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[发明专利]基于低温等离子体的无机填料高通量羟基化方法和装置-CN202111164775.9在审
发明人：余亮;董守龙;姚陈果 -专利权人：重庆大学
申请日： 2021-09-30 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： C09C1/46 文献下载
摘要：本发明公开基于低温等离子体的无机填料高通量羟基化方法和装置，方法步骤为：1)利用辊对辊装置带动传送带(1)移动，使平铺的待处理填料(3)移动到低温等离子体区；2)电源向位于聚酰亚胺传送带(1)上方的低温等离子体发生器(2)放电；3)等离子体发生器(2)受电后，在低温等离子体区产生大气压低温等离子体；4)所述大气压低温等离子体对位于等离子体区的待处理填料(3)进行处理，得到接枝‑OH基团(羟基)的填料。装置包括传送带(1)、辊对辊装置、电源、等离子体发生器(2)、控制器、温度测量装置和放电功率测量装置；本发明中经过低温等离子体高通量处理的无机填料质量好、接枝效果优越，整个过程不涉及溶剂，不产生有毒副产物
基于低温等离子体无机填料通量羟基方法装置

[发明专利]使用大气等离子体的斜面蚀刻器-CN202211317389.3在审
发明人：须佐圭雄;菊地良幸 -专利权人： ASM IP私人控股有限公司
申请日： 2022-10-26 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： C23C16/02 文献下载
摘要：该方法还包括，在旋转过程中，通过将大气等离子体流引导到斜面边缘上来蚀刻斜面边缘。该大气等离子体流平行于衬底的顶表面，比如正交于包含被大气等离子体蚀刻的斜面边缘区域的平面，该大气等离子体可以是O2大气等离子体。
使用大气等离子体斜面蚀刻

[发明专利]基材的等离子体处理-CN201180027782.2无效
发明人：弗朗索瓦兹·马辛内斯;托马斯·高迪;阿德里安·图唐特;皮埃尔·德斯坎普斯;帕特里克·里姆波尔;文森特·凯撒 -专利权人：道康宁法国公司;国家科学研究中心
申请日： 2011-07-20 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明提供用于等离子体处理基材的工艺，所述工艺包括对位于具有入口和出口的电介质外壳内的至少一个电极施加射频高压，同时使工艺气体从所述入口经过所述电极流动到所述出口，由此产生非平衡大气压等离子体。将雾化的或气态的表面处理剂掺入所述非平衡大气压等离子体。将所述基材邻近所述等离子体出口定位，以使得其表面与所述等离子体接触并相对于所述等离子体出口移动。控制所述工艺气体流以及所述等离子体出口与所述基材之间的间隙，以使得所述工艺气体在所述电介质外壳内具有湍流流态。
基材等离子体处理

[发明专利]采用大气等离子体工艺提高PVC/LVL复合装饰型材胶合性能的方法-CN202210452085.1在审
发明人：饶久平;张梦楠;陈奶荣;曾钦志;李宇 -专利权人：福建农林大学
申请日： 2022-04-27 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： B29C65/52 文献下载
摘要：本发明公开了一种采用大气等离子体工艺提高PVC/LVL复合装饰型材胶合性能的方法。本发明采用大气等离子体处理法对塑料板表面进行等离子体处理，大气等离子体处理在大气中即可进行，能有效提高木质板材与塑料板材之间的胶合性能，相较于真空等离子体处理，大气等离子体处理对被处理试件的尺寸没有限制
采用大气等离子体工艺提高 pvc lvl 复合装饰胶合性能方法

[发明专利]一种大气压柔性冷等离子体射流内窥镜灭菌装置及方法-CN201611216586.0有效
发明人：刘新;秦文跃;王德伦 -专利权人：大连顺达微创科技有限公司
申请日： 2016-12-26 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： A61L2/14 文献下载
摘要：本发明涉及医疗行业中的消毒灭菌领域，具体涉及一种大气压柔性冷等离子体射流内窥镜灭菌装置及方法。内窥镜浸没于充满大气压柔性冷等离子体射流的导管式灭菌区域内，内窥镜表面的微生物可被大气压柔性冷等离子体射流杀死，导管式灭菌区域为非封闭式且与等离子体电极放电区域相互独立，等离子体电极放电区域用于产生柔性冷等离子体射流
一种大气压柔性等离子体射流内窥镜灭菌装置方法

[发明专利]一种大气压等离子体电子密度的诊断方法-CN202111165769.5在审
发明人：倪国华;胡磊;徐少勇;孙坡;阮超波;李淩豪 -专利权人：中科等离子体科技（合肥）有限公司
申请日： 2021-09-30 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： H05H1/00 文献下载
摘要：本发明的一种大气压等离子体电子密度的诊断方法，基于测量装置，所述测量装置包括依次通讯连接的信号捕捉单元、信号采集单元及计算单元，包括以下步骤，S1、通过信号捕捉单元捕捉正离子振荡辐射的电磁波信号；S2、通过信号采集单元采集正离子振荡辐射的电磁波信号；S3、基于采集的信号波形，获得信号的振荡频率即大气压等离子体振荡辐射电磁波信号频率；S4、根据所述的电磁波信号频率，计算出大气压等离子体的电子密度，并建立电子密度随时间的变化关系本发明的大气压等离子体电子密度的诊断方法，其通过测量等离子体中正离子振荡辐射电磁波的振荡频率，计算得到等离子体的电子密度，具有对诊断设备要求低、测量效率高等优点。
一种大气压等离子体电子密度诊断方法

