[发明专利]一种双面图形结构的制备方法及双面图形结构在审
申请号: | 202311056140.6 | 申请日: | 2023-08-21 |
公开(公告)号: | CN116931147A | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 杨雨帆;陈振浩;李晓军 | 申请(专利权)人: | 广纳四维(广东)光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 蒋黎丽 |
地址: | 510670 广东省广州市黄埔*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明实施例公开了一种双面图形结构的制备方法及双面图形结构。双面图形结构的制备方法包括:提供衬底;衬底包括相对设置的第一表面和第二表面;在衬底的第一表面形成第一图形结构;在第一图形结构背离衬底的一侧制备保护层;在衬底的第二表面形成第二图形结构;去除保护层,形成双面图形结构。采用上述方法,可避免第一表面制备好的第一图形结构受到污染,同时避免第一图形结构出现变形和破损等问题,保证第一图形结构和第二图形结构的制备效果,进而提升双面图形结构的成品效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 双面 图形 结构 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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