[发明专利]热成像记录元件无效
| 申请号： | 98123299.X | 申请日： | 1998-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN1139844C | 公开（公告）日： | 2004-02-25 |
| 发明（设计）人： | 山田耕三郎;铃木博幸;星宫隆;佐佐木博友;河户孝二;江副利秀 | 申请（专利权）人： | 富士摄影胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03C1/498 | 分类号： | G03C1/498 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 甘玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种具有一个成像层的热成像记录元件包含有机银盐、还原剂、任选的光敏卤化银、和特殊的成核剂。该元件具有高Dmax、高灵敏度、令人满意的对比度、低的灰雾度，并且成像性质对显影温度的依赖性最低。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 记录 元件 | ||
【主权项】：
1.一种具有至少一个成像层的热成像记录元件，含有有机银盐、还原剂、和通式(A)和(B)中的至少一种化合物：![]()
其中，Z1和Z2中的每一个都是能与碳原子形成5-6元环结构的C、N、O或S；Y1和Y2中的每一个都是-C(＝O)-或-SO2-；X1和X2中的每一个都是羟基或其盐、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、巯基或其盐，烷基硫代、芳基硫代、杂环硫代、氨基、烷氨基、芳氨基、杂环氨基、酰氨基、磺酰胺或杂环基；并且Y3是氢或选自烷基、芳基、杂环基、氰基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、氨基、烷基氨基、芳基氨基、杂环基氨基、酰氨基、磺酰胺基、脲基、硫代脲基、酰亚胺基、烷氧基、芳氧基、烷基硫基、芳基硫基或杂环基硫基的取代基；其中，通式(A)和(B)中的至少一种化合物被加到成像层上，或加到载体的成像层一侧的非成像层上，并且相对于每摩尔银，通式(A)或(B)的化合物或两者的用量为1×10-6至1摩尔。
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