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[实用新型]一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置-CN201821787595.X有效
发明人：丁蕾 -专利权人：成都东腾薄膜太阳能有限公司
申请日： 2018-10-31 - 公布日： 2019-06-25 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型属于HIT电池ITO导电薄膜清洗技术领域，本实用新型公开了一种清洗沉积在掩膜盖板表面的ITO薄膜的装置，包括酸洗腔室、喷淋腔室和风淋烘干腔室；风淋烘干腔室包括风淋腔室和烘干腔室；酸洗腔室、喷淋腔室、风淋腔室和烘干腔室依次连接；酸洗腔室上设有储酸装置；喷淋腔室上设有去离子水储存装置；风淋腔室上设有高压空气存储装置；烘干腔室上设有加热装置，器具依次通过酸洗腔室、喷淋腔室、风淋腔室和烘干腔室后除去ITO
腔室烘干腔室风淋喷淋腔酸洗本实用新型掩膜盖板表面沉积清洗储存装置储酸装置存储装置高压空气加热装置清洗技术去离子水物力成本依次连接备件脱膜需求量电池筛选

[实用新型]一种充电机散热系统及充电机-CN202022224311.X有效
发明人：徐威;穆晓鹏;付伟;杨帅岭;南洋;贾京州;王倩倩;张照杰 -专利权人：青岛特来电新能源科技有限公司
申请日： 2020-09-30 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： H02J7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种充电机散热系统和充电机，充电机散热系统包括箱体，箱体包括设置电气元件的下腔室和与下腔室相互独立的上腔室，下腔室内设有用于将气流由下腔室引入上腔室的引风装置，上腔室为空腔室，上腔室具有排气结构本实用新型提供的充电机散热系统中箱体为具有内腔的结构，箱体中设置有上腔室和下腔室，上腔室和下腔室相互独立，下腔室内部设置有引风装置，引风装置可以包括风扇或其他动力装置，以便将下腔室中的气体引入上腔室中。由于上腔室是空腔室，当引风装置将下腔室的气体引入到上腔室内时，相对空间较大，气流进入后能够实现降速，从而实现降噪。本申请提供的充电机散热系统能够实现充电机箱体的排气和降噪。
一种充电机散热系统

[实用新型]一种可连续出水的骑行水壶-CN202023320778.0有效
发明人：王峰 -专利权人：承德石油高等专科学校
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： A45F3/20 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种可连续出水的骑行水壶，壶本体内部包括上腔室以及下腔室，所述上腔室和所述下腔室之间设有隔板，所述壶本体内部靠近壶内壁的位置安装有弹力板，吸管穿过壶口到达所述下腔室的底部，所述吸管在所述上腔室内设有上腔室单向出水口，所述吸管在所述下腔室内设有下腔室单向出水口，所述壶本体内还设有上腔室单向进气管以及下腔室单向进气管，所述上腔室单向进气管的进气口设置在所述上腔室的上方，所述下腔室单向进气管的进气口设置在所述下腔室的上方
一种连续出水水壶

[发明专利]用于扫地机器人的集尘装置及扫地机器人-CN201910926274.6在审
发明人：阳恩贵;李来宾;潘海平;罗帅 -专利权人：拓浦精工智能制造(邵阳)有限公司
申请日： 2019-09-27 - 公布日： 2020-01-03 - 主分类号： A47L11/24 文献下载
摘要：用于扫地机器人的集尘装置及扫地机器人，包括集尘入口和集尘出口；其特征在于，集尘装置还包括相互连通并左、右布置的左腔室和右腔室，而左腔室包括相互连通并上、下布置的上腔室和下腔室，集尘入口连通右腔室，集尘出口连通上腔室，并且右腔室连通下腔室从而让气流从集尘入口进入到右腔室后，再依次流经下腔室、上腔室后从集尘出口排出；本发明的有益技术效果在于：首先，由于左腔室和右腔室左、右布置，而左腔室包括上腔室和下腔室，如此上腔室、下腔室和右腔室三个腔室并不需要按直线并排布置，从而可以降低它们的总体高度，也就有利于减少集尘装置在扫地机器人上所占用的高度空间，而且结构简单、便于制造。
右腔室上腔室下腔室连通左腔室扫地机器人集尘入口集尘装置集尘出口并排布置高度空间技术效果三个腔室排出占用制造

[实用新型]用于扫地机器人的集尘装置及扫地机器人-CN201921629502.5有效
发明人：阳恩贵;李来宾;潘海平;罗帅 -专利权人：拓浦精工智能制造（邵阳）有限公司
申请日： 2019-09-27 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： A47L11/24 文献下载
摘要：用于扫地机器人的集尘装置及扫地机器人，包括集尘入口和集尘出口；其特征在于，集尘装置还包括相互连通并左、右布置的左腔室和右腔室，而左腔室包括相互连通并上、下布置的上腔室和下腔室，集尘入口连通右腔室，集尘出口连通上腔室，并且右腔室连通下腔室从而让气流从集尘入口进入到右腔室后，再依次流经下腔室、上腔室后从集尘出口排出；本实用新型的有益技术效果在于：首先，由于左腔室和右腔室左、右布置，而左腔室包括上腔室和下腔室，如此上腔室、下腔室和右腔室三个腔室并不需要按直线并排布置，从而可以降低它们的总体高度，也就有利于减少集尘装置在扫地机器人上所占用的高度空间，而且结构简单、便于制造。
用于扫地机器人集尘装置

