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[发明专利]卤素气体去除剂与制法、去除装置、监测方法、去除方法-CN201910644837.2在审
发明人：砂田健一朗;中嶋直仁;金贤中 -专利权人：日商科莱恩触媒股份有限公司
申请日： 2019-07-17 - 公布日： 2020-02-11 - 主分类号： B01D53/68 文献下载
摘要：本发明提供一种卤素气体去除剂与其制造方法，在利用卤素气体去除剂处理对从半导体制造工序等排出的卤素气体进行处理时，可对卤素气体去除剂的消耗状态进行实时监测，并且可减小卤素气体的泄漏风险。另外，提供一种使用所述卤素气体去除剂的卤素气体去除装置、监测卤素气体去除剂的消耗状态的方法和去除卤素气体的方法。卤素气体去除剂，至少包含无机化合物基材与含硫还原性化合物、显色指示剂。尤其通过以拟薄水铝石为基材，且作为显色指示剂而加入变色范围为pH3～8的pH指示剂，进而加入氧化锌之类的碱性金属化合物，而获得卤素气体处理能力高、可对卤素气体去除剂消耗状态进行监测的卤素气体去除剂。
卤素气体去除剂显色指示剂消耗基材半导体制造工序碱性金属化合物还原性化合物卤素气体处理拟薄水铝石无机化合物去除装置实时监测氧化锌监测减小排出去除变色泄漏制造

[发明专利]准分子激光系统的操作方法-CN200910173181.7无效
发明人：陆建忠;刘世斌 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2009-09-14 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： H01S3/225 文献下载
摘要：首先，在气体室中注入一注入量的卤素气体，直到气体室的气压为一总气压时停止注入卤素气体，且气体室中的卤素气体具有一卤素气压。然后，提供一驱动电压在气体室中的二电极之间，以开启准分子激光系统。卤素气压为限制于与准分子激光系统所产生的激光的一半高带宽有负相关，且卤素气压为限制于与驱动电压有正相关。
准分子激光系统操作方法

[发明专利]挥发性有机化合物污染控制的光化学方法和装置-CN202180075672.7在审
发明人： M·约翰逊;J·A·施密特;S·普格利塞 -专利权人：环境碳甲烷控股有限公司
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： B01D53/86 文献下载
摘要：所述方法包括将目标气体暴露于卤素气体以及来自合适光源的光，所述光具有足以将卤素气体活化为卤素自由基的波长，其中卤素自由基与目标气体中的VOC反应，得到VOC去除的目标气体。还涉及一种包含用于卤素自由基与目标气体中VOC反应的反应室的装置。
挥发性有机化合物污染控制光化学方法装置

[发明专利]卤素类气体的除去方法及卤素类气体的除去剂-CN200780017971.5无效
发明人：樱井茂;有马寿一 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2007-04-16 - 公布日： 2009-06-03 - 主分类号： B01D53/68 文献下载
摘要：本发明提供低浓度区域的本卤素类气体的除去处理能力良好，且可以抑制吸附剂发热，减少固体废弃物的产生量的卤素类气体的除去方法及卤素类气体的除去剂。卤素类气体的除去方法，其中，使包含选自卤素类气体的至少一种的被处理气体与造粒物在水的存在下接触来除去所述卤素类气体，所述卤素类气体包括F₂、Cl₂、Br
卤素气体除去方法

[发明专利]一种纠正卤素检漏仪数据偏差的装置、系统及方法-CN202010053641.9在审
发明人：金学江 -专利权人：上海科石科技发展有限公司
申请日： 2020-01-17 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： G01M3/20 文献下载
摘要：本发明涉及气体检漏仪技术领域，公开了一种纠正卤素检漏仪数据偏差的装置、系统及方法。所述卤素检漏仪采用高频磁场低压电离原理，纠正卤素检漏仪数据偏差的装置包括：壳体，所述壳体设有用于气体流通的腔室，所述腔室的出气口用于与所述卤素检漏仪连接；除湿组件，用于去除进入所述腔室的卤素气体中的水分通过在卤素检漏仪的前端设置纠正卤素检漏仪数据偏差的装置，对进入卤素检漏仪中的气体进行去水分，以解决卤素检漏仪数据产生偏差的问题。
一种纠正卤素检漏数据偏差装置系统方法

[实用新型]一种纠正卤素检漏仪数据偏差的装置及系统-CN202020104608.X有效
发明人：金学江 -专利权人：上海科石科技发展有限公司
申请日： 2020-01-17 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： G01M3/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及气体检漏仪技术领域，公开了一种纠正卤素检漏仪数据偏差的装置及系统。所述卤素检漏仪采用高频磁场低压电离原理，纠正卤素检漏仪数据偏差的装置包括：壳体，所述壳体设有用于气体流通的腔室，所述腔室的出气口用于与所述卤素检漏仪连接；除湿组件，用于去除进入所述腔室的卤素气体中的水分通过在卤素检漏仪的前端设置纠正卤素检漏仪数据偏差的装置，对进入卤素检漏仪中的气体进行去水分，以解决卤素检漏仪数据产生偏差的问题。
一种纠正卤素检漏数据偏差装置系统

