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[发明专利]镀锡液和镀锡方法-CN202310992772.7在审
发明人：陈成;谢丽虹;赖少媚;肖定军;洪朝辉;刘彬云 -专利权人：广东光华科技股份有限公司;光华科学技术研究院（广东）有限公司
申请日： 2023-08-08 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C25D3/32 文献下载
摘要：本发明涉及电子元器件技术领域，特别涉及一种镀锡液和镀锡方法。镀锡液包括亚锡盐、添加剂和水，所述添加剂包括具有式(I)所示结构的化合物。本发明的镀锡液不仅能够提高锡层平滑度和结晶致密度，同时，还不易起泡，并且不易产生沉淀，可应用于旋转电镀中，提高镀液稳定性和长期使用性。#imgabs0#
镀锡方法

[发明专利]二硫代酯类有机物及其制备方法与应用、镀铜液-CN202211724812.1在审
发明人：吴豪忠;李婧雅;谭超力;邹浩斌;高健;刘彬云 -专利权人：光华科学技术研究院（广东）有限公司;广东东硕科技有限公司;广东光华科技股份有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： C07C327/36 文献下载
摘要：本发明提供了一种二硫代酯类有机物，结构如通式(1)或(2)所示。该二硫代酯类有机物具有可灵活调控光亮剂的吸附性能和去极化性能的优势，性能更为可控、优越。进一步地，本发明的二硫代酯类有机物搭配抑制剂和整平剂，能够进一步优化微孔附近的电流分布，协同提升酸铜镀液的电镀加工性能。另外，对于镀层的力学性能，尤其在延展性上也表现出明显的提升。
二硫代酯类有机物及其制备方法应用镀铜

[发明专利]四氮唑类化合物及其制备方法和应用-CN202211696700.X在审
发明人：冼日华;杜小林;叶绍明;刘彬云;肖定军 -专利权人：光华科学技术研究院（广东）有限公司;广东东硕科技有限公司;广东光华科技股份有限公司
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： C07D257/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种四氮唑类化合物及其制备方法和应用。该四氮唑类化合物具有式(I)所示结构，其可作为一类新型的键合剂，用于牢固粘合铜/铜合金和树脂，并降低趋肤效应，具有良好的信号传输效果，满足高频高速通讯产品的要求。
四氮唑类化合物及其制备方法应用

[发明专利]铁氧体表面粗化液及其在铁氧体表面粗化处理和金属化处理的应用-CN202110860358.1有效
发明人：杨彦章;刘彬云;袁明军;张坚诚;陈志华;高雅;廖廷聪 -专利权人：光华科学技术研究院（广东）有限公司;广东光华科技股份有限公司
申请日： 2021-07-27 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： C09K13/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种铁氧体表面粗化液及其在铁氧体表面粗化处理和金属化处理的应用。所述铁氧体表面粗化液包括所述铁氧体表面粗化液包括水、酸和盐，所述酸和盐的摩尔比为1：(0.002～11)；酸为有机酸和/或无机酸；盐为碱金属氯化物、碱土金属氯化物、碱金属氟化物和水溶性铵盐中的至少一种；有机酸为甲基磺酸、甲酸、柠檬酸和草酸中的至少一种；无机酸为硫酸、硝酸、硼酸、碘酸、硒酸、亚硫酸、亚硝酸和磷酸中的至少一种；碱金属氯化物为氯化钠和氯化钾中的至少一种；碱土金属氯化物为氯化镁和氯化钙中的至少一种；碱金属氟化物为氟化钠和氟化钾中的至少一种。该铁氧体表面粗化液粗化效果好，非常环保，具有广泛的应用前景。
铁氧体表面粗化液及其处理金属化应用

[发明专利]树脂组合物在载具保护中的应用和载具-CN202211059407.2在审
发明人：胡秋雨;文棒荣;黄伟麟;刘永如;刘彬云 -专利权人：广东光华科技股份有限公司;光华科学技术研究院（广东）有限公司
申请日： 2022-08-31 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： C09D139/06 文献下载
摘要：本申请涉及一种树脂组合物在载具保护中的应用，包括1～30份的亲水性树脂、1～30份的耐水性树脂、1～25份的非离子表面活性剂、0～80份的稀释剂以及10～80份的水，该树脂组合物固化后耐高温性能强，具有较低的吸湿率。本申请还涉及一种具有保护膜的载具，不易软化或开裂，使得被保护的载具可以多次重复利用，提高生产效率。当需要褪去保护膜时，只需将载具浸泡在温水中，保护膜能够较快的吸水，使得保护膜能够轻易褪去。
树脂组合保护中的应用