[实用新型]一种消毒预热室-CN202121488639.0有效
发明人：金利民 -专利权人：荣瑞灭菌技术（沭阳）有限公司
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： A61L2/06 文献下载
摘要：本申请涉及一种消毒预热室，包括上腔室、预热腔室、下腔室、上通孔和下通孔，所述的预热腔室位于所述的上腔室和下腔室之间，所述的上腔室和所述的预热腔室通过上通孔相连通，所述的预热腔室和所述的下腔室通过下通孔相连通所述的上通孔处为正压，所述的下通孔处为负压。还包括抽风装置，所述的预热腔室内还设有回流管，所述的回流管的一端和所述的下腔室相连通，另一端和所述的上腔室相连通，所述的抽风装置用以将下腔室内的气体抽取至上腔室。本申请具有对产品的预热效果较好优点。
一种消毒预热

[实用新型]一种热处理装置-CN202022001994.2有效
发明人：马兰 -专利权人：量伙半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2020-09-14 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： F27B17/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种热处理装置，包括第一加热腔室、第二加热腔室、加热装置和固定装置，第一加热腔室包括上腔室和下腔室，加热装置包括上加热装置和下加热装置，上加热装置位于上腔室，下加热装置位于下腔室；第二加热腔室位于上腔室和下腔室之间；上腔室和下腔室的侧壁分别设有至少一组固定孔，加热装置设置于固定孔中，加热装置的末端从固定孔中伸出，并延伸至固定装置的外部；固定装置连接于第一加热腔室的外壁，用于将加热装置固定在固定孔内。
一种热处理装置

[实用新型]一种宝石单晶片的生长设备-CN201020599015.1无效
发明人：梁志安 -专利权人：鸿福晶体科技(安徽)有限公司
申请日： 2010-11-08 - 公布日： 2011-06-01 - 主分类号： C30B15/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种宝石单晶片的生长设备，包括底座、下腔室、上腔室，底座上固定有下腔室，下腔室上侧安装有上腔室，上腔室与下腔室之间安装有阀门，下腔室、上腔室外壁上均安装有真空机，下腔室内安装有坩埚，上腔室的上方固定有伸入上腔室内的籽晶本实用新型通过对宝石单晶片的生长设备设有上下两个真空腔室，实现了蓝宝石拉晶片的连续生长，有效地缩短了生长周期，提高了生产率。
一种宝石晶片生长设备

[发明专利]一种双层冰塞夹套-CN201911042451.0在审
发明人：陈建栋;徐华;邱晓波;袁丽丽 -专利权人：无锡纽思铁科能源科技有限公司
申请日： 2019-10-30 - 公布日： 2020-02-04 - 主分类号： F16L59/02 文献下载
摘要：该双层冰塞夹套包括上腔室和下腔室，所述上腔室和所述下腔室均为圆弧形，且沿水平面上下对称；所述上腔室两开口端均固定连接有上压板，所述下腔室两开口端均固定连接有下压板，所述上腔室和所述下腔室通过所述上压板和所述下压板上若干个螺栓孔固定连接；所述上腔室和所述下腔室的圆弧顶端均设有加注接头，用于上下同时加注液氮；所述上腔室上还设有若干个泄压阀，用于排出残留空气，保证所述上腔室和所述下腔室内充满液氮；所述上腔室和所述下腔室均为双层结构，且在封闭腔室内均填充有保温材料
上腔室下腔室液氮开口端上压板下压板夹套加注室内保温材料保温夹套残留空气经济成本上下对称双层结构圆弧顶端封闭腔螺栓孔泄压阀圆弧形冷气排出外泄下腔填充节约保证

[发明专利]用于处理腔室的腔室部件和制造制品的方法-CN201811100401.9在审
发明人： J·Y·孙;B·P·卡农戈;V·菲鲁兹多尔;Y·张 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-07-15 - 公布日： 2019-02-05 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及用于处理腔室的腔室部件和制造制品的方法。一种制造制品的方法包括提供用于蚀刻反应器的环。
制造制品等离子体稀土氧化物处理腔室腔室部件保护层平均表面粗糙度离子辅助沉积蚀刻反应器沉积

