[发明专利]一种双面图形结构的制备方法及双面图形结构在审

专利信息
申请号: 202311056140.6 申请日: 2023-08-21
公开(公告)号: CN116931147A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 杨雨帆;陈振浩;李晓军 申请(专利权)人: 广纳四维(广东)光电科技有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 蒋黎丽
地址: 510670 广东省广州市黄埔*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明实施例公开了一种双面图形结构的制备方法及双面图形结构。双面图形结构的制备方法包括:提供衬底;衬底包括相对设置的第一表面和第二表面;在衬底的第一表面形成第一图形结构;在第一图形结构背离衬底的一侧制备保护层;在衬底的第二表面形成第二图形结构;去除保护层,形成双面图形结构。采用上述方法,可避免第一表面制备好的第一图形结构受到污染,同时避免第一图形结构出现变形和破损等问题,保证第一图形结构和第二图形结构的制备效果,进而提升双面图形结构的成品效果。
搜索关键词: 一种 双面 图形 结构 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
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