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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]新型钌化合物、其制备方法、包含其的膜沉积用前体组合物及利用前体组合物的膜沉积方法-CN201580028799.8有效
发明人：韩元锡;金沼怜;高元勇 -专利权人： UP化学株式会社
申请日： 2015-05-26 - 公布日： 2018-07-13 - 主分类号： C07F15/00 文献下载
摘要：本发明涉及新型钌化合物、所述钌化合物的制备方法、包含所述钌化合物的用于沉积含钌膜的前体组合物以及利用所述前体组合物的含钌膜沉积方法。
前体组合物钌化合物含钌膜膜沉积沉积制备

[发明专利]一种壳聚糖生物吸附膜回收含钌废液中钌的设计方法-CN202111460678.4在审
发明人：赵羽;蒯赟;沈光宇;王光应 -专利权人：安徽元琛环保科技股份有限公司
申请日： 2021-12-02 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： B01J20/24 文献下载
摘要：本发明公开一种壳聚糖生物吸附膜回收含钌废液中钌的设计方法，涉及贵金属回收技术领域，是基于现有的回收含钌废液中钌的方法存在回收效率低、成本高的问题提出的，包括以下步骤：(1)壳聚糖乙酸溶液的制备；(2)生物吸附膜的制备；(3)生物吸附膜的制备；(4)生物吸附膜回收含钌废液中钌。本发明制备壳聚糖乙酸溶液的原料来源广泛，生产成本低，且制备壳聚糖乙酸溶液可使壳聚糖的结构保持完整，添加谷氨酸棒状杆菌有利于更好的促进生物吸附膜的形成，且吸附膜表面的聚醚酰亚胺涂层提高了生物吸附膜对钌的吸附能力，有效提高废液中钌的回收率。
一种聚糖生物吸附回收废液设计方法

[发明专利]沉积在钌-氮化钛膜上的含钌膜及其形成方法-CN202180009180.8在审
发明人：刘国;雅各布·伍德拉夫 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2021-01-14 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： C23C16/34 文献下载
摘要：提供了通过原子层沉积和/或化学气相沉积形成含钌膜的方法。该方法包括在基材表面上形成第一膜的第一步骤和在该第一膜的至少一部分上形成该含钌膜的第二步骤。该第一步骤包括将钛前体和第一含氮共反应物递送到该基材并将第一钌前体和第二含氮共反应物递送到该基材以形成该第一膜。该第二步骤包括将第二钌前体和第三共反应物递送到该基材。还提供了含钌膜。
沉积氮化钛膜上含钌膜及其形成方法

[发明专利]通过循环沉积工艺在衬底上沉积含钌膜的方法-CN202310530441.1在审
发明人： M·明乔夫;J·登多文;C·德塔韦尼尔 -专利权人： ASM IP私人控股有限公司;根特大学
申请日： 2018-02-14 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：公开了一种通过循环沉积工艺在衬底上沉积含钌膜的方法。所述方法可以包含：使所述衬底与包括金属有机前体的第一气相反应物接触，所述金属有机前体包括选自由以下组成的群组的金属：铂、铝、钛、铋、锌和其组合。所述方法还可以包含：使所述衬底与包括四氧化钌的第二气相反应物接触，其中所述含钌膜包括钌‑铂合金或三元氧化钌中的至少一种。还公开了包含通过本发明的方法沉积的含钌膜的装置结构。
通过循环沉积工艺衬底含钌膜方法

[发明专利]通过循环沉积工艺在衬底上沉积含钌膜的方法-CN201880088965.7有效
发明人： M.明乔夫;J.登多文;C.德塔韦尼尔 -专利权人： ASM IP私人控股有限公司;根特大学
申请日： 2018-02-14 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： C23C16/02 文献下载
摘要：公开了一种通过循环沉积工艺在衬底上沉积含钌膜的方法。所述方法可以包含：使所述衬底与包括金属有机前体的第一气相反应物接触，所述金属有机前体包括选自由以下组成的群组的金属：铂、铝、钛、铋、锌和其组合。所述方法还可以包含：使所述衬底与包括四氧化钌的第二气相反应物接触，其中所述含钌膜包括钌‑铂合金或三元氧化钌中的至少一种。还公开了包含通过本发明的方法沉积的含钌膜的装置结构。
通过循环沉积工艺衬底含钌膜方法

