专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基于空间复用的多偏振态多功能透镜及其制作方法-CN202111476050.3有效
  • 周倩;倪凯;闫兵;陆海鸥;廖俊潺 - 清华大学深圳国际研究生院
  • 2021-12-06 - 2023-07-21 - G02B27/00
  • 一种基于空间复用的多偏振态多功能透镜及其制作方法,该多功能透镜包括基底层和置于基底层上的第一和第二类结构单元,其中,第一类结构单元为长度和宽度不同的矩形纳米柱,第二类结构单元为尺寸相同、转角不同的矩形纳米柱,其中,第一类结构单元和第二类结构单元在基底层上按空间复用原则交错排列,对应满足不同偏振态入射光的预设相位,分别使正交线偏振光和圆偏振光共焦面离轴和在轴聚焦,其中,第一类结构单元和第二类结构单元分别通过传输相位和几何相位实现对正交线偏振光和圆偏振光的调控该多功能透镜可在单波长下实现三偏振态调控、共面变焦,克服现有多功能透镜只能被双偏振态调控且调控后焦平面发生变化的问题。
  • 基于空间偏振多功能透镜及其制作方法
  • [发明专利]一种可转移、复用性超薄光学表面的制备方法-CN202310198085.8在审
  • 解意洋;解佳洋;邓军;徐晨;胡良臣 - 北京工业大学
  • 2023-03-03 - 2023-06-06 - C30B25/18
  • 本发明提供了一种可转移、复用性超薄光学表面的制备方法,包括:获取衬底,并利用第一生长技术在衬底表面生长牺牲层和微米级薄层;对微米级薄层进行外延,得到微米级薄层的外延结构;利用第二生长技术在外延结构的表面成长应力层衬底的结构;腐蚀牺牲层,得到应力层‑微米级薄层‑衬底的结构;利用应力层产生的应力将微米级薄层与衬底分离,得到应力层‑微米级薄层结构和衬底;去除应力层,得到微米级薄层和衬底;对微米级薄层进行处理,得到超薄表面本发明解决了现有技术中集成式表面有着灵活性差、加工成本高、加工后不可分离、不可重复利用的问题。
  • 一种转移复用性超薄光学表面制备方法
  • [发明专利]一种成像模组-CN202011155716.0在审
  • 胡跃强;王旭东;欧香念;张建;姜玉婷;李苓;段辉高;宋强;马国斌;徐晓波 - 湖南大学;深圳珑璟光电科技有限公司;湖南大学深圳研究院
  • 2020-10-26 - 2021-01-05 - H04N5/225
  • 本发明实施例涉及表面之中的透镜技术领域,特别是涉及一种成像模组,包括衬底、透镜、感光芯片和光学胶。透镜包括四种透镜单元,其电介质基底设置于衬底,包括第一透镜单元、第二透镜单元、第三透镜单元和第四透镜单元,第一透镜单元与第二透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为九十度,第三透镜单元,与第一透镜单元和第二透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为四十五度,第四透镜单元可供左圆或者右圆偏振光通过。感光芯片设置于透镜。光学胶设置于透镜与感光芯片之间。成像模组的四种透镜单元分别对四种偏振光敏感,成像模组可同时进行四种偏振成像。
  • 一种成像模组
  • [实用新型]一种成像模组-CN202022410002.1有效
  • 胡跃强;王旭东;欧香念;张建;姜玉婷;李苓;段辉高;宋强;马国斌;徐晓波 - 湖南大学;深圳珑璟光电科技有限公司;湖南大学深圳研究院
  • 2020-10-26 - 2021-05-11 - H04N5/225
  • 本实用新型实施例涉及表面之中的透镜技术领域,特别是涉及一种成像模组,包括衬底、透镜、感光芯片和光学胶。透镜包括四种透镜单元,其电介质基底设置于衬底,包括第一透镜单元、第二透镜单元、第三透镜单元和第四透镜单元,第一透镜单元与第二透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为九十度,第三透镜单元,与第一透镜单元和第二透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为四十五度,第四透镜单元可供左圆或者右圆偏振光通过。感光芯片设置于透镜。光学胶设置于透镜与感光芯片之间。成像模组的四种透镜单元分别对四种偏振光敏感,成像模组可同时进行四种偏振成像。
  • 一种成像模组

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