专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]鼓锤和鼓脚踏板设备-CN201610859922.7有效
  • 重永文博;入佐真佑 - 雅马哈株式会社
  • 2016-09-28 - 2021-03-16 - G10D13/11
  • 但仍允许仅通过手动操作而不使用任何工具来快速且可靠地执行鼓锤的重量调整,且其包括:用于击打鼓的鼓锤头部;鼓锤杆,在其上安装鼓锤头部;保持构件,仅通过手动操作而不使用任何工具安装在鼓锤杆上,其方式是其相对于鼓锤杆轴向可移位;弹簧,通常将保持构件朝向鼓锤杆偏压;和配重构件,通过弹簧偏压力而被保持夹在保持构件和鼓锤头部之间。
  • 脚踏板设备
  • [发明专利]印刷机给纸装置-CN200810129699.6有效
  • 下川博道 - 小森公司
  • 2008-08-07 - 2009-02-11 - B65H3/08
  • 第一吸取装置包括:引导管嘴;吸取器,该吸取器被所述引导管嘴支撑从而可竖直移动,该吸取器在底部包括用于吸取纸张的吸孔;以及将所述吸取器偏压向所述引导管嘴末端的弹簧。吸取器包括封闭部分,当所述吸取器克服所述弹簧偏压力位于上限时,该部分封闭所述第二空气通路。
  • 印刷机装置
  • [发明专利]基座偏压调节装置和方法、半导体工艺设备-CN202110849800.0有效
  • 张超 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2021-07-27 - 2022-10-21 - C23C14/54
  • 本发明提供一种基座偏压调节装置和方法、半导体工艺设备,该装置包括正偏压调节单元、负偏压调节单元和抗干扰单元,其中,正偏压调节单元的第一端接地,正偏压调节单元的第二端与基座电连接,用于调节基座的偏压,且能够使基座产生正偏压;负偏压调节单元的第一端接地,负偏压调节单元的第二端与基座电连接,用于调节基座的偏压,且能够使基座产生负偏压;抗干扰单元连接在负偏压调节单元与基座之间的电路上,用于抑制正偏压调节单元与基座之间的电路中的电流流入负偏压调节单元与基座之间的电路中本发明提供的基座偏压调节装置和方法、半导体工艺设备的技术方案,可以满足不同工艺需求,从而扩大了工艺窗口。
  • 基座偏压调节装置方法半导体工艺设备
  • [发明专利]射频偏压调节方法、装置及等离子体刻蚀设备-CN201911057312.5有效
  • 赵晓丽 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2019-10-31 - 2022-05-27 - H01J37/248
  • 本发明提供一种射频偏压调节方法、装置及等离子体刻蚀设备,该方法包括以下步骤:S1,获取预先设置的最大射频偏压值和与之对应的上射频电源与偏压射频电源输出射频波形的初始的相位差;S2,使偏压射频电源基于最大射频偏压值和初始的相位差输出射频偏压;S3,使相位差增加第一预设调整量;S4,获取偏压射频电源的射频偏压值,将该射频偏压值与最大射频偏压值进行比较;若该射频偏压值大于最大射频偏压值,则进行步骤S5;若该射频偏压值等于最大射频偏压值,则进行步骤S6;S5,使最大偏压值等于该射频偏压值,返回步骤S3;S6,保持相位差不变。
  • 射频偏压调节方法装置等离子体刻蚀设备
  • [发明专利]具有可变弹簧力的顺应性齿轮组件-CN201380034374.9在审
  • B·J·墨菲;A·K·钱 - 卡特彼勒公司
  • 2013-06-26 - 2015-03-04 - F16H57/023
  • 齿圈(28)可转动地安装在轮毂子组件(30)上并限定齿圈旋转轴线,齿圈(28)被联接成与第二轮毂部件(52)一起在偏压位置与平移后的中间停止位置之间移动,在所述偏压位置齿圈旋转轴线与第一轴线同轴,在所述平移后的中间停止位置齿圈旋转轴线与第一轴线平行而不同轴弹簧部件(40)被联接在第一轮毂部件(42)和第二轮毂部件(52)之间,朝向偏压位置偏压第二轮毂部件(52),并提供随着第二轮毂部件(52)移向平移后的中间停止位置而增加的可变弹簧力。
  • 具有可变弹簧顺应性齿轮组件
  • [发明专利]一种用于深浅基坑中坑偏压问题的内支撑结构-CN202010551744.8在审
  • 章秀芝 - 章秀芝
  • 2020-06-17 - 2020-10-16 - E02D17/04
  • 本发明公开了一种用于深浅基坑中坑偏压问题的内支撑结构,包括底板、圆槽、压缩弹簧和工作台,所述底板下端的左右两侧开设有圆槽,所述底板的下端且靠近圆槽的两侧固定连接有压缩弹簧,所述压缩弹簧的上端固定连接有固定腿,所述固定腿的上端伸入压缩弹簧的内部并固定连接有弧形块。该深浅基坑中坑偏压问题的内支撑结构在使用时,通过固定块、转杆和活动腿等结构的配合使用,从而达到了方便移动的效果,通过圆槽、压缩弹簧和固定腿等结构的配合使用,从而达到了支撑稳定的效果,通过限位槽、活动杆和接触板等结构的配合使用
  • 一种用于深浅基坑偏压问题支撑结构

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