[发明专利]CMOS影像感应器防污染和防划伤的保护液及专用清洗液有效
| 申请号： | 202211291177.2 | 申请日： | 2022-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN115651474B | 公开（公告）日： | 2023-07-07 |
| 发明（设计）人： | 侯军;贺剑锋;褚雨露;张楠 | 申请（专利权）人： | 大连奥首科技有限公司 |
| 主分类号： | C09D135/08 | 分类号： | C09D135/08;C09D7/63;C09D9/00;H01L21/78 |
| 代理公司： | 北京至臻永信知识产权代理有限公司 11568 | 代理人： | 彭晓玲;张宝香 |
| 地址： | 116023 辽宁省大连市高新*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种能够防止晶圆上CMOS影像感应器受到污染和划伤的保护液、其制备方法、使用方法和专用于其的清洗液和清洗方法，所述保护液包含特定的非水溶性树脂和改性剂。该保护液通过包含特定限制的非水溶性树脂以及其它组分的相互作用，从而可以特别适用于其上具有CMOS影像感应器与其上的晶圆的切割保护，且所述清洗液具有优异的清洗性能，从而所述保护液和清洗液可应用到半导体加工领域中，具有广泛的应用前景和推广价值。 | ||
| 搜索关键词： | cmos 影像 感应器 污染 划伤 保护 专用 清洗 | ||
【主权项】：
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- CMOS影像感应器防污染和防划伤的保护液及专用清洗液-202211291177.2
- 侯军;贺剑锋;褚雨露;张楠 - 大连奥首科技有限公司
- 2022-10-21 - 2023-07-07 - C09D135/08
- 本发明提供了一种能够防止晶圆上CMOS影像感应器受到污染和划伤的保护液、其制备方法、使用方法和专用于其的清洗液和清洗方法，所述保护液包含特定的非水溶性树脂和改性剂。该保护液通过包含特定限制的非水溶性树脂以及其它组分的相互作用，从而可以特别适用于其上具有CMOS影像感应器与其上的晶圆的切割保护，且所述清洗液具有优异的清洗性能，从而所述保护液和清洗液可应用到半导体加工领域中，具有广泛的应用前景和推广价值。
- 专利分类
C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D135-00 基于有1个或多个不饱和脂族基化合物的均聚物或共聚物的涂料组合物，每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键，并且至少有1个是以羧基为终端，并在分子中至少含有另1个羧基，或它的盐、酐、酯、酰胺、酰亚胺或腈；基于
C09D135-02 .酯的均聚物或共聚物
C09D135-04 .腈的均聚物或共聚物
C09D135-06 .与乙烯基芳族单体的共聚物
C09D135-08 .与乙烯基醚的共聚物
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D135-00 基于有1个或多个不饱和脂族基化合物的均聚物或共聚物的涂料组合物，每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键，并且至少有1个是以羧基为终端，并在分子中至少含有另1个羧基，或它的盐、酐、酯、酰胺、酰亚胺或腈；基于
C09D135-02 .酯的均聚物或共聚物
C09D135-04 .腈的均聚物或共聚物
C09D135-06 .与乙烯基芳族单体的共聚物
C09D135-08 .与乙烯基醚的共聚物
