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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]反应腔室的下电极机构及反应腔室-CN201710464985.7有效
发明人：黄亚辉;韦刚;李一成;茅兴飞 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2017-06-19 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供的反应腔室的下电极机构及反应腔室，其包括用于承载被加工工件的基座，以及设置在基座下方的下电极腔，该下电极腔包括相互隔离的电磁屏蔽空间和非电磁屏蔽空间，二者分别通过贯穿下电极腔的腔体与反应腔室的侧壁的第一引入通道和第二引入通道与外界连通本发明提供的下电极机构，其不仅可以避免因射频干扰导致的电场均匀性受到影响，而且还可以减少射频泄漏。
反应电极机构

[发明专利]反应腔室的下电极机构及反应腔室-CN201710465809.5有效
发明人：黄亚辉;李一成;韦刚;高志民 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2017-06-19 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔室的下电极机构及反应腔室，其包括用于承载被加工工件的基座以及采用绝缘材料制作的转接盘，该转接盘设置在基座的底部，且在转接盘中设置有多条走线通道，多条走线通道的输入端汇聚至转接盘的底面中心位置处本发明提供的反应腔室的下电极机构，其不仅可以提高不同功能的导电部件的走线一致性，从而可以提高不同腔室中的基座对地电容的一致性，而且还可以避免生成偏斜的电磁场，从而可以提高工艺均匀性。
反应电极机构

[实用新型]反应腔室的下电极机构及反应腔室-CN201720712788.8有效
发明人：黄亚辉;韦刚;李一成;茅兴飞 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2017-06-19 - 公布日： 2018-03-06 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型提供的反应腔室的下电极机构及反应腔室，其包括用于承载被加工工件的基座，以及设置在基座下方的下电极腔，该下电极腔包括相互隔离的电磁屏蔽空间和非电磁屏蔽空间，二者分别通过贯穿下电极腔的腔体与反应腔室的侧壁的第一引入通道和第二引入通道与外界连通本实用新型提供的下电极机构，其不仅可以避免因射频干扰导致的电场均匀性受到影响，而且还可以减少射频泄漏。
反应电极机构

[发明专利]下电极机构及反应腔室-CN201710749263.6在审
发明人：赵晋荣;简师节 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2017-08-28 - 公布日： 2018-01-19 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种下电极机构及反应腔室，其包括基座，在基座与腔室底壁之间设置有绝缘环，以在基座的底面的边缘区域与腔室底壁之间形成等效电容，该等效电容由至少两种不同介质填充形成的平行板电容并联而成。本发明提供的下电极机构，可以实现对下电极机构对地电容的调节，从而可以使型号相同的工艺设备的一致性满足要求。
电极机构反应

[发明专利]下电极结构及反应腔室-CN201811539932.8有效
发明人：崔咏琴 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-12-17 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本申请公开了一种下电极结构，包括：底座；绝缘环，所述绝缘环放置于所述底座之上，且二者之间存在间隙；隔热环，所述隔热环完全嵌入在所述底座内；保护环，所述保护环位于所述底座与所述绝缘环之间的间隙内，且环绕在所述隔热环的外侧保护环将隔热环与反应腔室隔断，从而能保护隔热环，使隔热环不会因接触到外部环境中的活性粒子而被刻蚀，提高了隔热环的使用寿命。
电极结构反应

[发明专利]下电极装置及反应腔室-CN201810909820.0有效
发明人：苏振宁 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-08-10 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种下电极装置及反应腔室，包括电极板，电极板包括多个子极板，通过向多个子极板加载不同的偏压功率，以调整与多个子极板对应的衬底的多个区域的刻蚀均匀性。本发明提供的下电极装置在满足刻蚀均匀性要求的同时，还能够适用于不同的工艺需求。
电极装置反应

[发明专利]下电极组件及工艺腔室-CN202010614772.X有效
发明人：王福来 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2020-06-30 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明公开一种下电极组件及工艺腔室，该下电极组件包括承载盘和设置于承载盘的中心区域的转盘，转盘的周向设有叉指，转盘能够相对于承载盘转动和带动叉指升降，其中：转盘包括上下叠置的压盘和固定盘，以及设置于压盘和固定盘之间的至少一个高度调节组件
电极组件工艺

[实用新型]下电极机构及反应腔室-CN201721082276.4有效
发明人：赵晋荣;简师节 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2017-08-28 - 公布日： 2018-06-26 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型提供一种下电极机构及反应腔室，其包括基座，在基座与腔室底壁之间设置有绝缘环，以在基座的底面的边缘区域与腔室底壁之间形成等效电容，该等效电容由至少两种不同介质填充形成的平行板电容并联而成。本实用新型提供的下电极机构，可以实现对下电极机构对地电容的调节，从而可以使型号相同的工艺设备的一致性满足要求。
下电极机构本实用新型等效电容反应腔室腔室底壁平行板电容边缘区域对地电容工艺设备介质填充绝缘环并联

