专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]聚醚天冬氨酸酯及其制备方法-CN201410320622.2有效
  • 翟现明;赵景峰 - 山东一航新材料科技有限公司
  • 2014-07-04 - 2014-11-05 - C08G65/333
  • 本发明提供一种聚醚天冬氨酸酯的制备方法,所述方法包括下列步骤:a)将二元羧酸酯与二元胺反应,以获得在两端被二元羧酸酯封端的二元胺,在一端被二元羧酸酯封端的二元胺,或在两端被二元羧酸酯封端的二元胺和在一端被二元羧酸酯封端的二元胺的混合物;b)将聚醚多元醇、碳酸二酯和催化剂混合并加热,以获得被碳酸酯封端的聚醚;和c)将由步骤a)获得的产物与在步骤b)获得的所述被碳酸酯封端的聚醚混合并加热,以得到所述聚醚天冬氨酸酯。当将由此方法制备的天冬氨酸酯与芳香族多异氰酸酯反应时,可延长涂料的凝胶时间,同时,提高了涂料的延伸率和拉伸强度等物理性能。
  • 聚醚型聚天冬氨酸及其制备方法
  • [发明专利]聚醚液体薄膜和使用聚醚液体清洁掩模的方法-CN200410005900.1无效
  • K·库明斯 - ASML荷兰有限公司
  • 2004-01-14 - 2004-08-04 - G03F7/20
  • 一种用于光刻装置的构图装置,例如掩模,包括坯料层、在坯料层表面上的不透明材料层的带图案层;和覆盖所述表面的聚醚液体薄膜。一种构图装置的制造方法包括提供具有坯料层和在坯料层表面上的带有图案的不透明材料层的构图装置;在所述表面涂覆覆盖该表面的聚醚液体以形成全聚醚液体层;和去除至少部分聚醚液体层。一种用于光刻投影装置的构图装置的清洁方法,该构图装置包括坯料层和在坯料层表面上的带有图案的不透明材料层,该方法包括在坯料层表面涂覆覆盖表面的聚醚液体以形成全聚醚液体层;和去除至少部分聚醚液体层
  • 全氟聚醚液体薄膜使用清洁方法

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