[发明专利]一种基于VASP软件的二维InGaN材料的设计方法在审

专利信息
申请号: 202211196516.9 申请日: 2022-09-28
公开(公告)号: CN115631814A 公开(公告)日: 2023-01-20
发明(设计)人: 王文樑;江弘胜;李国强 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: G16C60/00 分类号: G16C60/00;G16C20/50;G16C20/90
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 陈文姬
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种基于VASP软件的二维InGaN材料的设计方法,包括以下步骤:(1)对块体InGaN材料的原子结构模型进行几何优化;(2)构建二维InGaN的原子结构模型:从几何优化后的块体InGaN材料中沿c面切出表面,沿c轴方向添加真空层构建晶胞;在二维InGaN材料的表面添加赝氢原子,氢原子成键方向垂直于c轴;(3)计算二维InGaN材料的能带结构:首先对二维InGaN材料的原子结构模型进行几何优化,接着通过单点能计算输出电荷分布情况,最后计算二维InGaN材料的能带结构,读取单点能计算输出的电荷分布。本发明解决了非层状二维材料设计中计算难收敛的问题,减少了材料设计的时间,提高了效率。
搜索关键词: 一种 基于 vasp 软件 二维 ingan 材料 设计 方法
【主权项】:
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