|
钻瓜专利网为您找到相关结果 9262760个,建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]污垢抑制组合物及其制备和使用方法-CN201580037698.7有效
-
A.K.帕特;P.K.潘迪;F.H.丁瓦拉
-
戴弗西公司
-
2015-06-24
-
2020-08-18
-
C02F5/10
- 提供污垢抑制组合物,其包含:(a)具有约3000‑约6000的平均分子量的第一丙烯酸聚合物;(b)具有约6000‑约10000的平均分子量的第二丙烯酸聚合物;(c)氨基羧酸,选自甲基甘氨酸二乙酸(MGDA)、谷氨酸二乙酸(GLDA)、二亚乙基三胺五乙酸(DTPA)、羟乙基乙二胺三乙酸(HEDTA)、乙二胺四乙酸(EDTA),及其组合;和(d)膦酸,选自1‑羟基乙烷1,1‑二膦酸(HEDP)、氨基三(亚甲基膦酸)(ATMP)、乙二胺四(亚甲基膦酸)(EDTMP)、四亚甲基二胺四(亚甲基膦酸)(TDTMP)、六亚甲基二胺四(亚甲基膦酸)(HDTMP)、二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸)(DTPMP),及其组合。
- 污垢抑制组合及其制备使用方法
- [发明专利]蚀刻液-CN201880091665.4有效
-
山田洋三;后藤敏之
-
三菱瓦斯化学株式会社
-
2018-03-26
-
2022-03-29
-
C23F1/18
- 本发明的蚀刻液的特征在于,其含有:羟基乙烷二膦酸(A)、膦酸(B)、过氧化氢(C)、硝酸(D)、氟化合物(E)、唑(F)及碱(G),前述膦酸(B)含有选自由二亚乙基三胺五亚甲基膦酸、N,N,N’,N’‑乙二胺四亚甲基膦酸及氨基三亚甲基膦酸组成的组中的1种以上,前述羟基乙烷二膦酸(A)的比例为0.01~0.1质量%的范围,前述膦酸(B)的比例为0.003~0.04质量%的范围。
- 蚀刻
|