[发明专利]涂层及其制备方法和元件-CN202210759666.X在审
发明人：王永根;范炜隆;陈海锋;胡凌峰;刘永如;刘彬云 -专利权人：光华科学技术研究院（广东）有限公司;广东光华科技股份有限公司;广东东硕科技有限公司
申请日： 2022-06-30 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： C23C28/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种涂层及其制备方法和元件，涂层的包括用于与基底接触的第一涂层以及层叠在第一涂层之上的第二涂层和第三涂层；其中，第一涂层的组分包括第一金属材料，第二涂层的组分包括第二金属材料，第三涂层的组分包括非金属材料。涂层中第一涂层以及第二涂层的金属涂层构筑了错位的晶体结构，形成致密的物理保护层，阻挡外界腐蚀因素对基底的腐蚀，配合起到封孔以及增强屏蔽作用的第三涂层，防止腐蚀性介质渗入涂层，具有上述涂层的基底还具有耐高温以及良好防腐性能。
涂层及其制备方法元件

[发明专利]整平剂、电镀液及其应用-CN202011602731.5有效
发明人：邹浩斌;高健;席道林;万会勇;肖定军;刘彬云;谭超力;杨彦章 -专利权人：广东东硕科技有限公司;光华科学技术研究院（广东）有限公司
申请日： 2020-12-29 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： C08G65/00 文献下载
摘要：本发明涉及整平剂、电镀液及其应用，其中，整平剂包括功效成分，功效成分为含醚键的伯胺化合物、仲胺化合物和二环氧化合物的反应产物。该整平剂被用于电铜镀液中时，在常规的电流密度范围内，既能确保盲孔填镀满足常规要求，也能使面铜厚度控制在较小的范围内。不仅能够提高生产效率，还可以降低工艺成本，并且与精细线路的制作具有优异的兼容性，降低后续制作精细线路的蚀刻难度。
整平剂电镀及其应用

[发明专利]绝缘基材表面电镀金属的方法-CN201811003652.5有效
发明人： 刘彬云;肖亮;何雄斌;宋兴文 -专利权人：广东东硕科技有限公司
申请日： 2018-08-30 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： C25D5/54 文献下载
摘要：本发明涉及一种绝缘基材表面电镀金属的方法，包括如下步骤：使所述绝缘基材表面与水溶性阴离子化合物接触以产生改性表面；将所述改性表面与含有高锰酸根离子的水溶液接触，以在所述改性表面上形成二氧化锰吸附层；于所述二氧化锰吸附层表面形成导电聚合物层；于所述导电聚合物层表面电镀形成金属层。上述方法利用阴离子化合物在绝缘基材表面沉积，与基材表面之间形成紧密结合的涂覆层，经过这种修饰和吸附，在表面形成均匀而具有一定厚度的薄膜后，在相同的金属电镀液及电镀条件下，电镀液的深镀能力和分散能力会得到较大提高，所得金属镀层具有平坦，均匀，背光效果好的特点，避免孔破和孔内个别位点电镀金属层过薄现象的产生。
绝缘基材表面电镀金属方法

[发明专利]蚀刻液及其制备方法与应用-CN202210568533.4在审
发明人：周志强;胡秋雨;袁明军;李治文;钟上彪;刘彬云 -专利权人：光华科学技术研究院（广东）有限公司;广东光华科技股份有限公司;广东东硕科技有限公司
申请日： 2022-05-24 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明提供了一种蚀刻液，蚀刻液包括如下组分：无机酸、氧化剂、铜缓蚀剂、助溶剂与水；其中，所述铜缓蚀剂包括含有苯磺酰胺基团的化合物与有机羧酸的混合物；所述有机羧酸的分子式为R‑COOH，R为具有2至5个C原子并且被2至4个羟基取代的烃基。该蚀刻液高效、性能稳定且反应条件温和，对铜腐蚀作用小，并且环保。
蚀刻及其制备方法应用

[发明专利]一种五水四甲基氢氧化铵晶体的脱水方法-CN202111294981.1在审
发明人：江燕斌;邓文浩;邓月华;袁明军;杨应喜;刘彬云;赖少媚 -专利权人：华南理工大学;广东光华科技股份有限公司;光华科学技术研究院（广东）有限公司
申请日： 2021-11-03 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： C07C211/63 文献下载
摘要：本发明公开了一种五水四甲基氢氧化铵晶体的脱水方法。该方法将含五个结晶水的四甲基氢氧化铵晶体溶于有机溶剂，溶解，制得四甲基氢氧化铵有机溶液的原料液；原料液经过二级刮膜式分子蒸馏器的一级蒸馏预热后进入二级蒸馏，控制冷阱的温度为0‑8℃，真空度为100‑1000Pa，进而控制二级蒸馏原料的蒸发流量为10‑40ml/(m2·s)，分子蒸馏的温度为75‑85℃，真空度为100‑1000Pa；收集重组分，得到含水量为0.4‑0.87wt％四甲基氢氧化铵有机溶液。该方法原材料简单易得，操作简单，能够有效去除TMAH五水结晶化合物中的水，制得可用于电子半导体行业的无水TMAH有机溶液。
一种五水四甲基氢氧化铵晶体脱水方法

