专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]泄漏装置及共轨管-CN201910578629.7在审
  • 王光明;谢凤;徐帅卿;刘云霞;魏工杰 - 潍柴动力股份有限公司
  • 2019-06-28 - 2020-02-28 - F02M55/00
  • 本发明公开了一种泄漏装置及共轨管,泄漏装置包括阀座,阀座内设有阀座油道,阀座设有与阀座油道相连通的进油口和回油口,阀座内设有阀芯和第一限位结构,阀芯与阀座间隙配合,阀芯与阀座之间的间隙分别与进油口和回油口相连通本发明通过在共轨管上增加泄漏装置,当轨压过高时,通过泄漏装置外泄,卸掉过高的轨压,使得发动机实际轨压与设定轨压跟随性好,解决了泄漏喷油器轨压跟随性差的问题。
  • 泄漏装置共轨管
  • [发明专利]固体拍摄元件及其制造方法-CN202080072417.2在审
  • 田岛和裕;有山健太 - 凸版印刷株式会社
  • 2020-11-18 - 2022-06-07 - H01L27/146
  • 一种固体拍摄元件(10),配置为将彩色滤光片(13A~13C)覆盖的透镜层(14)具有:透镜部(14c),其以与光电变换元件(12)对应的方式凸出设置;以及平坦部(14a),其位于彩色滤光片(13A~13C)与透镜部(14c)之间,透镜部(14c)及平坦部(14a)由相同材料形成,并且,在X、Y方向以及相对于X、Y方向以45°相交叉的U方向上分别相邻的透镜部(14c)之间形成有间隙(C1、C2),另一方面,在X、Y、U方向上平坦部(14a)不具有间隙地相连结而形成,透镜部(14c)的高度(Hm)大于平坦部(14a)的厚度(Hf)。
  • 固体拍摄元件及其制造方法
  • [发明专利]一种金属喷熔滴电磁约束沉积成型系统-CN201410273867.4有效
  • 杜军;魏正英;陈祯;卢秉恒;李素丽 - 西安交通大学
  • 2014-06-18 - 2014-09-10 - B22F3/115
  • 本发明公开了一种金属喷熔滴电磁约束沉积成型系统,该系统集成了金属熔滴沉积成型技术、喷技术以及电磁场作用下金属凝固成型理论,其利用压力脉冲在坩埚腔体内产生膨胀、收缩的脉冲压力,通过控制脉冲压力的变化,迫使金属熔滴通过间隙可调喷嘴可控均匀按需喷射,通过调整驱动控制参数以及间隙可调喷嘴与基板相对位置实现对金属熔滴的微量按需供给。本发明通过在临近熔滴沉积区域施加外置电磁场,实现小空间、大场强、大时间温度梯度环境下电磁场约束对金属熔滴流淌、快速凝固后成型的控形控性精确沉积成型,提高金属复杂构件成型精度和效率,细化晶粒、提高微观组织致密度
  • 一种金属微喷熔滴电磁约束沉积成型系统
  • [发明专利]一种集成光源的制备方法-CN202111209832.0有效
  • 王文杰;袁浚;廖明乐;黄锋;李倩;康健彬;万永彪 - 中国工程物理研究院电子工程研究所
  • 2021-10-18 - 2023-04-18 - H01S5/0225
  • 本发明公开了一种集成光源的制备方法,包括在激光芯片的出光口表面设置透镜;在待集成芯片表面设置光耦合部;将设置有透镜的激光芯片的出光口朝向光耦合部设置,使激光芯片经透镜整形的光斑与光耦合部中预设位置相互对位;将相互对位的激光芯片与待集成芯片相互键合以在激光芯片与待集成芯片之间形成具有预设高度的键合柱,使透镜与待集成芯片之间具有光线传播间隙。通过在激光芯片的出光口表面直接设置透镜,可以直接将激光芯片产生的激光进行整形,并通过键合柱形成的传播间隙在光耦合部形成一尺寸合适的光斑,便于对该光线进行耦合,从而可以完成集成光源的制备。
  • 一种集成光源制备方法
  • [发明专利]一种基于纳米压印的透镜阵列制备方法-CN202310397817.6有效
  • 朱元强;李书比;黄书惠 - 福建福特科光电股份有限公司
  • 2023-04-14 - 2023-09-12 - G02B3/00
  • 本发明涉及一种基于纳米压印的透镜阵列制备方法,包括如下依序的步骤:制作出第一母版和第二母版,用第一母版复制出一侧面具有与透镜阵列相吻合的透镜凹槽阵列的第一工作版;用第二母版复制出一侧面具有与槽孔阵列相吻合的凸起阵列的第二工作版在玻璃基底一侧面上镀制一层掩模层;在掩模层上旋涂光刻胶,使用第二工作版对光刻胶进行压印,然后将光刻胶层中的槽孔阵列对应孔内的掩模层蚀刻去除,在掩模层一侧面上滴上紫外结构胶水,并采用第一工作版对紫外结构胶水进行压印,制得透镜阵列层本发明采用纳米压印技术制备能对透镜之间的间隙进行遮挡的透镜阵列,避免透镜整列的间隙漏光现象,提高光学系统的性能。
  • 一种基于纳米压印透镜阵列制备方法

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