[发明专利]大气压冷等离子体射流中电火花加工方法-CN201610874299.2有效
发明人：余祖元;邹日貌;徐文骥;李剑中 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2016-10-08 - 公布日： 2018-01-16 - 主分类号： B23H1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种在大气压冷等离子体射流中电火花加工的方法，属于机械加工及工具领域。大气压冷等离子体射流宏观温度低至室温或略高于室温，不会对待加工表面产生任何热损伤。工作时，工作气源经由减压阀和气体流量质量控制器进入冷等离子体射流发生器；调整工作气源流量和高压电源的输出电压，使冷等离子体射流发生器产生稳定的冷等离子体射流。调整冷等离子体射流发生器位置，使电极端部、工件待加工区域，完全浸没在冷等离子体射流中。本发明提出了一种在大气压冷等离子体射流中进行电火花加工的方法，可在同样的加工条件下，获得较去离子水中更低的表面粗糙度和更低的电极损耗，较气体中更好的表面质量。
大气压等离子体射流电火花加工方法

[发明专利]自由曲面光学零件的大气等离子体数控加工方法-CN201310177053.6有效
发明人：王波;李娜;姚英学;李国;金会良;辛强;金江;李铎 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2013-05-14 - 公布日： 2013-09-04 - 主分类号： B23K10/00 文献下载
摘要：自由曲面光学零件的大气等离子体数控加工方法，它属于等离子体加工大口径非球面光学零件的技术领域。它是为了解决高精度大口径非球面光学零件的加工效率和表面质量问题。它的步骤一：在工作架上安装有大口径的等离子体炬或中口径的等离子体炬或小口径的等离子体炬；步骤二：将待加工光学零件装卡在地电极上；步骤三：使大口径的等离子体炬或中口径的等离子体炬或小口径的等离子体炬靠近待加工表面；步骤四：预热；步骤五：启动射频电源；步骤六：使大口径的等离子体炬或中口径的等离子体炬或小口径的等离子体炬进行多自由度运动；步骤七：取出待加工光学零件。本发明采用三种不同口径的等离子体炬对大口径复杂曲面光学零件进行大气等离子体加工。
自由曲面光学零件大气等离子体数控加工方法

[发明专利]大气压远程等离子体CVD装置、覆盖膜形成方法及塑料瓶制造方法-CN202180021746.9在审
发明人：西山优范;赤沼泰彦;铃木哲也;白仓昌;田中卓己;三家本琴乃 -专利权人：三得利控股株式会社
申请日： 2021-03-23 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： C23C16/511 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体CVD装置及覆盖膜形成方法，在包括塑料瓶等具有立体形状的基材的各种基材的表面上，能够在大气压下形成覆盖膜。一个实施方式的大气压远程等离子体CVD装置具备：具有气体入口、内部空间和等离子体出口的电介体腔室；及在内部空间内产生等离子体的等离子体产生装置。等离子体出口具备喷嘴，该喷嘴具有比内部空间的正交于气体流动方向的截面的平均截面面积更小的开口面积。
大气压远程等离子体 cvd 装置覆盖形成方法塑料瓶制造

[发明专利]一种分区激励式大气压非平衡等离子体发生装置-CN201110278484.2有效
发明人：张芝涛;于清旋;俞哲;白敏冬;田一平;金忠林 -专利权人：大连海事大学
申请日： 2011-09-19 - 公布日： 2012-01-25 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：一种分区激励式大气压非平衡等离子体发生装置，属于气体放电与应用技术领域。本发明的技术特征是在大气压平板式介质阻挡放电反应器上安装小型高频高压变压器，其高压输出端经由快速熔断器与大气压平板式介质阻挡放电反应器相连，组成大气压非平衡等离子体发生单元模块，根据需要将十至数百个大气压平板式介质阻挡放电非平衡等离子体发生单元模块并联组装，构成分区激励式大气压非平衡等离子体发生阵列，该阵列由一台低压高频逆变电源提供激励能量，再利用小型高频高压变压器将激励能量分配到各个独立的大气压平板式介质阻挡放电反应器。本发明的效果和益处是可以提高大气压非平衡等离子体发生阵列的固有谐振频率，优化非平衡等离子体发生单元的放电性能。
一种分区激励大气压平衡等离子体发生装置

