专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]反射眼内透镜-CN200880024381.X无效
  • X·张;K·K·达斯 - 爱尔康公司
  • 2008-07-11 - 2010-03-31 - A61F2/16
  • 示例性实施例提供一种镀膜的眼内透镜(400),其包括具有第一折射率的透镜体(410)以及抗反射涂层(420)。所述涂层覆盖所述透镜体的至少一部分,并具有低于所述透镜体的所述第一折射率的第二折射率。所述抗反射涂层使由入射在所述透镜体上的离光所产生的反射的强度降低至少2.5倍,并且提高光透射率。
  • 离轴抗反射透镜
  • [发明专利]一种无焦系统及空间光学仪器-CN201710534067.7在审
  • 纪振华;郑玉权;蔺超 - 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  • 2017-07-03 - 2017-09-08 - G02B17/06
  • 本发明实施例公开了一种无焦系统及空间光学仪器,包括第一离反射镜和第二离反射镜;第一离反射镜的焦点与第二离反射镜的焦点重合,第一离反射镜的焦距大于第二离反射镜的焦距;还包括折转反射镜,其中第一离反射镜,用于将入射平行光进行反射、汇聚后射入至折转反射镜上;折转反射镜,用于将光束反射至第二离反射镜上;折转反射镜所在位置与第一离反射镜的焦点相差预设距离,预设距离大于零;第二离反射镜,用于将光束进行反射并准直,得到反射平行光。
  • 一种系统空间光学仪器
  • [发明专利]一种微片激光测距仪的离两反系统-CN201810208565.7有效
  • 徐文;陈宝华;张晓春 - 苏州亿帝电子科技有限公司;苏州科技大学
  • 2018-03-14 - 2023-09-05 - G02B17/06
  • 本发明公开了一种微片激光测距仪的离两反系统,该系统包括第一离反射镜和第二离反射镜,第一离反射镜为球面镜,第二离反射镜为偶次非球面镜,激光入射到第一离反射镜后发散并反射至第二离反射镜,并在第二离反射镜上发生反射后出射,形成扩束光斑;其中,第一离反射镜相对于入射激光的主光轴倾斜,第二离反射镜相对于入射激光的主光轴存在离偏心。本发明的微片激光测距仪的离两反系统采用两个离反射镜设计,通过将第一离反射镜设置为球面镜,将第二离反射镜设置为偶次非球面镜,能够在无中心能量损失,无中心遮拦情况下,满足扩束倍率设计要求,实现长距离测距
  • 一种激光测距仪离轴两反系统
  • [发明专利]准同轴低畸变长焦距四反射光学系统-CN201410280680.7有效
  • 金光;钟兴;任秉文;王天聪 - 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  • 2014-06-20 - 2014-09-10 - G02B17/06
  • 准同轴低畸变长焦距四反射光学系统,属于空间光学技术领域,为解决现有同轴系统视场角较小的问题,该光学系统包括孔径光阑、设置在孔径光阑之后的主反射镜、设置在主反射反射光路上的次反射镜、设置在次反射反射光路上的折镜、设置在折反射光路上的第三反射镜,设置在第三反射反射光路上的折镜,设置在折反射光路上的第四反射镜,以及光学系统焦平面;该光学系统为准同轴结构,孔径光阑偏置,主反射镜结构为相对光轴对称非球面的向下偏置的部分通光区域,次反射镜之后光路中的折镜、第三反射镜、折镜、第四反射镜均位于主反射镜的后方,次反射镜、折镜、第三反射镜、折镜、第四反射镜的尺寸均为通光孔径区域。
  • 同轴畸变焦距反射光学系统
  • [实用新型]一种镭雕机的控制电路-CN201920607257.1有效
  • 邹远辉;谢清鹏;史洪江 - 深圳市嗨兴科技有限公司
  • 2019-04-29 - 2020-06-02 - G05B19/042
  • 本实用新型涉及一种镭雕机的控制电路,激光发射器发射的激光束照射在Y反射装置上,Y反射装置将激光束反射至X反射装置上,最后X反射装置将激光束反射至被雕刻物上;通过调节Y反射装置和X反射装置的反射角度并通过测距模块实时测量镭雕机至被雕刻物之间的距离既测量物距,并将测量信号输出给主控电路;当镭雕机开始工作后若测量的物距发生变化,既有物体误入激光束的照射区域,则主控电路关闭激光发射器,以保护激光束照射区域的物体;主控电路还通过角度检测装置检测Y反射装置和X反射装置的反射角度,进而调节Y反射装置和X反射装置的反射角度,以使激光束的照射位置更加精准。
