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[发明专利]衬底处理方法及衬底处理装置-CN201980037650.4在审
发明人：藤原直澄;尾辻正幸;加藤雅彦;佐佐木悠太;山口佑;髙桥弘明 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-06-12 - 公布日： 2021-01-15 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：该衬底处理方法包括：混合升华性物质供给工序，将混合升华性物质供给到衬底的正面，该混合升华性物质是将具有升华性的第1升华性物质、具有比所述第1升华性物质低的蒸气压且具有升华性的第2升华性物质、及相对于所述第1升华性物质及所述第2升华性物质中的至少一种物质可溶的溶剂相互混合而成；凝固膜形成工序，就存在于所述衬底正面的所述混合升华性物质，形成包含所述第1升华性物质及所述第2升华性物质的凝固膜；以及升华工序，使所述凝固膜所包含的至少所述第1升华性物质升华。
衬底处理方法装置

[发明专利]衬底处理方法及衬底处理装置-CN202010482318.3有效
发明人：藤原直澄;尾辻正幸;加藤雅彦;山口佑 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2020-05-29 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： F26B5/04 文献下载
摘要：衬底处理方法包括下述工序：含有升华性物质的液膜形成工序，通过将含有升华性物质的液体向形成有图案的衬底的表面供给，从而在衬底的表面上形成将衬底的表面覆盖的含有升华性物质的液体的液膜，含有升华性物质的液体为包含不经液体即从固体变化为气体的升华性物质和使升华性物质溶解的溶剂的溶液；过渡状态膜形成工序，使溶剂从液膜蒸发而形成升华性物质的固体，由此在衬底的表面形成升华性物质的固体处于结晶化之前的结晶前过渡状态的过渡状态膜；和过渡状态膜除去工序，通过在将升华性物质的固体维持为结晶前过渡状态的同时、使衬底的表面上的升华性物质的固体升华，从而将过渡状态膜从衬底的表面除去。
衬底处理方法装置

[发明专利]基板干燥方法及基板处理装置-CN201911095662.0在审
发明人：佐佐木悠太;高桥弘明;尾辻正幸 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-11-11 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：向基板的上表面供给包括升华性物质和溶剂的溶液即干燥前处理液。然后，通过使溶剂从基板上的干燥前处理液蒸发，从而在基板上的干燥前处理液中析出升华性物质的固体。然后，使升华性物质的固体的至少一部分溶解于基板上的干燥前处理液。然后，通过使溶剂从溶解有升华性物质的固体的干燥前处理液蒸发，从而在基板上析出升华性物质的固体。然后，通过使升华性物质的固体升华，从而从基板的上表面除去升华性物质的固体。
干燥方法处理装置

[发明专利]升华精制的方法和装置-CN01807004.3有效
发明人：副田真日止;堀田修平;石井和男 -专利权人：新日铁化学株式会社;大阪油化工业株式会社
申请日： 2001-03-19 - 公布日： 2003-05-21 - 主分类号： B01D7/00 文献下载
摘要：公开了一种生产具有高纯度和高产率的升华精制产物、同时防止装置被腐蚀、产物被污染和损坏的升华精制方法及其装置。该装置包括由通过电磁感应产生热量的材料制成的热量产生单元，温度可各自独立地由电磁感应加热控制的升华单元(A)和收集单元(B)和(C)。与升华物质接触的升华或收集单元的内表面材料或内管材料为例如对可升华物质为惰性的金属和陶瓷材料。根据本发明的用于升华精制的方法，包括以下步骤将可升华物质引入升华单元，通过电磁感应加热升华单元由此升华可升华物质，将升华物引入包含温度通过电磁感应加热控制的区域的收集单元(B)，和收集目标可升华物质。
升华精制方法装置

[发明专利]基板处理液、基板处理方法以及基板处理装置-CN202310109948.X在审
发明人：田中友耶;尾辻正幸;田中孝佳 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2023-02-13 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C09D5/20 文献下载
摘要：在本发明中，基板处理液具备升华性物质、溶解所述升华性物质的溶剂、以及助剂，所述助剂通过添加至用所述溶剂溶解所述升华性物质所得的溶液中，从而使超过溶解度的所述升华性物质的粒子分散于所述溶液中。因此，在基板处理液中超过溶解度的升华性物质的粒子均匀地分散并溶解于溶剂中。因此，向基板的图案形成面供给的升华性物质比现有技术多，在图案的内部存在大量的升华性物质(固相)。其结果是，可有效地抑制图案间的溶剂残存，可在利用升华性物质(固相)牢固地保持图案的状况下执行升华干燥。
处理方法以及装置

