专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种脱胶装置-CN201810571157.8有效
  • 王宗海 - 江苏润生光伏科技有限公司
  • 2018-06-05 - 2023-09-05 - B08B3/10
  • 本发明公开了一种脱胶装置,包括多晶芯放置装置以及加热装置,所述加热装置设于放置装置旁,所述放置装置包括支架A、转动连接于支架A上的转动架与设于支架A上的定位组件A,定位组件A位于远离加热装置的一侧,转动架的转轴靠近定位组件A一侧,所述加热装置包括支架B与设于支架B上的水槽,水槽内设有加热管,该加热管与电源相连;由于重力作用,转动架的靠近定位组件A的一端翘起时,转动架的另一端位于水槽内,所述水槽内的液面没过多晶芯与挂架的连接处本发明结构简单,多晶芯的端部脱胶时,仅将多晶芯的端部放入热水池中融化胶体,操作简单,耗时短。
  • 一种脱胶装置
  • [发明专利]生产多晶硅的控制方法及控制系统-CN202210759614.2有效
  • 吕海花;李大伟;李伟;邵雅雅;王旭;张福川 - 新特能源股份有限公司;新疆新特晶体硅高科技有限公司
  • 2022-06-29 - 2023-10-27 - C01B33/035
  • 本发明公开了一种新型的生产多晶硅的控制方法及控制系统,该方法包括以下步骤:将三氯氢硅原料、氢气通入还原炉内,进行氢还原反应,生成多晶硅,三氯氢硅原料为含有二氯二氢硅、四氯化硅的三氯氢硅原料,其中,在硅的不同预设的生长阶段,向还原炉内通入具有不同预设含量二氯二氢硅、四氯化硅的三氯氢硅原料,控制硅上的多晶硅沉积速度、雾化现象。本发明通过研究还原炉内的硅在不同生长阶段的运行特点,在不同的生长阶段通入含有不同预设含量二氯二氢硅和四氯化硅的三氯氢硅原料,与氢气发生氢还原反应,以达到还原炉全程高速生产的目的,既提高多晶硅的沉积速度,避免硅生长较脆,容易倒炉;又能保证多晶硅外观质量,减少雾化现象。
  • 生产多晶控制方法控制系统
  • [实用新型]一种多晶硅破碎装置-CN201420777805.2有效
  • 范协诚;刘平;胡光健;曹正宇;吕学谦;银波 - 新特能源股份有限公司
  • 2014-12-10 - 2015-07-22 - B02C19/00
  • 本实用新型提供一种多晶硅破碎装置,包括用于电弧放电的高压电极和低压电极,该装置还包括冲击波会聚装置,高压电极和低压电极固设在所述冲击波会聚装置上;冲击波会聚装置能够将高压电极和低压电极发生电弧放电产生的冲击波会聚到待破碎的多晶上;一方面,使得产生的冲击波更具有指向性,从而实现能量会聚,避免能量浪费,提高能量利用率;另一方面,对于不同规格或者不直的多晶来说,无需再频繁调整电极和/或多晶的相对位置,也可以保证破碎效果,提高破碎效率,操作更为简单方便;通过采用具有良好导电性能、抗电弧烧蚀性能和抗冲击破坏能力的材料制造高低压电极,提高电极的使用寿命,并降低电极烧蚀对多晶的污染。
  • 一种多晶破碎装置
  • [发明专利]浮区法生长大尺寸Ta2O5单晶的方法-CN201110257469.X有效
  • 蒋毅坚;徐宏;范修军;王越 - 北京工业大学
  • 2011-09-01 - 2012-01-11 - C30B29/16
  • 包括以下步骤:将Ta2O5粉料经过球磨、烘干;装入橡胶管中,放入等静压下压制成素坯;将素坯经烧结后获得多晶;将素坯多晶作为料,并将多晶或Ta2O5单晶作为籽晶,籽晶和料在竖直方向成一直线,其接触点与卤素灯处于同一水平线上;升温速率为30~60℃/分钟至料和籽晶融化,调整料和籽晶的转速和旋转方向,接种;通过聚焦镜的移动或上下的移动,使熔区远离聚焦点,使熔区温度下降实现结晶,晶体生长速度