[发明专利]一种卤素GM计数管坪特性的改善方法-CN201710820600.6在审
发明人：郑永春 -专利权人：北京聚合信机电有限公司
申请日： 2017-09-13 - 公布日： 2018-01-23 - 主分类号： G01T1/18 文献下载
摘要：本发明提供了一种卤素GM计数管坪特性的改善方法，包括如下步骤将卤素GM计数管坪的工作气体中填充氮气后，进行后续工作，即可；其中，所述工作气体中包括惰性气体和卤素气体。本发明的改善方法，在卤素GM计数管中填充惰性气体及猝灭气体(卤素气体)之外，通过填充氮气后，使得降低随着工作电压增大，出现假脉冲的几率，进而改善了坪特性，使坪长变长，坪斜变小，最后使得卤素GM计数管坪特性更好，该方法适于广泛推广应用，并且方法本身简单，操作方便，无需配备专业人员，就可以实现操作，提高了卤素GM计数管坪的使用性能，可谓一举两得。
一种卤素 gm 计数特性改善方法

[发明专利]排气的处理方法和处理装置-CN200510105170.7无效
发明人：岛田孝;武政登;越智幸史 -专利权人：日本派欧尼株式会社
申请日： 2005-09-28 - 公布日： 2006-04-26 - 主分类号： B01D53/04 文献下载
摘要：本发明的课题在于针对从半导体制造工序排出的包含卤素类气体的排气的净化处理，提供不频繁地将净化剂更新、即使对包含反应性较高的气体的干燥排气进行处理的情况下仍没有火灾的危险性、可容易使处理后的气体中的卤素类气体浓度降低的处理方法和处理装置该方法由在吸附剂中添加卤素类气体吸收液的步骤(A)，与使从半导体制造工序排出的包含卤素类气体的排气与上述吸附剂接触的步骤(B)构成，从该排气中去除该卤素类气体。另外，该处理装置至少包括具有卤素类气体的排气的导入口、吸附剂的填充部、将卤素类气体吸收液添加于该吸附剂的填充部中的机构，以及进行了处理的气体的排出口。
排气处理方法装置

[实用新型]实验室用危废预处理装置-CN202222622520.9有效
发明人：邹小翠;王凤;张凡;袁龙 -专利权人：朴玛（上海）环境技术有限公司
申请日： 2022-09-30 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G01N1/28 文献下载
摘要：本实用新型涉及实验室用危废预处理装置，包括：加热装置，具有加热腔体，危废于加热腔体中进行加热；空气进气机构，用于向加热腔体内通入空气；卤素气体吸收机构，包括吸收瓶，吸收瓶中具有卤素气体吸收液，吸收瓶与所述的加热腔体通过卤素气体管道连通；卤素检测机构，被设置成检测加热腔体内部卤素浓度。本申请的实验室用危废预处理装置，用于对危废在检测前进行高温预处理，在高温预处理过程中，该装置能够收集由危废挥发出卤素气体，从将这部分卤素气体重新纳入到卤素气体含量检测的考量范围之中，从而提高了危废监测的精确度
实验室用危废预处理装置

[发明专利]碳膜的成膜方法和成膜装置-CN202210102475.6在审
发明人：渡边要介;千田翔太 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-01-27 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： C23C16/46 文献下载
摘要：使用卤素作为催化剂的低温CVD碳成膜工艺中，减少卤素的影响，改善碳膜的生产率和膜质。具备如下工序：向基板供给含碳气体和卤素气体，利用化学气相沉积使碳膜沉积在基板上的工序；和，供给跟构成前述卤素气体的卤素反应的气体，使前述碳膜内所含的前述卤素减少的工序，将使前述碳膜沉积的工序和使前述卤素减少的工序作为
方法装置

[发明专利]容器阀的洗净方法、卤素类液化气体的填充方法、高压气体容器的返还方法、洗净器具、洗净剂-CN200680046509.3有效
发明人：登丸雅英 -专利权人：鹤见曹达株式会社
申请日： 2006-07-05 - 公布日： 2009-01-14 - 主分类号： F17C13/04 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种容器阀的洗净方法和其洗净器具，在安装于填充相对有机溶剂具有溶解性的卤素类液化气体的高压气体容器的容器阀中，能够容易且可靠地洗净附着在该容器阀内的卤素类液化气体。作为具体的解决方法，在高压气体容器内填充卤素类液化气体或消耗高压气体容器内的卤素类液化气体之后，保持关闭上述容器阀，从其气体取出口向该容器阀内供给有机溶剂，洗净附着在上述容器阀内的卤素类液化气体。并且，利用喷射剂喷射上述有机溶剂，将其供给至上述容器阀内，由此洗净附着在容器阀上的卤素类液化气体。
容器洗净方法卤素液化气体填充高压返还器具

