专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种光脉冲增频器-CN201410008657.2有效
  • 陈檬;龙明亮;李港 - 北京工业大学
  • 2014-01-08 - 2014-05-28 - H01S3/10
  • 本发明公开了一种光脉冲增频器,包括光线准直装置、光隔离器、主、多个全反和多个次,每个次的入射光反射方向上均设有全反;多个次形成第一和第二,每组分中的多个次呈串接设置;入射光经入射光进口分为两光,其中一光透过主依次进入第一中的各个次,另一光经主反射后进入第二中的各次,经所有次反射后的光经全反全反射后依次由出射光脉冲出口输出
  • 一种脉冲增频器
  • [发明专利]一种扫描光学系统及激光应用终端-CN202210671032.9有效
  • 种洪涛;刘琳;刘兴胜 - 西安炬光科技股份有限公司
  • 2022-06-15 - 2022-09-16 - G02B27/09
  • 本申请提供一种扫描光学系统及激光应用终端,涉及激光技术领域,扫描光学系统包括整形模组和扫描整形模组包括沿光束的主光轴依次设置的整形,以及在至少一个的反射光方向设置的反射,整形包括快轴整形和慢轴整形与光束的主光轴呈第一预设夹角设置,反射平行且出光面的间隔相等,以使经的分光束沿快轴方向平行出射为多个等间隔的光斑,扫描受驱沿光轴方向往复运动以将整形模组的分光束扫描出射为扫描光斑整形模组能够实现较为稳定的等强度光出射,从而使得扫描光学系统和激光应用终端具有较佳的产品性能,工作稳定性和使用安全性较佳。
  • 一种扫描光学系统激光应用终端
  • [发明专利]双通道横向剪切干涉仪-CN201110415587.9无效
  • 相里斌;付强;吕群波 - 中国科学院光电研究院
  • 2011-12-13 - 2012-06-27 - G01J9/02
  • 本发明公开了一种双通道横向剪切干涉仪,包括:两个膜和两反射,所述两个膜中心对称设置;所述两反射中心对称设置,所述两反射的中心对称点到每组反射中两个反射的臂的长度不相等,第一个膜将入射平行光分为透射和反射两路光束;每组反射中的两个反射的夹角为45度,所述两反射将从所述膜分出的透射和反射两路光束分别折转反射90度后,进入另一个膜;所述另一个膜将入射的两路光束分别透射和反射后,形成两个通道输出,该两个通道输出的为剪切量完全相等的两光。
  • 双通道横向剪切干涉仪
  • [发明专利]保持折反射光刻系统以无翻转(非镜面)像的器光学设计-CN200310118749.8无效
  • 哈里·体厄尔 - ASML控股股份有限公司
  • 2003-12-02 - 2004-06-16 - G03F7/20
  • 一种折反射系统,具有划板光学器,非球面反射,遮光板,折叠反射和半导体晶片光学。光通过分划板上的图案被器反射到非球面反射。后者将光向回反射通过分器到达折叠反射。折叠反射将光反射回器。器将光反射到半导体晶片光学。可将多个四之一波片设置在光学元件之间的光路中,以改变入射光的偏振。光在通过半导体晶片光学之前通过遮光板,遮光板可防止器中内反射产生的背景散射光进入半导体晶片光学。在另一实施例中,将一隔离板插入器中,以在划板光学光轴与半导体晶片光学光轴之间产生偏移。这可以减少从划板光学直接透过到达半导体晶片光学的光。
  • 保持反射光刻系统翻转非镜面分束器光学设计
  • [发明专利]划调节结构、多模式瞄准装置及其划调节方法-CN202210050633.8在审
  • 曹金秋;胡峰;凃劲超 - 合肥英睿系统技术有限公司
  • 2022-01-17 - 2022-04-08 - G02B23/00
  • 本申请实施例提供划调节结构、多模式瞄准装置及划调节方法,划调节结构包括沿可见光光轴依序设置的划板、合、转像以及可见光光轴以外的显示模块,所述合包括相对设置的第一入光面和第二入光面,分别朝向可见光信号入射方向和所述显示模块;目标视场内的可见光信号通过所述划板入射至所述合的第一入光面后,被透射至所述转像;所述显示模块上显示的信息以光信号的形式入射至所述合的所述第二入光面后,被反射至所述转像;所述划板、所述合、所述转像和所述显示模块相互连接形成可共同运动的整体,使得在划调节过程中实现整组调节。