[实用新型]一种易升华物质的分离和净化装置-CN202022194074.7有效
发明人：赵阳;刘文彪;李溶溶 -专利权人：浙江中昱环境工程股份有限公司
申请日： 2020-09-27 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： B01D7/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种易升华物质的分离和净化装置。具体地，本实用新型提供一种易升华物质的分离和净化装置，所述的装置包括物料罐、冷凝回收装置和废气处理装置。本实用新型所述的装置能够简单、快速对易升华物质如樟脑进行进一步的分离纯化，同时能够有效降低易升华物质如樟脑的升华导致的生产车间和外界环境污染，从而实现环境友好型的易升华物质的分离纯化。
一种升华物质分离净化装置

[实用新型]一种易升华物质的分离和净化装置-CN202022226858.3有效
发明人：赵阳;刘文彪;李溶溶 -专利权人：德清县食品药品检验检测中心
申请日： 2020-10-09 - 公布日： 2021-08-17 - 主分类号： B01D7/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种易升华物质的分离和净化装置。具体地，本实用新型提供一种易升华物质的分离和净化装置，所述的装置包括物料罐、冷凝回收装置和废气处理装置。本实用新型所述的装置能够简单、快速对易升华物质如樟脑进行进一步的分离纯化，同时能够有效降低易升华物质如樟脑的升华导致的生产车间和外界环境污染，从而实现环境友好型的易升华物质的分离纯化。
一种升华物质分离净化装置

[发明专利]基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法-CN201710098856.0在审
发明人：宫胜彦 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-02-23 - 公布日： 2017-10-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种在基板表面使溶剂成分从含有升华性物质的溶液中蒸发之后使升华性物质升华的基板处理技术中，能够用较短的节拍时间且出色的能源利用效率来进行处理的技术。基板处理装置具有第一腔室；液膜形成部，其在第一腔室内并在基板的表面形成含有升华性物质的溶液的液膜(P)，该升华性物质具有升华性；第二腔室(30)，其接受形成有液膜(P)的基板(W)；板部(311)，其设于第二腔室(30)内，基板(W)能够被放置于该板部(311)的上表面；温度控制部(312、335)，其控制板部的上表面升温到规定温度；加热部(322)，其在被放置于板部(311)的基板(W)上方，对从溶液析出的升华性物质进行加热，以使该升华性物质升华。
处理装置系统方法

[发明专利]有机半导体材料的升华提纯方法及其升华提纯装置-CN201410423404.1在审
发明人：孟鸿;闫丽佳;黄维 -专利权人：孟鸿
申请日： 2014-08-26 - 公布日： 2014-12-17 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明公开了有机半导体材料的升华提纯方法及其升华提纯装置，属于升华提纯炉技术领域；升华提纯装置，包括内管，内管为多个，且依次连接，其特征在于，相邻两个内管之间设置滤膜，滤膜具有吸附物质和通气的作用；将有机半导体材料经过加热，升华后通过内管之间的滤膜，部分物质被吸附，杂质部分被大量吸附，主物质富集在材料收集区，有利于提高主物质的纯度。
有机半导体材料升华提纯方法及其装置

[发明专利]基板处理方法、基板处理液及基板处理装置-CN201880042458.X在审
发明人：佐佐木悠太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-06-12 - 公布日： 2020-02-14 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法、基板处理液及基板处理装置，所述基板处理方法可抑制图案的倒塌并且削减用于基板干燥的升华性物质的使用量。本发明的基板处理方法包括以下步骤：基板处理液供给步骤S13，其对基板的图案形成面供给基板处理液；凝固步骤S14，其使基板处理液在图案形成面上凝固而形成凝固体；及升华步骤S15，其使凝固体升华而从图案形成面去除；且作为基板处理液，使用以下处理液：其包含熔解状态的升华性物质与溶剂，升华性物质的凝固点高于溶剂的凝固点，且在使升华性物质与溶剂分离的情况下，密度大于基板处理液的升华性物质沉淀；凝固步骤S14中，于在基板处理液供给步骤S13中供给到图案形成面的基板处理液中，使升华性物质分离并沉淀，并使沉淀的升华性物质以成为与图案同等以上的高度的方式凝固。
基板处理液升华性物质基板处理图案形成面供给步骤凝固步骤图案形成处理液凝固点凝固体溶剂沉淀凝固基板处理装置图案升华供给基板溶剂分离沉淀的对基板基板熔解去除倒塌削减

