专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种带速差射流的引流型脉冲吹清灰装置-CN200820156757.X无效
  • 刁永发;顾平道;沈猛;邱燃 - 东华大学
  • 2008-12-09 - 2009-11-04 - B01D46/04
  • 本实用新型涉及一种带速差射流的引流型脉冲吹清灰装置,包括吹管a、吹管b、吹短管和引流管,所述的吹管a的喷口处设有一吹短管,与吹短管下端联接的是引流管,所述的吹短管的中心轴线上设有一中心射流管,在吹短管的底端有一中心射流孔,在所述的中心射流孔的周围环面上设有一圈小的射流孔,吹短管和中心射流管分别联接在吹管a和吹管b上。所述的吹管a和吹管b可由同一脉冲阀进行控制。本实用新型中的周围射流可以诱导中心射流,以延长射流的长度进行有效地清灰,此外对接近滤袋口200mm-400mm的高度内的滤料也可以进行有效地清灰。
  • 一种带速差射流引流脉冲喷吹清灰装置
  • [发明专利]一种利用溶胀技术制备纳米尺度电射流3D打印针的方法-CN201810885189.5有效
  • 李春雷 - 长沙柳腾科技有限公司
  • 2018-08-06 - 2021-06-04 - B29C64/209
  • 本发明公开了一种利用溶胀技术制备纳米尺度电射流3D打印针的方法,解决了传统方法制备纳米尺度电射流针难以保证纳米针尺寸、质量及成本的技术问题,属于电射流3D打印机针制作的技术领域。方法包括以下步骤:(1)纳米尺度电射流3D打印针基板激光切割;(2)纳米尺度电射流3D打印针基板清洗;(3)纳米尺度电射流3D打印针基板图形化;(4)纳米尺度电射流3D打印针基板纳米尺度裂纹制备;(5)纳米尺度电射流3D打印针基板后处理;(6)纳米尺度电射流3D打印针封装。本发明的方法,能够有效更好的保护纳米针的结构完整,提高纳米针制造质量,制造工艺简单,便于操作,降低了生产制造成本。
  • 一种利用技术制备纳米尺度射流打印方法
  • [实用新型]一种低马赫数流道内低流阻射流杆结构-CN201420478969.5有效
  • 李云辉;吉海云;薛洪科 - 中国航空工业集团公司沈阳发动机设计研究所
  • 2014-08-25 - 2015-04-22 - B05B1/20
  • 一种低马赫数流道内低流阻射流杆结构,其特征在于:所述的低马赫数流道内低流阻射流杆结构,包括杆前缘,射流喷嘴,杆本体;杆前缘与杆本体的表面为圆滑过渡,之间通过螺栓连接,杆前缘前部为弧状结构,杆本体的尾部为尖状结构;射流喷嘴等间距均布在杆本体内,距离为70毫米;杆前缘带有通孔,与射流喷嘴的喷嘴对齐布置;杆本体内部带有直径为20毫米的掺混介质通道,掺混介质通道与射流喷嘴的轴线方向相互垂直,射流喷嘴的尾部与掺混介质通道贯通。本实用新型的优点:本实用新型所述的低马赫数流道内低流阻射流杆结构,结构简单,具有良好的低阻特性。
  • 一种马赫数流道内低流阻射流结构
  • [发明专利]一种磁场约束射流的电喷打印方法-CN202210958779.2在审
  • 李凯;王晓英 - 宁波大学
  • 2022-08-04 - 2022-12-09 - B22F10/10
  • 本发明属于先进制造技术领域,涉及一种磁场约束射流的电喷打印方法。通过调节伸缩杆长度,控制五块磁铁距离针底部的位置和对射流的环绕半径,改变中心磁场的强弱,调节磁场对射流的约束程度,使射流聚焦或发散,从而起到辅助电场约束的作用,调节喷射沉积在衬底的三维微纳结构通过采用磁场可以达到精确控制射流目的,从而降低环境变化对电流体印精度的影响。该方法加强了对射流的控制,具有打印分辨率高、控制精度高等特点,可实现高精度、低成本的电射流打印制造。
  • 一种磁场约束射流电喷打印方法
  • [发明专利]一种磁场约束射流的电喷打印装置-CN202210959081.2在审
  • 骆立锋;李凯;孟家欢;李娜 - 宁波大学
  • 2022-08-04 - 2022-12-09 - B29C64/20
  • 本发明属于先进制造技术领域,涉及一种磁场约束射流的电喷打印装置。通过调节伸缩杆长度,控制五块磁铁距离针底部的位置和对射流的环绕半径,改变中心磁场的强弱,调节磁场对射流的约束程度,使射流聚焦或发散,从而起到辅助电场约束的作用,调节喷射沉积在衬底的三维微纳结构通过采用磁场可以达到精确控制射流目的,从而降低环境变化对电流体印精度的影响。该装置加强了对射流的控制,具有打印分辨率高、控制精度高等特点,可实现高精度、低成本的电射流打印制造。
  • 一种磁场约束射流电喷打印装置
  • [发明专利]一种高空焰流场的预估方法-CN201710371012.9有效
  • 毛宏霞;包醒东;傅德彬;吴杰;郑立 - 北京环境特性研究所
  • 2017-05-23 - 2020-07-14 - G06F30/20
  • 本发明公开了一种高空焰流场的预估方法,步骤有:(1)计算高空射流中任意位置的流动属性,包括密度、速度、温度和能量;(2)对高空射流分子运动过程进行求解;(3)通过点源强度,求解空间任意位置的组分分子数密度、宏观速度和温度随喷口径向尺寸和周向角度的定积分形式,获得相应高空射流参数;(4)判断高空焰流的伴随流状态,若有进入到射流边界并产生碰撞,则构建稀薄大气伴随流对所述高空射流的影响。本发明极大地提升了高空焰流场的仿真效率。
  • 一种高空喷焰流场预估方法
  • [发明专利]一种旋转撞击式喷灌装置及方法-CN202210538804.1有效
  • 蒋跃;王子鑫;李红;王莉莎;潘绪伟;唐游;刘佳玲;华琳 - 江苏大学
  • 2022-05-18 - 2023-08-22 - A01G25/02
  • 本发明一种旋转撞击式喷灌装置及方法,包括依次连通且相互转动连接的下轴承、旋转副和主体,旋转副包括射流能够与主射流对撞的副喷喷嘴,主体上设有用于驱动主体相对旋转副异步或异向旋转的驱动机构;方法包括灌溉流体经过下轴承、旋转副和主体时,旋转副喷在离心力作用下、独立于主体在下轴承上自旋转,主体在旋转副喷上异步或异向自旋转,使副喷喷嘴射流间歇周期性撞击主射流,撞击时射流提前破碎,促进了射流裂变,喷洒的雾化程度以及均匀性增加,喷灌均匀性提高,未撞击时不影响主体射程,实现在提升喷头喷洒均匀度的同时不影响射程的效果,从根本上解决水量分布不均匀的问题,适用于农业灌溉领域推广应用。
  • 一种旋转撞击喷灌装置方法

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