[发明专利]喷嘴组件和用于制造大气等离子体射流的装置-CN201780080158.6有效
发明人：赛义德·萨曼·阿萨德;安德里亚斯·利伯特;克里斯蒂安·布斯克 -专利权人：等离子体处理有限公司
申请日： 2017-12-21 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H05H1/34 文献下载
摘要：本发明涉及用于产生大气等离子体射流(12)的装置(40,40’,40”,40”’，100,110)的喷嘴组件(42,42’,42”,42”’)，其具有入口(48)，大气等离子体射流(12)可通过该入口引入喷嘴组件(42,42’,42”,42”’)中，并且具有与入口(48)这样连接的通道(56,56”’)，即，使得通过入口(48)引入喷嘴组件(42,42’,42”,42”’)中的等离子体射流(12)通过通道(56)引导，其中沿通道(56,56”’)在通道壁中设置多个喷嘴开口(62)，通过通道(56,56”)引导的等离子体射流(12)可以通过该喷嘴开口从喷嘴组件(42,42’,42”,42”’)中喷出。本发明还涉及用于产生大气等离子体射流(12)的、具有这种喷嘴组件的装置(40,40’,40”,40”’，100,110)，其应用，用于等离子体处理织物(72)的方法，相应经过等离子体处理的织物(72)和具有由经等离子体处理的无纺织物
喷嘴组件用于制造大气等离子体射流装置

[发明专利]大气压冷等离子体在抑制谷氨酰胺酶活性方面的用途及酶抑制剂-CN202010442200.8有效
发明人：王帅;宁宁;许德晖;孔刚玉 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2020-05-22 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： A61N1/44 文献下载
摘要：本发明提出了大气压冷等离子体在抑制谷氨酰胺酶活性方面的用途及酶抑制剂。通过简便运行大气压冷等离子体装置，利用产生的大气压冷等离子体抑制谷氨酰胺酶活性。相比常规的谷氨酰胺酶抑制剂，利用大气压冷等离子体能够更高效地抑制谷氨酰胺酶活性，用时更短、程度可控。应用本发明对谷氨酰胺酶检测试剂盒产品进行质检，能够快速、准确地得出质检结论。
大气压等离子体抑制谷氨酰胺活性方面用途抑制剂

[实用新型]一种清理大气雾霾的装置及由其构成的系统-CN201420582364.0有效
发明人：张学维 -专利权人：张学维
申请日： 2014-10-10 - 公布日： 2015-07-08 - 主分类号： A61L9/22 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种清理大气雾霾的装置，包括等离子体发生器、集气罩和等离子输出针管，等离子体发生器下端为进气口，等离子体发生器的上端为出气口，该出气口处扣装集气罩，在集气罩外缘的曲面上均布安装多个等离子输出针管本实用新型中，将一平方公里定义为一个区域，利用该区域中的粉尘采样器时时检测大气质量，然后通过中央控制模块驱动等离子体发生器产生高浓度等离子体，而且在轴流风机的推动下，等离子体快速的扩散，由于等离子体的浓度很高，能迅速的使区域内大气中的微小颗粒聚集沉降，自由基有效的处理有害气体分子，静电作用破坏微生物细胞膜，有效的杀灭细菌，产生的臭氧对细菌、病毒也有杀灭作用。
一种清理大气装置构成系统

[实用新型]大气常压射流低温等离子体技术密封橡胶处理设备-CN201621001161.3有效
发明人：杜官豪;万良淏 -专利权人：南京苏曼等离子科技有限公司
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2017-09-15 - 主分类号： B29C59/14 文献下载
摘要：本实用新型涉及使用大气常压射流等离子体技术的材料表面处理，具体地涉及对密封橡胶的表面处理设备。一种大气常压射流低温等离子体技术密封橡胶处理设备包括柜体，油水过滤装置，至少一个低温等离子体射流发生模块，触摸屏控制柜，进出料口窗口。所述导料辊部件置于低温等离子体射流喷枪固定调整装置上，密封橡胶置于导料辊部件上部的滑轮上，所述低温等离子体射流喷枪固定调整装置包括至少一个低温等离子体射流喷枪，所述各个低温等离子体射流发生模块与相对应的喷枪连接；所述油水过滤装置，低温等离子体射流发生模块，低温等离子体射流喷枪固定调整装置和导料辊部件分别与触摸屏控制柜相连。
大气常压射流低温等离子体技术密封橡胶处理设备

[发明专利]一种低氧含量超细非晶碳化硅纳米颗粒的制备方法-CN202210385649.4有效
发明人：王城;杨成鹏;周加文 -专利权人：合肥碳艺科技有限公司
申请日： 2022-04-13 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： C01B32/977 文献下载
摘要：本发明公开了本发明提供一种低氧含量超细非晶碳化硅纳米颗粒的制备方法，包括以下步骤：形成两个大气压磁旋转电弧等离子体，分别为上游等离子体和下游等离子体；在上游等离子体引入含硅的有机前驱体，在下游等离子体引入气态烃，在等离子体引发下反应获得低氧含量超细非晶碳化硅纳米颗粒。其中，所述大气压磁旋转电弧等离子体具有非平衡特性，等离子体电子能量为2.0‑10.0eV，重粒子温度为500‑1500K。
一种低氧含量超细非晶碳化硅纳米颗粒制备方法