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- [发明专利]干燥复合半透膜的制造方法-CN200710180103.0有效
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高本敦人;釜田卓;小原知海
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日东电工株式会社
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2007-10-10
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2008-07-16
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B01D69/12
- 本发明提供一种未反应成分的含量极少,即使在干燥处理后在水通透性能及盐截留率方面也很优良,并且在耐污染性及耐久性方面优良的干燥复合半透膜的制造方法。本发明的干燥复合半透膜的制造方法包括:在多孔性支撑体的表面形成包含使多官能胺成分与多官能酸卤化物成分反应而成的聚酰胺系树脂的表层而制作复合半透膜的工序;清洗复合半透膜而制作清洗完毕复合半透膜的工序;使含有保湿剂及亲水化剂的保湿溶液仅接触清洗完毕复合半透膜的多孔性支撑体表面,并且使保护溶液仅接触清洗完毕复合半透膜的表层表面,而制作处理完毕复合半透膜的工序;及将处理完毕复合半透膜干燥的工序。
- 干燥复合半透膜制造方法
- [发明专利]多色调光掩模的制造方法以及多色调光掩模-CN202210192510.8在审
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山田慎吾;上南亮太
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株式会社SK电子
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2022-02-28
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2022-09-06
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G03F1/32
- 本发明提供能够无需对准的多色调光掩模的制造方法及多色调光掩模。多色调光掩模的制造方法包括:准备中间体的工序,中间体由下列层叠膜结构构成,即中间体具有:在透明基板2上层叠的半透膜3;具有与半透膜3不同的蚀刻特性、以在半透膜3上重合的方式进行层叠的中间膜4;具有与半透膜3相同的蚀刻特性、以使中间膜4的周边区域的至少一部分露出的方式在中间膜4上层叠的遮光膜5;且中间膜4的露出的部分的至少一部分具有越接近透明基板2其边缘4a越向外侧扩展的形状;将中间膜4的露出的部分分多次进行蚀刻并最终去除的工序;在除了最后一次或包括最后一次的各次蚀刻后对半透膜3的露出的部分进行等离子体处理,改变该部分的透射率的工序。
- 多色调光制造方法以及
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