[发明专利]一种基于波前测量的晶体折射率非均匀性测量方法在审
| 申请号： | 202211344938.6 | 申请日： | 2022-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN115598091A | 公开（公告）日： | 2023-01-13 |
| 发明（设计）人： | 孙晓萌;张雪洁;朱健强;陶华;张强 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01N21/41 | 分类号： | G01N21/41;G01N21/01 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种基于波前测量的晶体折射率非均匀性测量方法，激光器发出的光经过起偏器、扩束器后由聚焦透镜聚焦，再经检偏器形成探测光，通过扫描衍射物体，在远场光斑探测器上记录衍射斑。将待测晶体紧贴放置在聚焦透镜前面，通过调整起偏器和检偏器的偏振方向并分别记录衍射斑，得到o光和e光以及背景光的相位分布。本发明将PIE相位恢复技术与偏振测量相结合，通过相位恢复，根据得到的o光和e光的相位，求出晶体e光折射率非均匀性测量结果，提升了测量的采样分辨率。该方法具有结构简单、环境适应性强、测量分辨率及精度高等优点，对所用透镜等元件精度要求低，尤其适用于大口径晶体的检测。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 测量 晶体 折射率 均匀 测量方法 | ||
【主权项】：
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