专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]低温溶液中生长ABX3单晶的方法-CN201510254128.5有效
  • 刘生忠;刘渝城;杨周 - 陕西师范大学
  • 2015-05-18 - 2019-06-11 - C30B29/12
  • 本发明提供一种低温溶液中生长ABX3单晶的方法,采用连续生长的方法,连续多周期分阶段在低温溶液中快速生长ABX3单晶,所用溶液浓度大,生长所需原料溶解均匀,增加生长周期和对生长条件的精细控制,很容易得到尺寸大、形状规则、质量高的ABX3单晶,方法工艺简单、可操作性强;生长条件温和,所需温度低,节能;设备要求低、成本低;成功率高、生长单晶速度快;缺陷少、稳定性好,所得单晶尺寸大(>10mm)×(>10mm)×(>10mm)等优点。从而促进对材料及相关光电器件(包括太阳电池、光探测器、LED及激光器等)的基础机理理论研究。
  • 低温溶液生长abxsub钙钛矿单晶方法
  • [发明专利]一种器件的制备方法-CN202211553984.7在审
  • 毕恩兵;文芳;巴前凯 - 宣城先进光伏技术有限公司
  • 2022-12-05 - 2023-03-31 - H10K71/12
  • 本发明提供一种器件的制备方法,包括以下步骤:配制前驱体溶液,所述前驱体溶液中含有添加剂,所述添加剂为胍盐酸盐;采用所述前驱体溶液形成液膜;对所述液膜进行退火得到固态的膜通过在前驱体溶液中添加胍盐酸盐,使得形成膜之后,晶界处均匀分布有胍盐酸盐,不仅抑制了相分离现象,提高了晶体结构的稳定性,还提高了膜的结晶性,增大了晶粒的尺寸,降低膜内的缺陷态密度,从而同时提高了太阳能电池的光电转换性能和稳定性。
  • 一种钙钛矿器件制备方法
  • [发明专利]一种全无机CsPbBr3-x-CN202210600863.7在审
  • 刘渝城;史瑞新;刘生忠 - 陕西师范大学
  • 2022-05-30 - 2022-08-02 - C30B7/06
  • 本发明提供一种全无机CsPbBr3‑xIx单晶及其制备方法,该方法是在有机溶剂中,采用升温结晶的办法,通过调节温度、反应物比例、溶液浓度等参数,在低温溶液中生长不同组分的全无机CsPbBr3‑xIx单晶。该制备方法克服了现有的低温生长高体电阻率、低离子迁移单晶的问题,该方法具有单晶生长时间较短、生长温度低、设备要求低、工艺相对简单且可以得到较高品质的单晶等特点。
  • 一种无机cspbbrbasesub
  • [发明专利]一种mPhDMADPbI4-CN202310527381.8在审
  • 胡伟;李小燕 - 湖南大学
  • 2023-05-11 - 2023-08-22 - C30B7/08
  • 本发明提供了一种mPhDMADPbI4二维单晶及其制备方法,所述制备方法采用水溶液法与变速率梯度降温复合法,具体包括以下步骤:(1)mPhDMADPbI<然后移取HI和H3PO2置于所述玻璃瓶中;(2)mPhDMADPbI4二维单晶的制备:将所述玻璃瓶放置在加热台上,加热至充分溶解,然后以变速率梯度降温法待晶体析出,得到mPhDMADPbI4二维单晶。根据本发明提供的制备方法避免了制备过程转化不完全的问题,能够高效率制备高质量的DJ相二维mPhDMADPbI4单晶材料,本发明首次生长出基于mPhDMADI2的DJ相二维单晶,提高晶体生长的纯度。
  • 一种mphdmadpbibasesub
  • [发明专利]一种宽禁带半导体衬底上旋涂单晶的生长方法-CN202010136825.1在审
  • 孙文红;王玉坤;李磊 - 广西大学
  • 2020-03-02 - 2020-06-05 - C30B29/12
  • 本发明属于太阳能电池、光电探测器以及宽禁带半导体光电材料与器件技术领域,公开了一种宽禁带半导体衬底上旋涂单晶的生长方法,在超声清洗机中用异丙醇、乙醇和去离子水各清洗30分钟,利用紫外臭氧处理衬底15分钟,对宽禁带半导体衬底进行彻底清洗;在经过彻底清洗的宽禁带半导体衬底上采用旋涂仪旋涂碘化铅或无机前体溶液;经过退火处理后,即可得到高质量的碘化铅和单晶薄膜。本发明采用旋涂工艺生长高质量碘化铅和单晶薄膜的技术,通过优化前体溶液的配比以及薄膜生长温度,使用旋涂工艺在宽禁带半导体衬底上生长碘化铅或材料,获得了高质量的外延单晶薄膜,应用于制造高效光电探测器或太阳能电池
  • 一种宽禁带半导体衬底上旋涂单晶生长方法

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