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- [发明专利]成膜掩模-CN201480020185.0有效
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水村通伸;工藤修二;梶山康一
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株式会社V技术
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2014-03-31
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2017-12-15
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C23C14/24
- 本发明是成膜掩模(1)，成膜掩模(1)具有使树脂制的膜(3)与片状的磁性金属构件(2)的一面紧密接触而形成的结构，磁性金属构件(2)具有并列排列的狭缝状的多个贯通孔(5)，成膜掩模(1)设有在上述各贯通孔(5)内的上述膜(3)的部分贯通的多个开口图案(6)，上述膜(3)具有线膨胀系数在正交二轴不同的各向异性，上述膜(3)的线膨胀系数小的轴与和上述磁性金属构件(2)的上述贯通孔(5)的长轴交叉的方向一致。
- 成膜掩模
- [发明专利]成膜装置-CN200880124984.7有效
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近藤喜成;铃木健太郎;松本荣一;田岛三之
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特机株式会社
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2008-12-24
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2010-12-08
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C23C14/04
- 提供一种成膜装置，能够在可靠地维持精确对位后的基板与掩模的重合状态的同时将该基板与重物部件、磁体良好地重合固定。成膜装置具有成膜用掩模(5)和在与该成膜用掩模(5)重合的基板(6)的表面形成薄膜的成膜单元，该成膜装置还具备：对位机构，其使成膜用掩模(5)与基板(6)相对移动，并进行成膜用掩模(5)与基板(6)的对位；第一重合固定机构，其将利用该对位机构对位后的成膜用掩模(5)和基板(6)重合固定；以及第二重合固定机构，其将通过该第一重合固定机构重合固定于成膜用掩模(5)的基板(6)与薄板状的重物部件(8)或磁体(14)重合固定，所述重物部件(8)配设于该基板(6)的背面侧，使基板(6)挠曲并使基板(6)与成膜用掩模(5)密接重合，所述磁体14将成膜用掩模(5)磁性地吸引至基板(6)的表面侧，并使成膜用掩模(5)
- 装置
- [发明专利]成膜装置-CN201180063546.6无效
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田岛三之;内田敬自;藤塚正直;高桥悌二
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佳能特机株式会社
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2011-12-19
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2013-10-02
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C23C14/04
- 提供一种成膜装置，即使对于第4代以上的大型基板也能够应对，且实用性非常优异。成膜装置具备成膜室（1），在成膜室（1）中使成膜材料经由掩模（3）附着于保持为直立状态的基板（2），所述成膜装置在成膜室（1）设有：校准驱动机构，其进行掩模（3）与基板（2）的对位，以使掩模（3）相对于基板（2）处于适当位置；蒸发源（100），其能够沿基板（2）或掩模（3）的搬送方向移动；以及掩模搬送机构及基板搬送机构，它们分别将基板（2）和掩模（3）以直立状态搬送至面对蒸发源（100）的多个成膜位置，所述成膜装置构成为，能够一边在一个成膜位置通过蒸发源（100）进行成膜，一边在另一个成膜位置通过校准驱动机构进行掩模（3）与基板（2）的对位。
- 装置
- [发明专利]成膜掩模的制造方法以及成膜掩模-CN201380059305.3在审
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水村通伸
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株式会社V技术
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2013-10-29
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2015-07-15
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C23C14/04
- 本发明提供一种成膜掩模的制造方法以及成膜掩模。该成膜掩模的制造方法进行以下步骤：形成使磁性金属部件与树脂制造的膜片密接了的掩模用部件的步骤，其中所述磁性金属部件在与基板上的多个薄膜图案以及多个基板侧对准标记对应的位置设置有多个第一贯通孔以及第二贯通孔；在框状的框架的一端面架设上述掩模用部件并在该框架的一端面接合上述磁性金属部件的周缘部的步骤；以及向上述第一贯通孔内的膜片部分照射激光而形成形状尺寸与薄膜图案相同的开口图案并且向上述第二贯通孔内的上述膜片部分照射激光而形成掩模侧对准标记的步骤
- 成膜掩模制造方法以及
