[发明专利]卤素气体去除剂与制法、去除装置、监测方法、去除方法在审

专利信息
申请号: 201910644837.2 申请日: 2019-07-17
公开(公告)号: CN110772947A 公开(公告)日: 2020-02-11
发明(设计)人: 砂田健一朗;中嶋直仁;金贤中 申请(专利权)人: 日商科莱恩触媒股份有限公司
主分类号: B01D53/68 分类号: B01D53/68;G01N21/78
代理公司: 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 代理人: 罗英;臧建明
地址: 日本东京文京区本驹込2丁*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种卤素气体去除剂与其制造方法,在利用卤素气体去除剂处理对从半导体制造工序等排出的卤素气体进行处理时,可对卤素气体去除剂的消耗状态进行实时监测,并且可减小卤素气体的泄漏风险。另外,提供一种使用所述卤素气体去除剂的卤素气体去除装置、监测卤素气体去除剂的消耗状态的方法和去除卤素气体的方法。卤素气体去除剂,至少包含无机化合物基材与含硫还原性化合物、显色指示剂。尤其通过以拟薄水铝石为基材,且作为显色指示剂而加入变色范围为pH3~8的pH指示剂,进而加入氧化锌之类的碱性金属化合物,而获得卤素气体处理能力高、可对卤素气体去除剂消耗状态进行监测的卤素气体去除剂。
搜索关键词: 卤素气体 去除剂 显色指示剂 消耗 基材 半导体制造工序 碱性金属化合物 还原性化合物 卤素气体处理 拟薄水铝石 无机化合物 去除装置 实时监测 氧化锌 监测 减小 排出 去除 变色 泄漏 制造
【主权项】:
1.一种卤素气体去除剂,至少包含无机化合物、含硫还原性化合物和显色指示剂。/n
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