[发明专利]通过与预热气体接触使液体卤素气化-CN201380012423.9无效
发明人： S·A·库鲁克奇;A·穆德雷;Y·刘;J·M·岗道尔夫;J·J·威库里斯 -专利权人：际特技术美国有限责任公司
申请日： 2013-01-08 - 公布日： 2015-05-06 - 主分类号： C07C1/30 文献下载
摘要：本发明提供一种用于气化液体单质卤素的方法。在不存在卤素的情况下将加热气体预热至预热温度，其产生预热的加热气体。预热的加热气体与液体单质卤素的进料直接接触并且将该进料加热至足以将所述进料的至少一部分气化为一定量的单质卤素蒸气的气化温度。产生气体混合物，其包括加热气体和所述量的单质卤素蒸气。
通过预热气体接触液体卤素气化

[发明专利]用于在双腔室气体放电激光系统中进行高准确度的气体重新充填的系统与方法-CN201280032003.2有效
发明人：江锐;J·J·索恩思;D·J·里格斯;K·M·奥布莱恩 -专利权人：西默有限公司
申请日： 2012-06-21 - 公布日： 2017-04-26 - 主分类号： H01S3/22 文献下载
摘要：公开了用于在诸如准分子激光器之类的双腔室气体放电激光器的激光腔室内自动执行高准确度气体重新充填的系统与方法。基于由用户预先确定或输入的目标压力和卤素浓度，且没有任何进一步的用户动作，添加不含卤素的气体至腔室内达第一压力，紧接着添加包含卤素的气体至大于该腔室的目标压力的第二压力，从而在第二压力处该气体的卤素含量位于期望浓度放出腔室内的气体直到压力降至目标压力。自动地估算所添加的不含卤素的气体的量，且测量含卤素的气体的量，以获得期望浓度，同时考虑温度和来自之前的激光器操作的剩余在充填管道内的任何气体。
用于双腔室气体放电激光系统进行准确度重新充填方法

[发明专利]卤素氟化物的除去方法和卤素氟化物混合气体中含气体成分的定量分析方法、定量分析装置-CN201980081437.3在审
发明人：铃木淳;松井一真 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2019-12-09 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： B01D53/14 文献下载
摘要：提供一种混合气体中所含的包含溴或碘的卤素氟化物的有效除去方法。另外，本发明提供一种能够有效且高精度地对卤素氟化物中的氧、氮、二氧化碳、四氟甲烷等杂质成分进行定量的定量分析方法。一种使含有卤素氟化物的混合气体与除去剂反应而除去所述混合气体中的卤素氟化物的方法，所述卤素氟化物包含溴或碘，所述除去剂是钾、钠、镁、钙和钡的氯化物、溴化物或碘化物。一种卤素氟化物混合气体中的含气体成分的定量分析方法，其特征在于，使含有卤素氟化物及其他气体成分的混合气体与除去剂反应，除去所述混合气体中的卤素氟化物，再除去生成的副产物，然后采用气相色谱仪对残存气体进行定量分析
卤素氟化物除去方法混合气体气体成分定量分析装置

[发明专利]一种脉冲式卤素气体发生器-CN201610594602.3有效
发明人：王坤俊;史英霞;乔太飞;韩丽红;丘丹圭;马英;孔海霞;王瑞云;李永国;邱继林;李彦樟;张文龙 -专利权人：中国辐射防护研究院
申请日： 2016-07-26 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： G01M3/20 文献下载
摘要：本发明属于核技术领域，具体涉及一种脉冲式卤素气体发生器，包括用于储存液态的卤素试剂的承压储液罐，其中还包括通过计量阀与承压储液罐相连的保留腔，计量阀能够将定量的卤素试剂从承压储液罐引入保留腔中；保留腔还分别连接压缩空气进口管路和气体出口管路；压缩空气进口管路用于向保留腔通入压缩气体；在压缩空气进口管路、气体出口管路上设有脉冲阀，脉冲阀用于控制压缩气体从压缩空气进口进入保留腔和从气体出口流出，压缩气体用于将保留腔内的卤素试剂气化为卤素气体并带出气体出口管路该设备具有操作简便，容易控制，便于拆装、维护、卤素试剂用量少，对环境污染小的优点。
一种脉冲卤素气体发生器

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