[发明专利]热稳定的钌前体组合物和形成含钌膜的方法-CN202180067977.3在审
发明人：高元勇;金镇植;金大荣 -专利权人： UP化学株式会社
申请日： 2021-10-12 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本申请涉及热稳定性高的用于形成膜的钌前体化合物、包含该钌前体化合物的用于形成膜的前体组合物以及使用该用于形成膜的前体组合物来形成含钌膜的方法。
稳定钌前体组合形成含钌膜方法

[发明专利]一种含炔基的钌配合物及其合成方法与应用-CN201810421070.2在审
发明人：梅文杰;汪保国 -专利权人：广东药科大学
申请日： 2018-05-04 - 公布日： 2018-09-25 - 主分类号： C07F15/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种含炔基的钌配合物，还涉及该含炔基的钌配合物的合成方法与应用。所述含炔基的钌配合物是一类新的钌配合物，采用Sonogashira偶联反应将炔基引入DPPZ类型的钌配合物中，引入的炔基有利于促进药物分子跨膜吸收作用，增加药物进入细胞的几率，还能够增加药效并降低药物毒副作用；本发明所提供的含炔基的钌配合物具有显著的抗肿瘤活性，尤其是抗乳腺癌活性，同时能够为今后的抗肿瘤药物分子设计提供新思路；本发明所提供的含炔基的钌配合物还能够被用作荧光探针。总之，所述含炔基的钌配合物在医药化学领域具有广阔的应用前景。
钌配合物炔基抗肿瘤药物分子合成应用药物毒副作用抗肿瘤活性偶联反应药物分子医药化学荧光探针膜吸收引入乳腺癌细胞

[发明专利]蚀刻非挥发性金属材料的方法-CN201510072693.X有效
发明人：萨曼莎·S·H·坦;杨文冰;沈美华;理查德·P·雅内克;杰弗里·马克斯;哈梅特·辛格;索斯藤·利尔 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2015-02-11 - 公布日： 2017-11-14 - 主分类号： H01L43/12 文献下载
摘要：一种蚀刻非挥发性金属材料的方法，特别是用于蚀刻带有含钌层的堆叠的方法，所述含钌层配置在硬掩膜的下方和带有针扎层的磁性隧道结(MTJ)堆叠的上方。所述硬掩膜被使用干法蚀刻进行蚀刻。所述含钌层被使用基于次氯酸盐和/或臭氧的化学物质进行蚀刻。所述MTJ堆叠被蚀刻。所述MTJ堆叠由电介质材料覆盖。所述针扎层紧接着所述MTJ覆盖被蚀刻。
蚀刻挥发性金属材料方法

[发明专利]一种含胺基的钌(II)‑二亚胺反应性荧光指示剂及其合成方法与应用-CN201510448431.9有效
发明人：李建雄;胡小英;刘安华 -专利权人：华南理工大学
申请日： 2015-07-28 - 公布日： 2017-10-20 - 主分类号： C09K11/06 文献下载
摘要：本发明公开一种含胺基的钌(II)‑二亚胺反应性荧光指示剂及其合成方法与在氧敏感荧光膜中的应用。本发明将5‑氨基‑邻菲咯啉与钌(II)‑二亚胺二配体络合物反应，合成含胺基的钌(II)‑二亚胺三配体荧光指示剂，并经酰胺键固定到基材表面，组成可靠性氧敏感荧光膜。以本发明方法制备的氧敏感荧光膜可有效解决荧光指示剂被水萃取流失的问题，提高荧光膜的使用寿命。
一种胺基 ii 亚胺反应荧光指示剂及其合成方法应用

[发明专利]含硅氧烷基的钌(II)‑二亚胺反应性荧光指示剂及其合成方法与在氧敏感荧光膜的应用-CN201610432868.8在审
发明人：李建雄;胡小英;刘安华 -专利权人：华南理工大学
申请日： 2016-06-17 - 公布日： 2016-11-09 - 主分类号： C07F15/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种含硅氧烷基的钌(II)‑二亚胺反应性荧光指示剂及其合成方法与在氧敏感荧光膜的应用。本发明将γ‑异氰酸酯丙基烷氧基硅烷与5‑氨基‑邻菲咯啉或含5‑氨基‑邻菲咯啉的钌(II)‑二亚胺三配体络合物反应，合成含硅氧烷的钌(II)‑二亚胺三配体络合物反应性荧光指示剂，并经硅氧烷基的水解和缩合作用，与含硅羟基材料表面化学键合，化学固定于基材表面，组成稳定的氧敏感荧光膜。本发明方法制备的氧敏感荧光膜可有效解决荧光指示剂被水萃取流失的问题，提高荧光膜的使用寿命。
含硅氧烷基 ii 亚胺反应荧光指示剂及其合成方法敏感应用