- [发明专利]成膜掩模和成膜掩模的制造方法-CN201480037834.8有效
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水村通伸
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株式会社V技术
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2014-06-30
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2017-12-19
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C23C14/24
- 本发明包括树脂薄片(1)，其中形成多个贯通开口图案(4)，在一面(1a)设有具有可内置多个开口图案(4)大小的开口的框状金属薄膜(5)；金属掩模(2)，其在薄片(1)的一面(1a)侧与薄片(1)分离而独立地设于与金属薄膜(5)的开口对应的位置，设有多个贯通孔(6)，每个贯通孔具有可内置多个开口图案(4)中的至少一个开口图案(4)的大小；以及金属框架(3)，其位于薄片(1)的一面(1a)侧，设有可内置金属掩模(2)的多个贯通孔(6)的大小的开口部(7)并形成为框状，在将薄片(1)和金属掩模(2)张紧地架设的状态下，将金属薄膜(5)的部分和金属掩模(2)的边缘部区域点焊到金属框架(3)的一端面(3a)来支撑薄片(1)和金属掩模
- 成膜掩模制造方法
- [发明专利]成膜装置及成膜装置的控制方法-CN202011214135.X有效
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青沼大介;菅原洋纪
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佳能特机株式会社
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2020-11-04
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2023-04-18
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C23C14/24
- 本发明涉及成膜装置及成膜装置的控制方法。通过缩短使基板从基板吸附部件(静电吸盘)分离时的时间从而实现成膜装置的高效运用。一种经由掩模在基板的成膜面成膜的成膜装置，其特征在于，具备：基板支承部，其支承基板的成膜面侧；基板吸附部件，其具有吸附面，所述吸附面吸附基板的成膜面的相反侧的非成膜面；掩模吸引部件，其隔着基板吸附部件配置在与掩模相反的一侧，并向成膜面拉近掩模；以及按压部，其设置于掩模吸引部件，并朝向基板吸附部件沿与非成膜面交叉的方向延伸，通过使掩模吸引部件向基板吸附部件移动，从而利用通过了形成于基板吸附部件的贯通部的按压部和基板支承部夹持基板
- 装置控制方法
- [发明专利]成膜装置及成膜方法-CN202011214509.8有效
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青沼大介
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佳能特机株式会社
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2020-11-04
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2023-02-28
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C23C14/24
- 本发明提供一种成膜装置及成膜方法，通过缩短使基板从基板吸附部件(静电吸盘)分离时的时间来谋求成膜装置的高效的运用。本发明的成膜装置是经由掩模在基板的成膜面进行成膜的成膜装置，其特征在于，所述成膜装置具备：基板吸附部件，其具有吸附面，所述吸附面吸附基板的成膜面的相反侧的非成膜面；掩模吸引部件，其隔着基板吸附部件被配设在与掩模相反的一侧，将该掩模向成膜面拉近；以及按压部，所述按压部设置于掩模吸引部件，且朝向基板吸附部件沿与非成膜面交叉的方向延伸，通过使掩模吸引部件朝向基板吸附部件移动，从而使按压部通过形成于基板吸附部件的贯通部并对基板的非成膜面进行按压
- 装置方法
- [发明专利]形成多层成型膜产品的单程方法-CN201480071872.5在审
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C·滨纳;K·A·佩利
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强生消费者公司
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2014-12-23
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2016-08-17
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B29C39/12
- 本发明提供了一种方法，所述方法包括：将掩模放置在基底上；通过所述掩模将液体成膜组合物递送至所述基底；移除所述掩模以在所述基底上留下多层原始形状；以及使所述多层原始形状固化以形成设置在所述基底上的多层成型膜产品所述掩模具有递送表面、相背对的表面以及至少一个孔，所述至少一个孔具有对应于所需成型膜产品的设计。经多流路喷嘴来递送所述成膜组合物。控制所述掩模的移动以及所述第一液体成膜组合物和所述第二液体成膜组合物至所述掩模孔的递送，以将对应于空隙体积的一定体积流量的所述第一液体成膜组合物和所述第二液体成膜组合物提供至所述掩模孔。所述喷嘴与所述掩模的所述递送表面接触。
- 形成多层成型产品单程方法
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