“化学反应气体”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果2195420个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]高压可视微波化学反应装置-CN200410015013.2无效
发明人：樊栓狮;李栋梁;梁得青 -专利权人：中国科学院广州能源研究所
申请日： 2004-01-06 - 公布日： 2004-12-22 - 主分类号： B01J19/12 文献下载
摘要：本发明涉及一种高压可视微波化学反应装置，它包括微波产生/控制/传输系统、化学反应釜、恒温系统和反应气体进出及计量系统；化学反应釜为圆形，包括不锈钢外套9－4、不锈钢保护环9－5、耐高压玻璃简体9－3、耐高压微波导入玻璃9－2和封头9－1；本发明把微波引入高压化学反应装置中，具有独特的加热性能，热量从介质内部产生，温度场比较均匀，对某些化学反应除具有热效应外还有非热效应；应用范围广，可进行低温实验，耐腐蚀，温度和压力可测量
高压可视微波化学反应装置

[发明专利]一种生产羟基亚乙基二磷酸复配阻垢剂的机械装置-CN201310212803.9无效
发明人：鲍宜仿 -专利权人：鲍宜仿
申请日： 2013-06-01 - 公布日： 2014-12-17 - 主分类号： B01J19/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种生产羟基亚乙基二磷酸复配阻垢剂的机械装置，该装置属于化工领域；包括：三氯化磷储罐、冰醋酸储罐、第一化学反应釜、亚磷酸储罐、搅拌罐、第二化学反应釜；其特征是：三氯化磷储罐和第一化学反应釜间设有第一料浆泵和管道，冰醋酸储罐储罐和第一化学反应釜间设有第二料浆泵和管道，第一化学反应釜上设有气体出口，第一化学反应釜和搅拌罐间设有第三料浆泵和管道，亚磷酸储罐和搅拌罐间设有第四料浆泵和管道，搅拌罐和第二化学反应釜间设有第五料浆泵和管道，第二化学反应釜上设有聚丙烯酸进口、氨基三甲叉膦酸四钠进口、水溶性苯骈三氮唑钠进口、成品出口。
一种生产羟基乙基二磷酸复配阻垢剂机械装置

[实用新型]新型羟基亚乙基二磷酸复配阻垢剂生产装置-CN201320310479.X有效
发明人：鲍宜仿 -专利权人：鲍宜仿
申请日： 2013-06-01 - 公布日： 2013-11-27 - 主分类号： C02F5/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型羟基亚乙基二磷酸复配阻垢剂生产装置，该装置属于化工领域；包括：三氯化磷储罐、冰醋酸储罐、第一化学反应釜、亚磷酸储罐、搅拌罐、第二化学反应釜；其特征是：三氯化磷储罐和第一化学反应釜间设有第一料浆泵和管道，冰醋酸储罐储罐和第一化学反应釜间设有第二料浆泵和管道，第一化学反应釜上设有气体出口，第一化学反应釜和搅拌罐间设有第三料浆泵和管道，亚磷酸储罐和搅拌罐间设有第四料浆泵和管道，搅拌罐和第二化学反应釜间设有第五料浆泵和管道，第二化学反应釜上设有聚丙烯酸进口、氨基三甲叉膦酸四钠进口、水溶性苯骈三氮唑钠进口、成品出口。
新型羟基乙基二磷酸复配阻垢剂生产装置

[发明专利]一种基于容量法测定气液化学反应速率的装置及测定方法-CN201310120133.8有效
发明人：张辉;张四宗;张翠珍;谭雅倩;刘洋 -专利权人：北京科技大学
申请日： 2013-04-08 - 公布日： 2013-07-10 - 主分类号： G01N7/00 文献下载
摘要：一种基于容量法测定气液化学反应速率的装置及测定方法，属于化学反应工程领域。由气源系统、真空系统、气体计量系统、气液反应系统、加热系统、搅拌系统、冷却系统和数据采集系统八部分组成。溶液和磁力搅拌子通过进液口置于气液反应腔中，用真空泵对计量腔和气液反应腔抽真空，去除残余气体，关闭真空电磁阀，向计量腔放入指定压力的气体，计算其摩尔数，关闭气源电磁阀，然后对溶液进行控温和搅拌，当达到反应条件时，打开均压电磁阀，向气液反应腔注入反应气体，当压力平衡时，关闭均压电磁阀，通过监测气液反应腔内气体压力随时间的变化获得化学反应的速率。
一种基于容量测定液化反应速率装置方法

[实用新型]一种基于容量法测定气液化学反应速率的装置-CN201320172106.0有效
发明人：张辉;张四宗;张翠珍;谭雅倩;刘洋 -专利权人：北京科技大学
申请日： 2013-04-08 - 公布日： 2013-08-28 - 主分类号： G01N7/00 文献下载
摘要：一种基于容量法测定气液化学反应速率的装置，属于化学反应工程领域。由气源系统、真空系统、气体计量系统、气液反应系统、加热系统、搅拌系统、冷却系统和数据采集系统八部分组成。溶液和磁力搅拌子通过进液口置于气液反应腔中，用真空泵对计量腔和气液反应腔抽真空，去除残余气体，关闭真空电磁阀，向计量腔放入指定压力的气体，计算其摩尔数，关闭气源电磁阀，然后对溶液进行控温和搅拌，当达到反应条件时，打开均压电磁阀，向气液反应腔注入反应气体，当压力平衡时，关闭均压电磁阀，通过监测气液反应腔内气体压力随时间的变化获得化学反应的速率。
一种基于容量测定液化反应速率装置