  • 一种镭雕机控制电路
  • [发明专利]一种薄膜切割光路系统-CN201310165622.5有效
  • 彭信翰 - 深圳市木森科技有限公司
  • 2013-05-07 - 2013-07-31 - B23K26/04
  • 本发明公开了一种薄膜切割光路系统,包括用于发射激光的激光器、与该激光器配合的第一反射镜组件、与该第一反射镜组件配合的第二反射镜组件、与该第二反射镜组件配合的第三反射镜组件、X导轨组件和Y导轨组件;X导轨组件设有沿着X方向的X导轨,Y导轨组件设有沿着Y方向的Y导轨;X导轨组件和Y导轨组件活动连接,且X导轨组件沿着Y导轨位移;第二反射镜组件和第三反射镜组件设于X导轨组件上,且第三反射镜组件和X导轨活动连接,第三反射镜组件沿着X导轨位移。本发明采用以上结构,使反射镜本体安装简易、薄膜切割设备生产效率高,激光能射向工作台上不同的位置。
  • 一种薄膜切割系统
  • [实用新型]控式全行程光补装置-CN201120275267.3有效
  • 沈晖 - 苏州领创激光科技有限公司
  • 2011-08-01 - 2012-05-30 - B23K26/06
  • 控式全行程光补装置,它涉及一种光补装置。它的激光器(1)前端Y方向设置有A反射镜座(2),A反射镜座(2)的U1方向设置有B反射镜座(3),B反射镜座(3)的X方向设置有C反射镜座(4),B反射镜座(3)、C反射镜座(4)均设置在光补镜座板(6)上,光补电机(5)设置在B反射镜座(3)、C反射镜座(4)中部的U方向前侧,C反射镜座(4)的X1方向设置有D反射镜座(7),D反射镜座(7)的Y方向设置有E反射镜座(8),E反射镜座(8
  • 轴控式全行程装置
  • [实用新型]一种薄膜切割光路系统-CN201320243263.6有效
  • 彭信翰 - 深圳市木森科技有限公司
  • 2013-05-07 - 2013-11-20 - B23K26/04
  • 本实用新型公开了一种薄膜切割光路系统,包括用于发射激光的激光器、与该激光器配合的第一反射镜组件、与该第一反射镜组件配合的第二反射镜组件、与该第二反射镜组件配合的第三反射镜组件、X导轨组件和Y导轨组件;X导轨组件设有沿着X方向的X导轨,Y导轨组件设有沿着Y方向的Y导轨;X导轨组件和Y导轨组件活动连接,且X导轨组件沿着Y导轨位移;第二反射镜组件和第三反射镜组件设于X导轨组件上,且第三反射镜组件和X导轨活动连接,第三反射镜组件沿着X导轨位移。本实用新型采用以上结构,使反射镜本体安装简易、薄膜切割设备生产效率高,激光能射向工作台上不同的位置。
  • 一种薄膜切割系统
  • [发明专利]太阳能集热装置-CN201580027375.X在审
  • 加藤吉伸;佐竹清史 - 东洋工程株式会社
  • 2015-06-23 - 2017-02-22 - F24J2/38
  • 太阳跟踪型反射镜组(20)以各自的长朝向相同方向的方式配置。第一双太阳跟踪型反射镜组(30)和第二双太阳跟踪型反射镜组(40)并列配置在相对于单太阳跟踪型反射镜(21)的长方向垂直的方向上。此外,单太阳跟踪型反射镜组(20)以被第一双太阳跟踪型反射镜组(30)和第二双太阳跟踪型反射镜组(40)从两侧夹持的方式配置。各反射镜组将根据太阳的位置以单或双跟踪而接收到的太阳能,向集热单元(10)输送。
  • 太阳能装置
  • [发明专利]一种振镜和激光雷达-CN201911284089.8有效
  • 胡小波;沈俭 - 深圳市镭神智能系统有限公司
  • 2019-12-13 - 2021-02-19 - G01S17/02
  • 本发明公开了一种振镜和激光雷达,该振镜包括:固定座,反射镜片:包括第一反射镜片和第二反射镜片,以及振镜驱动架:包括快支架、快框和慢框,第一反射镜片安装在快框中,第二反射镜片安装在慢框中;快框连接于快支架的内侧,慢框固定连接于快支架的外侧,振镜驱动架连接于固定座中;其中,快框绕第二方向扭动,慢框绕第一方向扭动,第一方向与第二方向垂直;第一反射镜片反射探测光束,形成探测视场;第二反射镜片反射由探测视场反馈的回波光束如此,可通过将慢框与快框分离,以预留第二反射镜片的安装空间,并且通过反射镜片绕第一方向同步俯仰,可减小感光阵面的面积,有利于降低振镜以及激光雷达的成本。
  • 一种激光雷达

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