  • 调节结构模式瞄准装置及其方法
  • [实用新型]光学模组及光学系统-CN202121578678.X有效
  • 蔡磊;刘兴胜 - 西安炬光科技股份有限公司
  • 2021-07-12 - 2022-02-25 - G02B27/09
  • 该光学模组包括光源、沿光源的光路传输方向依次设置的光波导和第一,光波导的横截面为多边形,第一包括间隔设置的第一和反射,光源发射的光束通过光波导整形后入射第一,第一的第一将入射的光束,其中,第一通过第一直接出射,第二经第一反射后由反射反射,以与第一平行出射。该光学模组及光学系统能够实现光斑形态的转变,且能够对转变后的光斑进行扩
  • 光学模组光学系统
  • [发明专利]高稳定性转干涉仪-CN201410284090.1有效
  • 相里斌;张文喜;谭政;方煜;周志盛;吕群波 - 中国科学院光电研究院
  • 2014-06-23 - 2014-11-19 - G01J3/45
  • 本发明公开了一种高稳定性转干涉仪,包括第一器、第二器、第一平面反射、第二平面反射、第三平面反射、倾斜反射以及能量收集:第一平面反射与第二器的膜平行设置并固定连接;第二平面反射与第三平面反射平行设置构成平行反射,平行反射固定连接转轴;平行反射与第二器固定连接;倾斜反射具有倾角,平行反射的出射光和第一平面反射出射光垂直入射倾斜反射;采用一对平行平面保证了入射光线和出射光线平行,平面的旋转保证了系统自稳定性和减少了探测时间
  • 稳定性干涉仪
  • [发明专利]高稳定性转干涉仪-CN201410284097.3有效
  • 相里斌;谭政;方煜;张文喜;吕群波;周志盛 - 中国科学院光电研究院
  • 2014-06-23 - 2014-09-10 - G01J3/45
  • 本发明公开了一种高稳定性转干涉仪,包括第一器、第二器、第一平面反射、第二平面反射、第三平面反射、连接机构以及倾斜反射:第一器的膜与第一平面反射平行;第二平面反射与第三平面反射平行设置构成平行反射,平行反射固定连接转轴;平行反射与连接机构固定设置,且第一器以及第一平面反射与连接机构固定设置;倾斜反射具有倾角,平行反射的出射光垂直入射倾斜反射。采用一对平行平面保证了入射光线和出射光线平行,第一平面反射和平面的旋转保证了系统自稳定性和减少了探测时间,系统结构简单,降低了加工装调难度和生产成本的。
  • 稳定性干涉仪
  • [发明专利]高稳定性转干涉仪-CN201410284248.5有效
  • 相里斌;谭政;方煜;张文喜;吕群波;周志盛;杜述松;张金刚 - 中国科学院光电研究院
  • 2014-06-23 - 2014-09-17 - G01J3/45
  • 本发明公开了一种高稳定性转干涉仪,包括第一器、第一平面反射、第二器、第二平面反射、倾斜反射以及能量收集,所述第一平面反射与所述第二平面反射平行设置构成平行反射,所述平行反射固定连接转轴;所述第二器的膜与所述平行反射平行,所述第二器固定设置在所述第一平面反射与所述第二平面反射之间;所述倾斜反射具有倾角。采用一对平行平面保证了入射光线和出射光线平行,平面的旋转保证了系统自稳定性和减少了探测时间,系统结构简单,降低了加工装调难度和生产成本的。
  • 稳定性干涉仪
  • [发明专利]一种新型干涉仪-CN202111533523.9在审
  • 张林 - 光子集成(温州)创新研究院
  • 2021-12-15 - 2022-03-25 - G01J9/02
  • 本发明公开了一种新型干涉仪,包括:光源与探测器相对设置在器两侧,光源用于发射入射光束,器用于将入射光束为反射光束与透射光束,反射设置在反射光束及透射光束的光路上、且位于器与垂直端反射之间,反射光束及透射光束垂直入射到垂直端反射上,垂直端反射用于将反射光束沿反射光束的光路原路反射回器,并将透射光束沿透射光束的光路原路反射回器,反射与转轴连接,转轴用于带动反射绕转轴摆动,以使经反射反射回器的反射光束和透射光束在器设置探测器一侧产生干涉光束;探测器用于接收干涉光束。
  • 一种新型干涉仪

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