[实用新型]一种可控温的双层烟雾箱-CN201020141957.5无效
发明人：杨果;董宁;朱平;郭冰;戴煦 -专利权人：深圳市华测检测技术股份有限公司
申请日： 2010-03-23 - 公布日： 2011-05-04 - 主分类号： B01L1/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种可控温的双层烟雾箱，使用这种烟雾箱可以控制光化学反应的温度。烟雾箱由光化学反应舱、调控舱、控温系统和采样分析系统构成。烟雾箱的主体为双层结构，外层和内层均为透光材料；外层和内层之间的空间是调控舱，装有调控换气阀；内层所包围的空间是光化学反应舱，装有反应换气阀和采样口。本实用新型公布的这种双层烟雾箱能够对光化学反应的温度进行调节，同时保证了反应舱中的光化学反应不受各种调温装置的影响，因此，增加实验的可重复性和实验结果的可靠性。另外外层调控舱可以起到保护内层光化学反应舱的作用，并防止反应舱内的气体被污染。
一种可控双层烟雾

[发明专利]形成掺杂有金属的含硅绝缘膜的成膜方法和装置-CN200910130094.3无效
发明人：门永健太郎;户根川大和;周保华;长谷部一秀;柴田哲弥 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-04-17 - 公布日： 2009-10-21 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体处理用的成膜方法，其在能够被有选择地供给硅源气体和金属源气体的处理容器的处理区域内，进行在被处理衬底上形成掺杂有金属的含硅绝缘膜的成膜处理。成膜处理包括：阻断所述金属源气体的供给、并且使所述硅源气体发生化学反应来形成第一绝缘薄层的工序；接着，阻断所述硅源气体的供给、并且使所述金属源气体发生化学反应来形成第一金属薄层的工序；接着，阻断所述金属源气体的供给、并且使所述硅源气体发生化学反应来形成第二绝缘薄层的工序。
形成掺杂金属绝缘方法装置

[发明专利]激光诱导CVD设备-CN201610505715.1有效
发明人：吴卫东;彭丽萍;王雪敏;黎维华;樊龙;蒋涛;王新明;湛治强;沈昌乐;阎大伟;赵妍;邓青华 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2016-06-29 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光诱导CVD装置，包括真空腔体，抽气系统，真空计，气体输运系统以及激光器。真空腔体是化学反应发生的场所，气体输运系统把发生反应的物质输送到真空腔内，激光给化学反应的发生提供能源，抽气系统保证化学反应的真空环境，真空计测试腔体的真空度。其中的气体输运系统采用脉冲进气和特殊的管道口设计，特殊的管道口设计保证了气体以一定流量均匀的进入真空腔体，配合优化的气体流量和真空度可实现气体以分子流的方式进入真空腔体，脉冲进气可进一步的实现气体的精确控制本发明通过脉冲进气和特殊管道口的设计，在激光的作用下可实现聚合物的单分子层化学气相沉积。
激光诱导 cvd 设备

[发明专利]屏障层的制备方法和包含这种屏障层的载体主体-CN202010230445.4在审
发明人：弗兰克·福尔科默;克劳斯-迪特尔·鲍尔;于尔根·鲍尔;马托·克内兹;基思·格雷戈尔奇克 -专利权人：欧司朗OLED股份有限公司;CIC纳米技术加强公司
申请日： 2014-07-24 - 公布日： 2020-08-07 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：的方法，包括以下步骤：A)提供包含由至少一种聚合物制成的聚合物膜(2)的载体主体(1)，所述聚合物膜(2)形成载体主体(1)的屏障界面(20)，B)干燥屏障界面(20)；C)使屏障界面(20)暴露于一种反应物气体(4)或暴露于彼此之间不进行化学反应的多种反应物气体(4)，使得至少一种反应物气体(4)与至少一种聚合物至少在聚合物膜(2)的内部以至少一种化学反应化学地反应，从而形成屏障层(22)；以及D)除去所述至少一种化学反应的至少一种产物气体
屏障制备方法包含这种载体主体

[发明专利]反应装置-CN200510076740.4有效
发明人：广田敦史;西村徹 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2005-06-10 - 公布日： 2006-12-13 - 主分类号： B01J10/00 文献下载
摘要：本发明涉及用于气液化学反应的反应装置，该反应装置能制备目标反应产物。本发明是使用膜式催化剂进行使液体成连续相的气液化学反应的反应装置，该反应装置的反应器内部具备用于分散反应原料气体或运载气体的剪切式搅拌叶片。并且，本发明还涉及使用该反应装置使伯胺或仲胺与醇反应的叔胺制备方法。
反应装置