[发明专利]腔室的内衬和腔室-CN201710357147.X有效
发明人：张军 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2017-05-19 - 公布日： 2021-03-02 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明属于半导体加工技术领域，具体涉及一种腔室的内衬和腔室。该腔室的内衬包括抽气内衬和均流内衬，所述均流内衬环绕设置于所述抽气内衬的内侧，所述均流内衬至少包括本体和隔离部，所述隔离部上开设有至少两个孔洞，以将所述均流内衬与所述抽气内衬之间的间隙隔离为连通的进气区域与出气区域；所述腔室内的气体经所述进气区域进入所述孔洞进行均流后，进一步通过所述抽气区域连通的排气口排出至所述抽气内衬的外部。该腔室的内衬，实现了对出气口与进气口之间的空间区域的划分，实现了工艺气体及副产物经过匀流后被真空抽走，实现了气体分布的均匀性。
内衬

[发明专利]腔室组件及反应腔室-CN201810457537.9有效
发明人：师帅涛;丁安邦;陈鹏;史小平;李春雷;兰云峰 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种腔室组件及反应腔室，该腔室组件包括：电极板，其与射频源电连接，且在电极板上设置有进气口；匀流部件，其采用绝缘材料制作，且与电极板共同构成匀流空间，进气口与匀流空间连通，并且在匀流部件上设置有多个出气口，出气口分别与匀流空间和反应腔室连通。本发明提供的腔室组件，其避免产生空心阴极放电，从而可以提高等离子体的稳定性。
组件反应

[发明专利]腔室组件及反应腔室-CN201811511088.8有效
发明人：王帅伟;兰云峰;王勇飞 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-12-11 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种腔室组件，包括腔体、腔室盖，其特征在于，还包括铰接模块，所述铰接模块设置在所述腔体与所述腔室盖之间，用于实现所述腔室盖的开合，且在所述铰接模块内设有气体通路，所述气体通路用于将外部气源提供的工艺气体经所述腔体和所述腔室盖通入所述腔体的内部即使腔室盖处于开启状态，气体通路仍然处于封闭状态，而不会暴露在大气环境中，从而避免了在开启腔室盖，以取放衬底或者维护腔室时，因人为操作导致的颗粒掉落进气体通路，进而可以保证腔室的洁净度，降低薄膜的颗粒缺陷
组件反应

[发明专利]腔室-CN201611061883.2在审
发明人：杨敬山;郭浩 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2016-11-28 - 公布日： 2018-06-05 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：本发明提供一种腔室，包括用于承载被加工工件的承载件，以及设置在其上方的加热装置，该加热装置用于朝向被加工工件辐射热量，加热装置包括：安装板，设置在承载件的上方；热源，设置在安装板的下方，且沿安装板的周向间隔分布本发明提供的腔室，其可以满足对多种尺寸的被加工工件的加热均匀性的要求。
安装板被加工工件加热装置热源调节组件承载件腔室加热均匀性辐射热量径向移动周向间隔种腔室承载

[发明专利]一种下电极和反应腔室-CN201510872794.5有效
发明人：常楷;郑友山 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2015-12-02 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种下电极和反应腔室，下电极包括静电卡盘和设置于静电卡盘下方的下电极接口盘，下电极接口盘用于安装与静电卡盘连接的元件接口，下电极接口盘包括下电极接口盘本体、下电极接口盘上设置的容纳部，下电极接口盘还包括与下电极接口盘的介电常数不同的局部介电常数调整块，容纳部用于容纳局部介电常数调整块，通过在容纳部内选择性容纳局部介电常数调整块来调整下电极接口盘的介电常数。本发明的下电极的接口盘的局部介电常数能够在一定范围内进行调整，从而改善下电极接口盘的介电常数分布，通过调整下电极接口盘的局部电容，可以调节下电极接口盘的局部射频强度，从而调节局部刻蚀或沉积速率，改善和提高晶片刻蚀或沉积时的均匀性
一种电极反应

[发明专利]叉指结构、下电极装置和工艺腔室-CN201810333256.2有效
发明人：张鹏;王福来 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-04-13 - 公布日： 2021-09-17 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明公开了一种叉指结构、下电极装置和工艺腔室。叉指结构包括第一叉指件，其沿着工件的第一边缘区域延伸，并形成有允许取件机构通过的避让开口，所述第一叉指件用于支撑所述工件的第一边缘区域。
结构电极装置工艺

[发明专利]叉指结构、下电极装置和工艺腔室-CN201810333272.1有效
发明人：王福来;张鹏 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-04-13 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明公开了一种叉指结构、下电极装置和工艺腔室。
结构电极装置工艺

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