[发明专利]升华性膜形成组合物及基板的制造方法-CN202180021714.9在审
发明人：照井贵阳;公文创一;福井由季 -专利权人：中央硝子株式会社
申请日： 2021-03-10 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的升华性膜形成组合物包含升华性物质和升华性物质的饱和溶解度大于10质量％的溶剂。
升华形成组合制造方法

[发明专利]升华性物质的回收方法-CN98108832.5无效
发明人：打田宽;曾我部秀喜;薮内辉明 -专利权人：株式会社日本触媒
申请日： 1998-04-07 - 公布日： 2002-10-02 - 主分类号： B01D7/02 文献下载
摘要：本发明提供一种以比较简单的结构实施、简单并且具有良好效率的剥离析出结晶而进行回收的升华性物质的回收方法。在将含有升华性物质的气体通入设置有应该回收升华性物质的结晶析出面的竖式回收器中，该升华性物质在上述结晶析出面上结晶析出之后，将其取出的升华性物质的回收方法中，通过将该结晶析出面的温度降低到结晶析出时的温度
升华物质回收方法

[发明专利]一种基板处理方法和基板处理装置-CN202310969277.4在审
发明人：奥谷学;髙桥弘明;尾辻正幸;阿部博史;前田主悦;中井仁司;佐佐木悠太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-09-21 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法，包括：混合液膜形成工序，向基板的表面供给混合处理液，在所述基板的表面形成所述混合处理液的液膜，所述混合处理液是将第一升华性物质和与所述第一升华性物质不同的第一添加剂混合而成的混合处理液，且该混合处理液的凝固点低于所述第一升华性物质的凝固点；凝固工序，使所述混合处理液的所述液膜凝固来形成凝固体；以及升华工序，使所述凝固体中所含的所述第一升华性物质升华以从所述基板的表面去除所述第一升华性物质
一种处理方法装置

[发明专利]基片干燥装置、基片干燥方法和存储介质-CN201980008874.2在审
发明人：川渕洋介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-01-28 - 公布日： 2020-09-04 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种能够防止图案倒塌并行使充满在形成于基片的图案的凹部中的升华性物质升华的基片干燥装置、基片干燥方法和存储介质。第1单元包括：溶液供给部，其将含有升华性物质和溶剂的升华性物质溶液供给到处理面(Wa)；和第1液除去部，其从被供给了升华性物质溶液的处理面(Wa)上除去溶剂和处理液，在处理面(Wa)上形成升华性物质的固体膜第2单元包括：第2液除去部(61、62、63)，其对形成有固体膜(SS)的基片(W)进行加热，将基片(W)维持在比升华性物质的升华温度低的第1温度范围内的温度，由此使残存在固体膜(SS)内的溶剂和处理液70气化；和固体膜除去部(61、62、63)，其将基片(W)加热至升华温度以上的第2温度范围内的温度，由此将固体膜(SS)从处理面(Wa)上除去。
干燥装置方法存储介质

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN201980086789.8在审
发明人：佐佐木悠太;高桥弘明;藤原直澄;尾辻正幸;加藤雅彦;山口佑 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-11-25 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的基板处理方法包含：干燥前处理液供给工序，其是将升华性物质溶解于溶剂中而成的溶液即干燥前处理液供给至形成有图案的基板的上表面，而在上述基板的上述上表面形成上述干燥前处理液的液膜；析出工序，其是通过使上述溶剂自上述液膜蒸发，而使上述升华性物质的固体在上述基板的上述上表面析出；浓度判定工序，其是在上述析出工序中上述升华性物质的固体析出之前，基于通过上述溶剂的蒸发而上述液膜的厚度减少的速度即膜厚减少速度，判定上述液膜中的上述升华性物质的浓度是否为基准浓度范围内；及升华工序，其是在上述浓度判定工序中判定上述液膜中的上述升华性物质的浓度为基准浓度范围内的情形时，在上述析出工序结束后，使上述升华性物质的固体升华。
处理方法装置

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