专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于投射光刻的照明光学单元-CN201380027803.X有效
  • M.莫尔 - 卡尔蔡司SMT有限责任公司
  • 2013-05-06 - 2017-04-05 - G03F7/20
  • 用于投射光刻的照明光学单元(32)利用照明光(14)照明物(5),要成像的物可布置在物中。照明光学单元具有集光器,聚集用于光源对照明光(14)的发射。照明光学单元(32)还具有反射(20)和瞳反射(21),反射和瞳反射均具有多个(22,23)。(22)通过转移光学单元(21)成像至物(5)。照明光学单元(32)还具有单独反射阵列(17),单独反射阵列具有可以单独被驱动的方式倾斜的单独反射,所述阵列在照明光路(26)中布置在场反射(20)的上游,中间焦点(16)的下游。中间焦点(16)经由照明通道(14)成像到所述瞳反射(21)所在的空间区域(25)中,所述照明通道均由单独反射镜中的至少一个和(22)中的至少一个形成并引导所述照明光(14)的部分束。
  • 用于投射光刻照明光学单元
  • [发明专利]投射光刻的照明光学单元-CN201980010827.1有效
  • M.帕特拉 - 卡尔蔡司SMT有限责任公司
  • 2019-01-03 - 2023-10-03 - G02B19/00
  • 一方反射(19)的(25)和另一方面光瞳反射(20)的光瞳(29)的布置使得在场(25)和光瞳(29)之上引导照明通道(16i根据本发明的反射(19)用于沿着照明通道(16i)将光源像成像到光瞳(29)中的一个上。光瞳反射(20)用于将(25)叠加成像到物(5)中。照明光学单元(4)针对在照明光束路径中物(5)的下游的投射光学单元的入瞳(EP)的照明光点亮的空间分辨率的可调整规范进行设计。
  • 投射光刻照明光学单元
  • [发明专利]用于EUV投射光刻的照明光学装置以及照明系统-CN201480060611.3有效
  • M.帕特拉 - 卡尔蔡司SMT有限责任公司
  • 2014-08-25 - 2019-06-28 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种用于EUV投射光刻的照明光学装置,所述照明光学装置用于照亮照明,下游侧的成像光学装置(6)的物(3)布置在所述照明中。在物(3)中又能够布置能沿物体移动方向(y)移动的物体(5)。照明光学装置的镜面反射(14)具有多个并排布置的(13),用于反射地叠加地导引朝向物(3)的一束EUV照明光(9)中的部分光束(9i)。所述镜面反射(14)布置为,使得各个(13)在镜面反射(14)上的位置和照明光部分光束(9i)在镜面反射(14)的相应各个(13)上的射击区域预设出用于物(3)的场点的照明方向照明光部分光束(9i)在各个(13)上的射击区域的边缘轮廓预设出物(3)的形状。每个(13)具有连续的静态反射(15)。
  • 用于euv投射光刻照明光学装置以及系统
  • [发明专利]EUV投射光刻的照明光学单元-CN201580069078.1有效
  • M.恩德雷斯;R.米勒;S.比林 - 卡尔蔡司SMT有限责任公司
  • 2015-10-06 - 2020-04-24 - G03F7/20
  • 一种EUV投射光刻的照明光学单元(7),用于以照明光(3)照明物(8)。在物体位移方向(y)上可位移的待成像物体(19)可布置于物(8)中。传输光学单元(14)通过照明通道,以叠加于彼此上的方式将反射(5)的成像至物(8)中,所述照明通道各均已分配有所述之一和光瞳反射(10)的一个光瞳。该叠加光学单元(14)具有布置于该光瞳反射(10)下游的至少两个用于掠入射的反射(12,13)。用于掠入射的反射(12,13)在物(8)中生成由照明通道构成的照明光整体束(3G)的照明角带宽,该带宽对于平行于物体位移方向(y)的入射平面(yz)而言小于对于与其垂直的平面(xz)。
  • euv投射光刻照明光学单元
  • [发明专利]EUV投射光刻的照明光学单元-CN201710195298.X有效
  • M.帕特拉 - 卡尔蔡司SMT有限责任公司
  • 2017-03-28 - 2019-04-23 - G03F7/20
  • 一种EUV投射光刻的照明光学单元,将照明光从光源沿着照明光束路径引导到物。第一反射包括多个第一单片。第二反射包括多个第二。由第一中至少一些和分配的第二预定物照明通道。经由照明通道,整个物均可用照明光照明。第一实施为将光源物成像到第二面上设置的一定数目的光源像中,所述数目对应于物照明通道的数目。对于至少一些物照明通道,分配到各自物照明通道的光源像细分为第一光源部分像和至少一个第二光源部分像,其分别由分配到各自物照明通道的第一面的彼此不重叠的面部分产生。
  • euv投射光刻照明光学单元
