专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种化学溶液及工艺-CN201610282643.9在审
  • 罗林;李琳;白丽敏;吕标 - 罗林
  • 2016-04-29 - 2016-07-06 - C23C18/36
  • 本发明涉及一种化学溶液及工艺。所述化学溶液以水为溶剂,每升化学溶液中含有以下组分:硫酸18‑30g;次磷酸钠20‑30g;缓冲剂:维持化学溶液pH值,控制其pH值在3.8‑5.8之间;络合剂:12‑24g;稳定剂:0.0003所述化学溶液不含重金属元素,符合欧盟ROHS要求,大大减少了化学废液处理的程序和工作量,减少了化学对生态环境的污染和破坏。所述工艺,使用所述化学溶液,操作简便,减少了化学废液处理的程序和工作量,减少了化学对生态环境的污染和破坏。
  • 一种化学溶液工艺
  • [发明专利]一种镁合金无氟联氨化学溶液及其工艺-CN201510788014.9在审
  • 张俊;闫大龙;余刚;钟欢;张瑜;廖媛 - 湖南大学
  • 2015-11-17 - 2016-02-17 - C23C18/34
  • 一种镁合金无氟联氨化学溶液及其工艺,所述溶液包括碱性无氟联氨化学溶液和酸性无氟化学溶液;所述碱性无氟化学溶液pH值≥13,其组成为:氯化、联氨、络合剂、氢氧化钠或氢氧化钾、硼酸和硫脲;所述酸性无氟化学溶液pH值为4~6,其组成为:盐、次亚磷酸钠、柠檬酸和硫脲。所述工艺,包括以下步骤:抛光,除油除脂,碱洗,酸洗,活化,碱性无氟联氨化学,酸性无氟化学,钝化。本发明液成分不含氟,组成安全,不污染环境,碱性无氟联氨化学溶液使用寿命长,所得复合镀层的外层为非晶态磷合金,复合镀层致密性高,耐蚀性较好,结合力良好,具有良好的工业应用前景。
  • 一种镁合金无氟联氨化学镀镍溶液及其工艺
  • [发明专利]一种化学液、一种化学方法和一种化学-CN201310148913.3在审
  • 陈帆;连俊兰 - 比亚迪股份有限公司
  • 2013-04-26 - 2014-10-29 - C23C18/36
  • 本发明提供了一种化学液,所述化学液中含有主盐、还原剂、络合剂、稳定剂、光亮剂和表面活性剂;所述化学液中还含有0~30g/L的胺类促进剂。本发明还提供了采用该化学液进行化学的方法和由该方法制备得到的化学件。采用本发明提供的化学液对工件表面进行化学,通过仅调节化学液中单一组分(即胺类促进剂)的含量、同时适应性调节施条件,从而使得仅采用一个基本化学液配方(即本发明提供的化学液)即可实现镀层中不同磷含量的需求,工艺简化。
  • 一种化学镀镍液方法镀镍件
  • [发明专利]一种镁合金无氟化学溶液及其工艺-CN201510165765.5有效
  • 胡波年;余刚;闫大龙 - 湖南大学;湖南工学院
  • 2015-04-10 - 2017-10-31 - C23C18/36
  • 一种镁合金无氟化学溶液及其工艺,所述溶液包括碱性无氟化学溶液和酸性无氟化学溶液;所述碱性无氟化学溶液pH值为10~12,其组成为盐、次亚磷酸钠、柠檬酸盐、碳酸钠和硫脲;所述酸性无氟化学溶液pH值为4~6,其组成为盐、次亚磷酸钠、柠檬酸和硫脲。所述工艺,包括以下步骤抛光,除油除脂,碱洗,酸洗,活化,碱性无氟化学,酸性无氟化学,钝化。本发明液不含氟,组成安全,不污染环境,所得复合镀层的外层为非晶态磷合金,复合镀层致密性高,耐蚀性较好,结合力良好,具有良好的工业应用前景。
  • 一种镁合金氟化学镀镍溶液及其工艺
  • [发明专利]铜合金化学工艺-CN200510035822.4无效
  • 赵顺;王江锋 - 佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司
  • 2005-07-11 - 2007-01-17 - C23C18/32
  • 本发明是一种铜合金化学工艺,包括以下步骤:将合金表面透过酸洗,将其表面之油脂清洗干净,再将该合金进行预电镀,最后,再以化学方式进行电镀。本发明工艺过程简单化,维护简单,去除了活化过程,节省了成本,使化学可以在铜合金表面进行,而且预电镀及化学液的操作温度低,pH接近中性,此工艺由于没有活化过程,避免了以前工艺对于化学液的影响,液使用周期加长。
  • 铜合金化学工艺
  • [发明专利]一种化学液及化学工艺-CN201110206474.8无效
  • 陈兵 - 深圳市精诚达电路有限公司
  • 2011-07-22 - 2011-12-07 - C23C18/36
  • 本发明涉及一种挠性印制电路板用化学液及化学工艺。本发明的化学液,包含以下浓度含量的组分:盐,以Ni2+的含量计算为4.5~5.5g/L;还原剂,15~40g/L;络合剂,20~100g/L;稳定剂,0.01~10mg/L;促进剂,0.001~1g本发明的化学工艺化学液的温度为75-90℃,化学液的pH值为4.5-5.4,化学时间为15-30分钟。采用本发明的化学液及化学工艺,能有效降低层的应力,改善层的韧性,使层具备良好的弯折性能,满足挠性印制电路板的生产及装配要求,进一步提高了良品率。
  • 一种化学镀镍液工艺

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