全部的抛光料浆组合物。
抛光料浆胶体二氧化硅水溶性聚合物氧化剂金属氧化物抛光粒子单分子螯合剂

[实用新型]一种铝银浆生产用抛光装置-CN201922367707.7有效
发明人：王军胜;常好亮 -专利权人：河南浩丰铝业科技发展有限公司
申请日： 2019-12-25 - 公布日： 2020-09-22 - 主分类号： B01F7/18 文献下载
摘要：一种铝银浆生产用抛光装置，包括进料口、抛光箱体、支撑架、出料口；所述抛光箱体包括一级抛光箱和二级抛光箱；所述二级抛光箱设置在一级抛光箱正下方；一级抛光箱与二级抛光箱之间通过连接通道连通；所述连接通道上设置有止料阀；所述进料口设置在一级抛光箱顶部；出料口设置在二级抛光箱底部；一级抛光箱和二级抛光箱外部设置有支撑架；一级抛光箱内设置有一级抛光刷；二级抛光箱内设置有二级抛光刷。本实用新型设计了一种用于铝银浆生产用抛光装置，弥补了常规捏合装置捏合以后对产品表面光滑度的损坏，通过二级抛光，实现了对物料的搅拌、大量基础抛光、少量精细抛光，得到的铝银浆底部均匀，表面平整，光泽都更好，
一种铝银浆生产抛光装置

[发明专利]抛光料浆组合物及其制备方法-CN201980066193.1在审
发明人：朴光洙;黄晙夏;崔秀完;崔洛炫 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2019-05-29 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种抛光料浆组合物及其制备方法。根据本发明的一实施例的抛光料浆组合物，包括：分散而使得粒子表面具有正电荷的抛光粒子；包括非离子性线型聚合物的第一分散剂；以及包括阴离子性线团状聚合物的第二分散剂，其中所述抛光料浆组合物满足[条件式1]及
抛光组合及其制备方法

[实用新型]一种铝银浆生产用抛光装置-CN201921436236.4有效
发明人：聂鑫;王太宝;马永志 -专利权人：江西省上高县华阳色彩科技发展有限公司
申请日： 2019-09-01 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： B24B31/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种铝银浆生产用抛光装置，包括支撑架、固定架、抛光筒、抛光辊、第二转盘和排料机构，本实用新型通过在抛光筒底部设置了排料机构，第二电机带动滚珠丝杆进行转动，使滚珠丝杆带动滑块进行移动，滑块带动压轮往左端移动，使压轮将斜板往上顶，使斜板产生倾斜，从而使上端的铝银浆进行倾斜滑向排料口排放，达到了能够快速对铝银浆进行收集，并且在滑块右端设置的密闭机构，滑块往左端移动带动第一活动杆进行移动，使第一活动杆带动第二活动杆往左端摆动，使第二活动杆带动密闭板产生倾斜，解除对排料口的密封状态，使排料口对铝银浆进行排放，达到了能够对铝银浆进行快速排放收集的优点。
一种铝银浆生产抛光装置

[实用新型]一种从废有机硅浆渣中提取铜和氧化硅抛光粉的系统-CN201922466807.5有效
发明人：解付兵;曾宪军;刘宜德 -专利权人：湖南景翌湘台环保高新技术开发有限公司;深圳粤鹏环保技术股份有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： C22B7/00 文献下载
摘要：一种从废有机硅浆渣中提取铜和氧化硅抛光粉的系统，包括反应槽、过滤装置、电积装置、调浆装置、干燥装置、焙烧装置以及粉碎装置，所述反应槽上设置进料斗，反应槽连接所述过滤装置，过滤装置的滤液出口通过管道与所述电积装置连接，电积装置的阴极的电积得到铜片，过滤装置的滤渣出口通过管道连接所述调浆装置，所述调浆装置、干燥装置，焙烧装置、粉碎装置依次连接，粉碎装置的出料口与用于存放氧化硅抛光粉的储料罐连接。本实用新型可将有机硅浆渣中的硅和铜合理分离，产出高价值的氧化硅抛光粉和金属铜，氧化硅抛光粉的平均粒度为小于0.1μm，可用于不锈钢等工件的表面抛光领域，金属铜纯度可达99.9％，适合推广应用和生产。
一种有机硅浆渣中提取氧化抛光系统

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