[发明专利]钌络合物、其制造方法以及薄膜的制造方法-CN02142607.4有效
发明人：河野和久;关本谦一;大岛宪昭;涩田见哲夫;熊谷周治;古川泰志 -专利权人：东曹株式会社
申请日： 2002-09-12 - 公布日： 2003-04-09 - 主分类号： C07F15/00 文献下载
摘要：提供熔点低、汽化特性优异，而且在基板上成膜温度低的金属有机化合物，并以其作为原料由CVD法制造含钌薄膜。以通式[1]表示的有机钌化合物[具体例子是(2，4－二甲基戊二烯)(乙基环戊二烯)合钌]或者以通式[7]表示的有机钌化合物[具体例子是羰基二(2－甲基－1，3－戊二烯)合钌]为原料，由化学气相蒸镀法等制造含钌薄膜
络合物制造方法以及薄膜

[发明专利]一种钌单原子/石墨炔膜及其制备方法与应用-CN202110514757.2在审
发明人：申哲民 -专利权人：浙江自贸区申舟环保科技有限公司
申请日： 2021-05-12 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： C25B11/054 文献下载
摘要：本发明公开了一种钌单原子/石墨炔膜及其制备方法与应用，解决了目前电解水制氢催化剂价格高且容易发生催化剂中毒现象的问题。本发明提供的钌单原子/石墨炔膜由通过化学稳定作用结合的钌单原子和石墨炔膜组成。制备方法包括如下步骤：以石墨炔膜为载体，将制备好的石墨炔浸渍在含钌化合物的水溶液和硫酸中，通过电还原进行还原反应，得到钌单原子/石墨炔结构。该方法工艺简便，绿色环保，钌单原子/石墨炔材料具有良好的反应稳定性，由上所述的钌单原子/石墨炔膜因其具备高度暴露和分散的催化活性位点，使其具备较好的电解水制氢性能，亦可望作为一种高效的新型电解水制氢催化剂材料
一种原子石墨及其制备方法应用

[发明专利]反射型掩膜的清洗装置、及反射型掩膜的清洗方法-CN202010128850.5在审
发明人：松嶋大辅;出村健介;铃木将文;中村聪 -专利权人：芝浦机械电子株式会社
申请日： 2015-02-19 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本发明提供一种能够抑制设置于反射型掩膜的含钌的覆盖层的光学特性的劣化的反射型掩膜的清洗装置、及反射型掩膜的清洗方法。具体而言，实施方式所涉及的反射型掩膜的清洗装置具备：第1供给部，向设置于反射型掩膜的含钌的覆盖层供给由还原性气体生成的等离子体生成物；及第2供给部，向所述覆盖层供给还原性溶液。
反射型掩膜清洗装置方法

[发明专利]反射型掩膜的清洗装置、及反射型掩膜的清洗方法-CN201580012600.2有效
发明人：松嶋大辅;出村健介;铃木将文;中村聪 -专利权人：芝浦机械电子株式会社
申请日： 2015-02-19 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本发明提供一种能够抑制设置于反射型掩膜的含钌的覆盖层的光学特性的劣化的反射型掩膜的清洗装置、及反射型掩膜的清洗方法。具体而言，实施方式所涉及的反射型掩膜的清洗装置具备：第1供给部，向设置于反射型掩膜的含钌的覆盖层供给包含有机溶剂及表面活性剂的至少任意一种的第1溶液；及第2供给部，向所述覆盖层供给还原性溶液及不含氧的溶液的至少任意一种此外，其他的实施方式所涉及的反射型掩膜的清洗装置具备：第3供给部，向设置于反射型掩膜的含钌的覆盖层供给由还原性气体生成的等离子体生成物；及第2供给部，向所述覆盖层供给还原性溶液及不含氧的溶液的至少任意一种
反射型掩膜清洗装置方法

[发明专利]具有开放配体的用于含钌膜沉积的前体-CN200710139827.0无效
发明人： J·伽蒂诺;C·迪萨拉 -专利权人：乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司
申请日： 2007-08-02 - 公布日： 2008-02-13 - 主分类号： C23C16/06 文献下载
摘要：用于含钌膜沉积的含钌前体，包含选自基本由下列物质组成的组的钌前体：Ru(XOp)(XCp)、Ru(XOp)₂、Ru(烯丙基)₃、RuX(烯丙基)_2<
具有开放用于含钌膜沉积

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