  • [发明专利]投射曝光设备的照明光学单元-CN201380013861.7有效
  • I.桑格 - 卡尔蔡司SMT有限责任公司
  • 2013-03-05 - 2017-02-22 - G03F7/20
  • 一种投射曝光设备的照明光学单元(25),用于将照明光(16)引向照明(5),光刻掩模(7)可布置在照明(5)中。第一反射(19)具有多个单独反射(26),所述多个单独反射(26)提供将照明光部分束(16i)引向照明(5)的照明通道。单独反射(26)各具有多层反射涂层。第二反射(20)在照明光(16)的光束路径中布置在第一反射(19)的下游。第二反射(20)的相应分(35)连同第一反射(19)的单独反射(26)的至少一个一起使将照明光部分束(16i)引向照明(5)的照明通道完整。单独反射(26)布置成使相应照明光部分束(16i)以入射角(I)入射于单独反射(26)上,由此限定入射平面。
  • 投射曝光设备照明光学单元
  • [发明专利]用于微光刻的照明光学系统与光学系统-CN200980159125.6有效
  • 马丁.恩德雷斯 - 卡尔蔡司SMT有限责任公司
  • 2009-03-06 - 2012-04-18 - G03F7/20
  • 一种用于微光刻的照明光学系统被用于照明物(12)。照明光学系统具有第一传输光学系统,用于引导由光源发出的照明光(3)。具有多个照明预设微(25)的照明预设(7)布置在第一传输光学系统的下游。照明预设(7)通过照明预设(7)的边缘形状以及照明预设微(25)的各个独立倾斜角,产生物(12)的预设照明。第一传输光学系统和照明预设(7)的布置产生物(12)的远心照明。根据另一方面的光学系统在照明预设与物之间包括投射光学系统的入瞳平面,投射光学系统与照明光学系统一起作为用于微光刻的光学系统的一部。在该另一方中,第一传输光学系统与照明预设的布置使得实现了与投射光学系统的入瞳适配的物的照明。另一方,在包括投射光学系统及照明光学系统的光学系统中,与投射光学系统的总长度相比,出现较大的物像偏移或更大的中间焦点-像偏移。这使得照明光学系统和光学系统满足关于照明光使用的特定效率要求。
  • 用于微光照明光学系统
  • [发明专利]EUV投射光刻的照明光学系统-CN201680009975.8有效
  • A.温克勒;D.楞次;T.费希尔 - 卡尔蔡司SMT有限责任公司
  • 2016-02-02 - 2020-06-02 - G03F7/20
  • 一种EUV投射光刻的照明光学单元,包括反射和光瞳反射。经由相应的一个照明通道,通过恰好一个和恰好一个光瞳(29)在光源与物之间引导相应使用的照明光部分束(16i)。:Sub>i)距光瞳(29)一定距离。用于可用作信号连接至位移致动器(31)的校正面的至少一些面的受控位移的校正控制装置(32)实施为使得校正面的校正位移路径如此之大,使得相应校正照明通道(16i)在边沿由校正光瞳(29)切断,使得照明光部分束(16i)不全部从校正光瞳(29)传输到物中。
  • euv投射光刻照明光学系统
  • [发明专利]折反射投射物镜-CN201010299110.4有效
  • 亚历山大·埃普尔;托拉尔夫·格鲁纳;拉尔夫·米勒 - 卡尔蔡司SMT有限责任公司
  • 2010-09-29 - 2011-04-27 - G02B13/00
  • 本发明提供一种用于微光刻的折反射投射物镜(1),该折反射投射物镜(1)用于将物(5)中的物(3)成像到像(9)中的像(7),且包括第一物镜(11),用于将物成像到实的第一中间像(13)上;第二物镜(15),用于将第一中间像成像到实的第二中间像(17)上;以及第三物镜(19),用于将第二中间像成像到所述像(7)上。第二物镜(15)恰具有一个凹面(21)和至少一个透镜(23)。凹面(21)的表面的光学利用区域与邻近该凹面的透镜(23)的面对该凹面的表面(25)的光学利用区域之间的最小距离大于10mm。
  • 反射投射物镜
  • [实用新型]一种具有弹道补偿划的变倍瞄准-CN201720165217.7有效
  • 薛衍明;罗永丰 - 珠海天羿精密仪器有限公司
  • 2017-02-23 - 2017-11-03 - F41G1/42
  • 本实用新型涉及一种具有弹道补偿划的变倍瞄准,即变倍瞄准在变倍的同时自动进行弹道补偿,包括导向钉、导向套、变倍管、转向镜框及内管,所述内管的外部套置变倍管;所述导向钉及导向套固定于转向镜框上,通过导向钉带动两转向镜框作相对运动,实现变倍管转动,发生倍率变化;其特征在于所述转向镜框的前端设有压圈,压圈的前端还设有第一焦划,第一焦划通过第一焦压圈和第一焦座压紧固定;所述内管的末端还通过分划板框固定有第二焦
  • 一种具有弹道补偿瞄准

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