[发明专利]多腔室结构元件和多腔室结构元件制造方法-CN202080096821.3在审
发明人：奥斯卡·齐塔 -专利权人：学院式有限责任公司
申请日： 2020-12-15 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： B21D26/021 文献下载
摘要：本发明的目的是一种多腔室结构元件制造方法，为了形成具有腔室型材(1)(这些腔室型材从由这些腔室型材(1)的连接限定的中心径向延伸)的多腔室结构元件，该多腔室结构元件制造方法包括以下步骤：提供至少三个腔室型材预制件(2)，其中，每个腔室型材预制件(2)包括两个壁(3)，这两个壁由金属材料板制成并相对于彼此布置在基本上平行的平面内，在这两个壁之间留有间隙，其中，独立的壁(3)的边缘会聚，并且其中，阀芯(6)布置在至少一个壁(3)上；用密封件(5)密封腔室型材预制件(2)中的每一个的未连接的壁(3)边缘，以用于形成腔室型材预制件(2)的封闭的、气密性的、空的内部空间；将受压流体通过该阀芯(6)引入到腔室型材预制件(2)的内部空间内以用于形成变形的腔室型材(1)；将至少三个腔室型材预制件(2)或腔室型材(1)在腔室型材预制件(2)或腔室型材(1)的对应内边缘的区域中相对于连接轴线(4)在近侧沿着这些内边缘的至少一部分连接。本发明的目的还为一种多腔室结构元件。
多腔室结构元件制造方法

[发明专利]沉积腔室及具有该沉积腔室的薄膜沉积设备-CN202310552146.6在审
发明人：杜树春 -专利权人：无锡金源半导体科技有限公司
申请日： 2023-05-16 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明涉及薄膜沉积技术领域，公开了沉积腔室及具有该沉积腔室的薄膜沉积设备，包括：反应腔体、过渡板和稳流机构，反应腔体内设有腔室，腔室的底部设有排气孔，腔室的底部适于安装加热盘。过渡板靠近腔室的底部设置，且过渡板与腔室底部之间留有第一流通腔，过渡板上开设有多个通孔，且通孔与第一流通腔连通。稳流机构设置在腔室内，稳流机构与过渡板之间形成第二流通腔，第二流通腔经通孔与第一流通腔连通，稳流机构上表面环形均布设有多个稳流孔，腔室与第二流通腔经稳流孔连通。
沉积具有薄膜设备

[发明专利]反应腔室以及利用该反应腔室的晶片加工方法-CN201410293061.1有效
发明人：林志明 -专利权人：上海和辉光电有限公司
申请日： 2014-06-25 - 公布日： 2017-02-15 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种反应腔室以及其内衬结构，反应腔室的内衬结构包括一腔室；一晶片保持器，水平设置于该腔室内，该晶片保持器的边缘与该腔室的侧壁之间具有间隙，该晶片保持器的下侧与该腔室的下壁以及侧壁共同构成该腔室的下腔部；至少一可弯曲内衬，设置于该下腔部的该下壁和该侧壁上；其中，该下腔部的该侧壁和该下壁均设置有导引槽；该可弯曲内衬能够自该间隙沿该侧壁的该导引槽进入该下腔部，随该下腔部的侧壁以及下壁之间的弯折处而弯曲，并由该下壁的导引槽所导引，以设置于该下腔部的侧壁以及下壁。
反应以及利用晶片加工方法

[发明专利]腔室装置和具有该腔室装置的基片处理设备-CN201110267850.4有效
发明人：杨盟 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2011-09-08 - 公布日： 2013-03-27 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种腔室装置，包括：限定有腔室的腔室本体；气体分布板，所述气体分布板设在腔室内以将腔室分割为上腔室和下腔室，上腔室具有进气口且下腔室具有出气口，气体分布板上设有将上腔室和下腔室连通的多个分配孔；和分布板衬板，所述分布板衬板设在腔室内且位于气体分布板下面，分布板衬板上设有多个通孔，分布板衬板的下表面上设有由第一半导体材料制成的第一覆盖层。根据本发明实施例的腔室装置，在用于化学气相沉积时，在分布板内衬上沉积的薄膜致密性和结合力都较好，薄膜不易崩落，因而不易引起颗粒污染，大大增加了维护周期。本发明还公开了一种具有上述腔室装置的基片处理设备。
装置具有处理设备

[发明专利]反应腔室及设置有该反应腔室的MOCVD设备-CN201310231995.8有效
发明人：袁福顺 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2013-06-09 - 公布日： 2017-03-22 - 主分类号： C30B25/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种反应腔室及设置有该反应腔室的MOCVD设备，涉及半导体设备制造领域，可提高基片放置区域的温度均匀性，从而获得更佳工艺效果，而且可以降低能耗，从而降低生产成本。本发明所述反应腔室内，贴近腔壁设置绝热壁，真空系统和冷却气体系统，其中所述绝热壁的上下两端分别通过上法兰和下法兰固定于反应腔室内，所述绝热壁包括内壁和外壁，所述内壁和外壁之间形成有一密封间隙；所述密封间隙分别与所述真空系统和所述冷却气体系统相连接
反应设置 mocvd 设备