专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种多晶铸锭熔料及排杂工艺-CN201410041954.7有效
  • 周建华 - 西安华晶电子技术股份有限公司
  • 2014-01-28 - 2014-04-23 - C30B11/00
  • 本发明公开了一种多晶铸锭熔料及排杂工艺,包括步骤:一、预热:采用铸锭炉对装于坩埚内的料预热,并将铸锭炉加热温度逐步提升至T1;预热时间为6~10h,T1=1165~1185℃;二、熔化,熔化温度为T1~T5;T5=1540~1560℃;熔化过程中,向铸锭炉内充入惰性气体并将炉内气压保持在Q1,Q1=550~650mbar;、排杂,过程如下:第11步、降压:将铸锭炉气压由Q1降至Q2,降压时间为8~本发明方法步骤简单、设计合理、实现方便且易于掌握、使用效果好,能将炉内含碳气体及时排出,并提高多晶铸锭质量。
  • 一种多晶铸锭料及杂工
  • [发明专利]基于硅片刻穿的体加工工艺-CN201410141817.0有效
  • 涂良成;刘金全;范继;伍文杰;罗俊 - 华中科技大学
  • 2014-04-09 - 2014-07-02 - B81C1/00
  • 本发明公开了一种基于硅片刻穿的体加工工艺。包括如下步骤:在硅片表面制备图形化的光刻胶掩膜;在硅片背面镀金属膜;用真空油将金属膜粘贴在托片上,托片为表面有氧化层的硅片;用感应耦合等离子体干法刻蚀系统刻穿硅片,得到体微结构;感应耦合等离子体干法刻蚀采用分阶段刻蚀的方法,包括多个刻蚀阶段,每个刻蚀阶段均在感应耦合等离子体机内,通过钝化、轰击和刻蚀个步骤交替循环加工完成,随着刻蚀深度的增加,各刻蚀阶段中轰击步骤的轰击强度逐渐增强;去除光刻胶掩膜和金属膜,释放体微结构
  • 基于硅片加工工艺
  • [发明专利]一种建筑保温用新型环保阻燃聚氨酯材料-CN201510957684.9有效
  • 刘爱华 - 刘爱华
  • 2015-12-17 - 2018-10-02 - C08G18/66
  • 本发明涉及一种建筑保温用环保阻燃聚氨酯材料,其包括多异氰酸酯、聚醚多元醇、扩链剂、催化剂、发泡剂、阻燃剂,其中发泡剂为物理发泡剂和化学发泡剂,物理发泡剂为HFC‑245fa和HFC‑365mfc,化学发泡剂为水,阻燃剂包括有机阻燃剂和膨胀型阻燃剂,有机阻燃剂包括含有9,10‑二氢‑9‑氧杂‑10‑磷杂菲‑10‑氧化物的聚倍半氧烷,膨胀型阻燃剂为以多聚磷酸/二氨基双酚A/聚氰胺为原料的膨胀型阻燃剂。
  • 一种建筑保温新型环保阻燃聚氨酯材料
  • [发明专利]毫米波雪崩二极管用外延片的制造方法-CN201110293931.1有效
  • 马林宝;马利行;金龙 - 南京国盛电子有限公司
  • 2011-10-08 - 2012-01-25 - H01L31/18
  • 本发明涉及外延片,具体涉及毫米波雪崩二极管用外延片的制造方法,其所采用的技术方案为:毫米波雪崩二极管用外延片的制造方法的特征在于:首先用HCl来气腐衬底表面的杂质和金属原子并用大流量氢气吹除;其次是在高浓度的衬底表面生长第一层外延并对衬底片表面和边缘进行包封;然后生长第二层的N型外延层;最后生长第层的P型外延层;其具有的有益效果是:可以形成洁净的生长区;在N型、P型外延层生长前预通N型、P型掺杂剂可以获得稳定的外延层厚度且采用较低的生长温度和较低的淀积速率
  • 毫米波雪崩二极管用外延制造方法

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