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- [发明专利]一种ZnO基稀磁薄膜及其制备方法-CN201110166520.6有效
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潘峰;王钰言;曾飞;陈光
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清华大学
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2011-06-20
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2012-02-22
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H01F10/32
- 本发明公开了一种ZnO基稀磁薄膜及其制备方法。该ZnO基稀磁薄膜,包括基片、位于基片上的稀磁薄膜和反铁磁薄膜;其中,构成稀磁薄膜的材料为Zn1-xTMxO,所述Zn1-xTMxO中,x为0.2%-10.0%,优选3%-5%,TM为过渡金属元素;构成反铁磁薄膜的材料选自过渡金属氧化物中的至少一种本发明通过在ZnO基稀磁薄膜上沉积一薄层反铁磁薄膜或在反铁磁薄膜上沉积一层稀磁薄膜来提高ZnO基稀磁薄膜的室温铁磁性,利用室温铁磁性TM:ZnO薄膜和反铁磁薄膜的界面近邻效应,使双层膜结构的室温饱和平均原子磁矩(μB/Co)相对单层稀磁薄膜结构的平均原子磁矩明显增大。
- 一种zno基稀磁薄膜及其制备方法
- [发明专利]一种金属磁粉芯及其制备方法-CN202110262461.6有效
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王健;刘辛;徐佳;卢克超
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广东省科学院新材料研究所
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2021-03-10
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2023-06-30
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H01F1/24
- 本发明提供一种金属磁粉芯及其制备方法,包括以下步骤:(Ⅰ)将表面处理后的铁基软磁粉末进行绝缘包覆得到包覆氧化层的铁基软磁粉末;所述铁基软磁粉末的粒径为200~2000目,所述绝缘包覆的方法为原子层沉积(ALD),所述氧化层的厚度为10~100nm;(Ⅱ)将干燥的包覆氧化层的铁基软磁粉末、有机硅树脂和有机溶剂混合并挥发有机溶剂后压坯成型得到生坯;(Ⅲ)将所述生坯在绝氧条件下于200~500℃退火。本发明金属磁粉芯制备方法通过原子层沉积方法在铁基软磁粉末上包覆氧化层,氧化层厚度均匀,致密性好、厚度可控、界面结合性好,有利于降低金属磁粉芯的磁损耗,同时保持一定的磁导率。
- 一种金属磁粉芯及其制备方法
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