  • 浮区法生长尺寸tasub方法
  • [实用新型]用于磷检炉的硅预热器-CN201020178369.9无效
  • 钱承荣;陆俊宏;张熠俊;施宇 - 雅安永旺硅业有限公司
  • 2010-05-04 - 2010-12-22 - H05B6/02
  • 本实用新型公开了一种用于磷检炉的硅预热器。该用于磷检炉的硅预热器包括呈圆弧状的发热体(5)、套管(6)、连接棒(7),所述套管(6)形状与发热体(5)相匹配且发热体(5)设置于套管(6)内,连接棒(7)的一端与套管(6)固定连接。本实用新型采用高纯石墨作发热体,用耐高温、高纯石英玻璃做套封,通过高频加热石墨,以辐射传热的形式加热多晶硅检验,避免了多晶硅在加热过程中,金属杂质挥发,沾污多晶硅检验,保证检测的准确性。
  • 用于磷检炉预热器
  • [发明专利]硅芯夹持件及其制备方法、还原炉-CN202310387428.5在审
  • 张天雨;王付刚;袁北京;田新;蒋文武 - 江苏鑫华半导体科技股份有限公司
  • 2023-04-12 - 2023-07-18 - C01B33/03
  • 本发明涉及多晶硅制备技术领域,具体涉及一种硅芯夹持件及其制备方法、还原炉。硅芯夹持件包括:石墨本体,石墨本体具有相对设置的第一端和第二端、以及连接第一端和第二端的侧面,第一端具有硅芯固定槽,第二端具有电极连接槽,硅芯固定槽的侧壁具有硅芯接触区和与硅芯接触区邻接的非接触区;多晶硅层,多晶硅层覆盖第一端的端面和侧面且不覆盖电极连接槽的内壁和硅芯接触区。位于石墨本体表面的多晶硅层将多晶制备过程中石墨本体原本暴露在反应气氛中的第一端的端面和侧面覆盖住,避免了石墨本体暴露在反应气氛中,从而避免了石墨本体中的杂质进入到反应气氛中进而沉积到硅芯上,降低了多晶中的杂质含量,提高了多晶的纯度。
  • 夹持及其制备方法还原
  • [发明专利]多晶硅破碎物及其制造方法-CN202180038742.1在审
  • 滑川真人 - 株式会社德山
  • 2021-05-20 - 2023-02-03 - C01B33/02
  • 本发明提供一种多晶硅破碎物,其能将多晶硅破碎物填充于树脂袋时、填充后的运输时以及从树脂袋取出时的树脂污染控制为利用现有方法无法实现的水平。本发明的多晶硅破碎物,由通过多晶的破碎产生的具有棱部的破碎片构成,上述破碎片中的具有70°以下的角度的棱部尖端的平均曲率半径(r)为50μm以上,该多晶硅破碎物通过以下方法得到,该方法包括:破碎工序,将多晶破碎而得到破碎片;以及蚀刻工序,将上述破碎工序中所得到的破碎片浸渍于蚀刻液中,以2.5μm/分钟以下的蚀刻速度,以蚀刻深度为5μm以上的方式进行蚀刻。
  • 多晶破碎及其制造方法
  • [发明专利]一种单晶直拉过程中除去杂质的方法-CN201010129749.8无效
  • 牛小群;余新明 - 浙江星宇电子科技有限公司
  • 2010-03-22 - 2010-07-21 - C30B15/20
  • 本发明涉及一种单晶直拉过程中除去杂质的方法,该方法是将多晶硅料放入石英坩埚中,逐渐升温至硅的熔点温度以上,多晶硅料开始溶化;当多晶硅料熔化到剩余很少的多晶硅料时,把炉内温度下降至中温,使剩余部分的多晶硅料溶化速度减缓或是不会被熔化,之后,漂浮在硅溶液表面上的熔点高于硅熔点温度的所有杂质,会逐渐并充分吸附在剩余部分未熔的多晶硅料上,然后插入籽晶,将吸附杂质的剩余部分的多晶硅硅料吊起即可。采用本发明方法,与原有技术相比,能减少1至2个小时的高温挥发时间,降低了能耗,而且高于硅熔点的所有杂质不被熔入硅溶液中,大大提高了拉制的单晶的纯度及质量。
  • 一种单晶棒直拉过程除去杂质方法

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