[发明专利]氢氧化镍及其制备方法和应用-CN202111499761.2在审
发明人：陈宣名;赖少媚;林樑旭;李祥忠;胡喜军;刘彬云 -专利权人：广东光华科技股份有限公司;光华科学技术研究院（广东）有限公司
申请日： 2021-12-09 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： C01G53/04 文献下载
摘要：本发明涉及氢氧化镍及其制备方法和应用。该氢氧化镍的制备方法包括以下步骤：将镍盐、水和碱混合，通过反应制得氢氧化镍胶体；对所述氢氧化镍胶体进行冻干处理，得到多孔状固体；所述镍盐含有的镍离子与所述碱含有的氢氧根离子的摩尔比为1：(0.5‑3)。该方法操作简单，且可以直接使用含镍镀金属废水作为镍离子源反应物制备氢氧化镍，克服了传统方法设备复杂昂贵、制备原料成本高，能耗高，批量生产受限制等问题，非常经济。该方法得到的冻干氢氧化镍为疏松固体，颗粒大小为微米级，表面粗糙，将其用于催化降解有机物时，氢氧化镍可以更好地和氧化剂接触，对于有机污染物的催化降解效果更好，且不会引入额外的污染物，极具应用前景。
氢氧化及其制备方法应用

[发明专利]蚀刻液及其制备方法和应用-CN202111276160.5在审
发明人：周志强;袁明军;李治文;杜小林;胡秋雨;刘彬云 -专利权人：光华科学技术研究院（广东）有限公司;广东光华科技股份有限公司;广东东硕科技有限公司
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2022-01-21 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明涉及一种蚀刻液及其制备方法应用，该蚀刻液包括水、氟盐、铝缓蚀剂和氧化剂；所述铝缓蚀剂的结构中含有氮原子和硼羟基，或所述铝缓蚀剂的结构中含有氮原子和硼酸频哪醇酯基。该蚀刻液能快速蚀刻腐蚀钛而对铝的腐蚀作用较小，蚀刻系数大，能够满足目前半导体晶圆封装工艺制作精细线路的制程要求，且安全可靠，对环境污染小，具有广阔的应用前景。
蚀刻及其制备方法应用

[发明专利]复合光催化材料及其制备方法和应用-CN202111271225.7在审
发明人：吕新聪;刘彬云;林樑旭;李祥忠;胡喜军;黄辉祥 -专利权人：广东光华科技股份有限公司;光华科学技术研究院（广东）有限公司
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： B01J23/18 文献下载
摘要：本发明涉及光催化领域和新能源技术领域，特别涉及复合光催化材料及其制备方法和应用。所述复合光催化材料的制备方法，包括以下步骤：按质量比为1:20～1:100称取多巴胺和溴氧化铋，然后使所述多巴胺在所述溴氧化铋的表面聚合，制备聚多巴胺/溴氧化铋复合中间体；于400℃～500℃的温度下煅烧所述聚多巴胺/溴氧化铋复合中间体，得聚多巴胺/溴氧化铋/氧化铋复合材料，作为所述复合光催化材料。制备的光催化材料具有较高的光催化活性和较好的催化稳定性。
复合光催化材料及其制备方法应用

[发明专利]苯并吡嗪类化合物在铜面粗化中的应用及包含其的铜面粗化用组合物-CN201811628787.0有效
发明人：杜小林;叶绍明;赵明宇;万会勇;刘彬云 -专利权人：广东东硕科技有限公司
申请日： 2018-12-28 - 公布日： 2021-02-23 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及苯并吡嗪类化合物在铜面粗化中的应用及包含其的铜面粗化用组合物。其中，苯并吡嗪类化合物具有式(Ⅰ)所示的结构其中，R1、R2、R3、R4和R5各自独立地选自氢原子、甲基、羟基、羧基或硝基；R5和R6各自独立地选自氢原子、羧基或氯原子。上述苯并吡嗪类化合物及包含其的铜面粗化用组合物具有能使得激光钻孔前的铜面颜色均匀，比表面积大并且铜层微蚀量低的优点，可以有效地提高由其制备而成的线路板的品质。
吡嗪类化合物铜面粗化中的应用包含铜面粗化用组合

[发明专利]一种化学镀钯还原剂及化学镀钯液-CN202010373323.0在审
发明人：郝志峰;黄静梦;许润峰;吴博;胡光辉;王斌;杨应喜;黎小芳;李小兵;刘彬云 -专利权人：广东工业大学;广东东硕科技有限公司
申请日： 2020-05-06 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： C23C18/44 文献下载
摘要：本发明属于化学镀钯技术领域，具体涉及一种化学镀钯还原剂及化学镀钯液。该化学镀钯还原剂为六次甲基四胺、葡萄糖、乳糖中的一种或几种，绿色环保，改善了传统肼、甲酸、甲醛等还原剂对环境的污染，可以加快钯的沉积，形成致密钯膜，减少钯盐的添加量，大大降低成本，所得化学镀钯液组分简单、稳定性高，制备得到的钯层表面平整、光亮度高，适用于大规模产业化生产，应用前景广阔。
一种化学还原剂镀钯液

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