专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种固体氨基三甲基或羟基乙基的制备工艺-CN200910032420.7有效
  • 顾青军;姚斌 - 常州姚氏同德化工有限公司
  • 2009-06-14 - 2009-12-09 - C07F9/38
  • 本发明涉及一种固体氨基三甲基或羟基乙基的制备工艺,尤其涉及一种高纯度的固体氨基三甲基或羟基乙基的制备工艺,具有以下三个步骤:a.结晶:将有效物质量含量68~85%的氨基三甲基或羟基乙基液体的温度控制在30~90℃,向氨基三甲基或羟基乙基液体中加入冰晶微粒,析出晶体;b.固液分离:晶体析出停止后,将物料进行离心脱水,固体为氨基三甲基或羟基乙基;c.产品后处理:固体氨基三甲基或羟基乙基在60~120℃温度下烘干除去结晶水,固体包装,解决现有的氨基三甲基或羟基乙基的固体制备过程中引入杂质晶核的问题。
  • 一种固体氨基三亚甲基羟基乙基二膦酸制备工艺
  • [发明专利]污垢抑制组合物及其制备和使用方法-CN201580037698.7有效
  • A.K.帕特;P.K.潘迪;F.H.丁瓦拉 - 戴弗西公司
  • 2015-06-24 - 2020-08-18 - C02F5/10
  • 提供污垢抑制组合物,其包含:(a)具有约3000‑约6000的平均分子量的第一丙烯聚合物;(b)具有约6000‑约10000的平均分子量的第丙烯聚合物;(c)氨基羧酸,选自甲基甘氨酸乙酸(MGDA)、谷氨酸乙酸(GLDA)、乙基三胺五乙酸(DTPA)、羟乙基乙胺三乙酸(HEDTA)、乙胺四乙酸(EDTA),及其组合;和(d),选自1‑羟基乙烷1,1‑(HEDP)、氨基三(甲基)(ATMP)、乙胺四(甲基)(EDTMP)、四甲基胺四(甲基)(TDTMP)、六甲基胺四(甲基)(HDTMP)、乙基三胺五(甲基)(DTPMP),及其组合。
  • 污垢抑制组合及其制备使用方法
  • [发明专利]蚀刻液-CN201880091665.4有效
  • 山田洋三;后藤敏之 - 三菱瓦斯化学株式会社
  • 2018-03-26 - 2022-03-29 - C23F1/18
  • 本发明的蚀刻液的特征在于,其含有:羟基乙烷(A)、(B)、过氧化氢(C)、硝酸(D)、氟化合物(E)、唑(F)及碱(G),前述(B)含有选自由乙基三胺五甲基、N,N,N’,N’‑乙胺四甲基及氨基三甲基组成的组中的1种以上,前述羟基乙烷(A)的比例为0.01~0.1质量%的范围,前述(B)的比例为0.003~0.04质量%的范围。
  • 蚀刻

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