[发明专利]一种电化学反应池隔膜及其应用-CN202210729582.1有效
发明人：李桂花;陈为;宋艳芳;董笑;吴钢锋;陈奥辉;魏伟;孙予罕 -专利权人：中国科学院上海高等研究院
申请日： 2022-06-24 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： C25B13/02 文献下载
摘要：本发明提供一种电化学反应池隔膜及其应用，隔膜设置于电化学反应池中，并将电化学反应池分隔为阴极腔室和阳极腔室，阴极腔室内注入有阴极电解液，阳极腔室内注入有阳极电解液；隔膜包括多孔渗透段和隔气段，多孔渗透段完全浸入电解液中，用于实现阴极腔室和阳极腔室之间的离子高效传质；隔气段部分浸入电解液中，用于实现阴极腔室和阳极腔室间的气体阻隔。本发明通过改变隔膜主体的孔径大小，改变隔气膜的涂层厚度，使隔膜用于不同场景的电化学反应池体系中，能够低成本、高效率的满足电化学反应池长周期、大规模运行，确保阴极腔室和阳极腔室间的气体阻隔，以获得高纯度的化学品或燃料
一种电化学反应隔膜及其应用

[发明专利]微波高温化学反应系统-CN201210570869.0无效
发明人：李解;李保卫;马胜梅;韩继铖;韩腾飞 -专利权人：内蒙古科技大学
申请日： 2012-12-26 - 公布日： 2013-04-10 - 主分类号： B01J19/12 文献下载
摘要：本发明涉及一种微波高温化学反应系统，属于仪器仪表领域。本发明微波炉腔内设有长颈宽口瓶，瓶口的密封橡胶塞开三个孔，插有入气管、热电偶和出气管。热电偶、入气管（一端连接气体发生装置）均插入长颈宽口瓶中物料内，出气管一端置于长颈宽口瓶内的物料上方，另一端连接气体回收装置。热电偶、电子天平都与可编程控制器（PLC）相连。本发明能实现功率可调、温度设定、自动采集时间、温度和质量变化数据，是一种集气体发生、酸碱化学反应高温加热、气体回收于一体的化学反应系统。本发明用于固、液、气态各种物质在微波加热条件下的反应动力学研究，也用于矿物有价元素浸出、目标物质制备，是一种环保、高效的化学反应系统。
微波高温化学反应系统

[发明专利]化学反应器-CN201980081539.5在审
发明人： J·欧普德贝克;B·克莱尔博特;W·德马尔斯彻;P·雅各布 -专利权人：制药流体股份有限公司
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： B01J19/00 文献下载
摘要：本发明涉及实现在基板上的化学反应器。化学反应器包括用于在化学反应器的使用期间输送流体和/或气体的多个导管，其中导管可选地包括支柱结构，以及连接在多个导管中的两个导管之间的至少一个连接导管以用于将流体和/或气体从一个导管输送到另一个导管。
化学反应器

[发明专利]一种冷启动方法、系统、电子设备及存储介质-CN201911060850.X有效
发明人：张擘;齐洪峰;梁瑜;孙帮成;李明高 -专利权人：中车工业研究院有限公司
申请日： 2019-11-01 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： H01M8/04223 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种冷启动方法、系统、电子设备及存储介质，所述方法包括：当冷启动控制器接收到冷启动指令时，由空气增压装置控制器控制空气增压装置对空气进行压缩处理；空气增压装置将压缩处理后的热空气，输送至氢氧电化学反应装置，以通过热空气对氢氧电化学反应装置进行升温处理；冷启动控制器确定对空气进行压缩处理产生的空气压缩热量，及对氢氧电化学反应装置进行冷启动所需的启动热量，并判断空气压缩热量是否大于或等于启动热量；若空气压缩热量大于或等于启动热量，气体输送装置则向氢氧电化学反应装置中通入氢气，以使氢氧电化学反应装置进行电化学反应。采用本发明可以提高氢氧电化学反应装置的工作效率。
一种冷启动方法系统电子设备存储介质

[发明专利]电化学反应装置和有价物质制造系统-CN202010126692.X在审
发明人：北川良太;小藤勇介;元茂朝日;山际正和;田村淳;工藤由纪;小野昭彦;御子柴智 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2020-02-28 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： C25B1/23 文献下载
摘要：本发明涉及电化学反应装置和有价物质制造系统。提供抑制生成气体中的CO2气体浓度的变动、提高对于变动性电源等的鲁棒性的电化学反应装置。实施方式的电化学反应装置(1)具备：电化学反应单元(8)，其具有用于容纳二氧化碳的第一容纳部(2)、用于容纳包含水的电解液或水蒸气的第二容纳部(3)、在第一容纳部(2)与第二容纳部(3)之间设置的隔膜(4)、配置于第一容纳部(2)的还原电极(6)、和配置于第二容纳部(3)的氧化电极(7)；检测电化学反应单元(8)的反应量的检测部(10)；调节供给至第一容纳部(2)的二氧化碳的量的调节部(11)；和基于检测部
电化学反应装置物质制造系统