[发明专利]依次之迁电离源和方法在审
| 申请号： | 202211279383.1 | 申请日： | 2022-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN115497805A | 公开（公告）日： | 2022-12-20 |
| 发明（设计）人： | 宋浩;曹天明;方晓磊;尹伊君;杨继伟;俞晓峰 | 申请（专利权）人： | 杭州谱育科技发展有限公司 |
| 主分类号： | H01J49/08 | 分类号： | H01J49/08;H01J49/06;H01J49/04;H01J49/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 311305 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了依次之迁电离源和方法，所述依次之迁电离源包括第一组磁铁和第一电子源，第一电子源设置在第一组磁铁形成的第一磁场中；还包括：腔体具有离子出口，内部被多个隔离件分隔为依次连通的多级腔室，泵连通所述腔体内部；隔离件具有允许离子通过的通孔，多个隔离件上的通孔的排列方向与所述第一磁场方向间是锐角或直角；第一电子源设置在第一级腔室内；第二电子源设置在第二级腔室内，且处于第二组磁铁形成的第二磁场中，多个隔离件上的通孔的排列方向与第一磁场方向间是锐角或直角；离子传输装置设置在所述腔体内；从样品进口进入所述第一级腔室内的样品的速度方向和所述排列方向间的夹角是零或锐角。本发明具有电离效率高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 依次 电离 方法 | ||
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