[实用新型]一种黑硅基紫外光电传感器有效

专利信息
申请号: 202122838548.1 申请日: 2021-11-18
公开(公告)号: CN216354238U 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 张晶茹 申请(专利权)人: 山西广维海事科技有限公司
主分类号: H01L31/0236 分类号: H01L31/0236;H01L31/028;H01L31/105
代理公司: 北京鼎德宝专利代理事务所(特殊普通合伙) 11823 代理人: 钟西飞
地址: 030032 山西省太原市山西综改示范区太原学府*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 实用新型涉及光电传感器领域,具体涉及一种黑硅基紫外光电传感器,包括硅衬底、黑硅结构、氧化铝薄膜、P型掺杂区、N型掺杂区、电极和欧姆接触区,所述硅衬底为N型高阻硅片,与所述P型掺杂区和N型掺杂区共同构成PIN型光电探测器结构,所述黑硅结构由纳米结构与烟囱状或蜂窝状的微米结构复合所得,设置在硅衬底的正面;所述氧化铝薄膜通过原子层沉积技术沉积在黑硅结构表面,所述电极分为Ti电极和Au电极,所述欧姆接触区设置在硅衬底正面,与黑硅结构的边缘接触以确保导通。本实用新型可以实现对近紫外波段的探测且具有高量子效率,将微米结构设置成烟囱状、蜂窝状,改变了硅材料的能带结构,制备的黑硅反射率明显减少。
搜索关键词: 一种 黑硅基 紫外 光电 传感器
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